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有机染料对酸性镀铜电沉积的影响
被引量:
4
1
作者
刘烈炜
吴曲勇
+1 位作者
卢波兰
杨志强
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第7期4-6,13,共4页
为了有效地研究添加剂对铜电沉积的影响,选择合成了有机染料酸性镀铜添加剂AQ,用旋转圆盘电极动电位扫描、交流阻抗和微分电容等方法研究其对铜离子电沉积过程的影响,得到了铜的电沉积机理。发现这种染料主要影响亚铜离子的放电还原过...
为了有效地研究添加剂对铜电沉积的影响,选择合成了有机染料酸性镀铜添加剂AQ,用旋转圆盘电极动电位扫描、交流阻抗和微分电容等方法研究其对铜离子电沉积过程的影响,得到了铜的电沉积机理。发现这种染料主要影响亚铜离子的放电还原过程,具体表现为染料与亚铜离子形成配位化合物[AQCu(Ⅰ)]吸附在电极表面,阻碍吸附铜原子在晶面扩散结晶的过程。原子力显微镜对镀层微观形貌观察表明,AQ是性能良好的酸性镀铜添加剂。
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关键词
电沉积铜
旋转圆盘电极
交流阻抗
微分电容
原子力显微镜
电极过程
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职称材料
题名
有机染料对酸性镀铜电沉积的影响
被引量:
4
1
作者
刘烈炜
吴曲勇
卢波兰
杨志强
机构
华中科技大学化学系
武汉材料保护研究所
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第7期4-6,13,共4页
文摘
为了有效地研究添加剂对铜电沉积的影响,选择合成了有机染料酸性镀铜添加剂AQ,用旋转圆盘电极动电位扫描、交流阻抗和微分电容等方法研究其对铜离子电沉积过程的影响,得到了铜的电沉积机理。发现这种染料主要影响亚铜离子的放电还原过程,具体表现为染料与亚铜离子形成配位化合物[AQCu(Ⅰ)]吸附在电极表面,阻碍吸附铜原子在晶面扩散结晶的过程。原子力显微镜对镀层微观形貌观察表明,AQ是性能良好的酸性镀铜添加剂。
关键词
电沉积铜
旋转圆盘电极
交流阻抗
微分电容
原子力显微镜
电极过程
Keywords
copper
elec
troplating
rotating disk
elec
trode
AC impedance
differential capacity
atomic force microscopy
elec trode process
分类号
TQ153.1 [化学工程—电化学工业]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
有机染料对酸性镀铜电沉积的影响
刘烈炜
吴曲勇
卢波兰
杨志强
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2004
4
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