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A CAD oriented quasi-analytical large-signal drain current model for 4H-SiC MESFETs 被引量:3
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作者 曹全君 张义门 +4 位作者 张玉明 吕红亮 王悦湖 常远程 汤晓燕 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第4期1097-1100,共4页
This paper reports that a 4H-SiC MESFET (Metal Semiconductor Field Effect Transistor) large signal drain current model based on physical expressions has been developed to be used in CAD tools. The form of drain curr... This paper reports that a 4H-SiC MESFET (Metal Semiconductor Field Effect Transistor) large signal drain current model based on physical expressions has been developed to be used in CAD tools. The form of drain current model is based on semi-empirical MESFET model, and all parameters in this model are determined by physical parameters of 4H-SiC MESFET. The verification of the present model embedded in CAD tools is made, which shows a good agreement with measured data of large signal DC I-V characteristics, PAE (power added efficiency), output power and gain. 展开更多
关键词 4H-SiC MESFET drain current model CAD large signal
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Improved power simulation of AlGaN/GaN HEMT at class-AB operation via an RF drain–source current correction method
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作者 林体元 庞磊 +1 位作者 袁婷婷 刘新宇 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第12期428-434,共7页
A new modified Angelov current–voltage characteristic model equation is proposed to improve the drain–source current(Ids) simulation of an Al Ga N/Ga N-based(gallium nitride) high electron mobility transistor(A... A new modified Angelov current–voltage characteristic model equation is proposed to improve the drain–source current(Ids) simulation of an Al Ga N/Ga N-based(gallium nitride) high electron mobility transistor(Al Ga N/Ga N-based HEMT) at high power operation. Since an accurate radio frequency(RF) current simulation is critical for a correct power simulation of the device, in this paper we propose a method of Al Ga N/Ga N high electron mobility transistor(HEMT)nonlinear large-signal model extraction with a supplemental modeling of RF drain–source current as a function of RF input power. The improved results of simulated output power, gain, and power added efficiency(PAE) at class-AB quiescent bias of Vgs =-3.5 V, Vds= 30 V with a frequency of 9.6 GHz are presented. 展开更多
关键词 AlGaN/GaN HEMT RF drain–source current RF dispersion effect power-added efficiency
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Performance enhancement of CMOS terahertz detector by drain current
3
作者 张行行 纪小丽 +3 位作者 廖轶明 彭静宇 朱晨昕 闫锋 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第9期491-495,共5页
In this paper, we study the effect of the drain current on terahertz detection for Si metal-oxide semiconductor fieldeffect transistors(MOSFETs) both theoretically and experimentally. The analytical model, which is ... In this paper, we study the effect of the drain current on terahertz detection for Si metal-oxide semiconductor fieldeffect transistors(MOSFETs) both theoretically and experimentally. The analytical model, which is based on the smallsignal equivalent circuit of MOSFETs, predicts the significant improvement of the voltage responsivity Rv with the bias current. The experiment on antennas integrated with MOSFETs agrees with the analytical model, but the Rv improvement is accompanied first by a decrease, then an increase of the low-noise equivalent power(NEP) with the applied current. We determine the tradeoff between the low-NEP and high-Rv for the current-biased detectors. As the best-case scenario, we obtained an improvement of about six times in Rv without the cost of a higher NEP. We conclude that the current supply scheme can provide high-quality signal amplification in practical CMOS terahertz detection. 展开更多
关键词 drain current CMOS terahertz detectors voltage responsivity noise equivalent power
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Temperature-Dependent Drain Current Characteristics and Low Frequency Noises in Indium Zinc Oxide Thin Fihn Transistors
4
作者 刘远 吴为敬 +3 位作者 强蕾 王磊 恩云飞 李斌 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第8期208-211,共4页
The I-V characteristics and low frequency noises for indium zinc oxide thin film transistor are measured between 250 K and 430 K. The experimental results show that drain currents are thermally activated following the... The I-V characteristics and low frequency noises for indium zinc oxide thin film transistor are measured between 250 K and 430 K. The experimental results show that drain currents are thermally activated following the Meyer Neldel rule, which can be explained by the multiple-trapping process. Moreover, the field effect electron mobility firstly increases, and then decreases with the increase of temperature, while the threshold voltage decreases with increasing the temperature. The activation energy and the density of localized gap states are extracted. A noticeable increase in the density of localized states is observed at the higher temperatures. 展开更多
关键词 TFT Temperature-Dependent drain current Characteristics and Low Frequency Noises in Indium Zinc Oxide Thin Fihn Transistors
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Anomalous Channel Length Dependence of Hot-Carrier-Induced Saturation Drain Current Degradation in n-Type MOSFETs
5
作者 张春伟 刘斯扬 +7 位作者 孙伟锋 周雷雷 张艺 苏巍 张爱军 刘玉伟 胡久利 何骁伟 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第8期193-195,共3页
The dependencies of hot-carrier-induced degradations on the effective channel length Lch,eff are investigated for n-type metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFETs). Our experiments find that, with d... The dependencies of hot-carrier-induced degradations on the effective channel length Lch,eff are investigated for n-type metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFETs). Our experiments find that, with decreasing Lch,eff, the saturation drain current (Iasat ) degradation is unexpectedly alleviated. The further study demonstrates that the anomalous Lch,eff dependence of Idsat degradation is induced by the increasing influence of the substrate current degradation on the lazar degradation with Lch,eff reducing. 展开更多
关键词 Anomalous Channel Length Dependence of Hot-Carrier-Induced Saturation drain current Degradation in n-Type MOSFETs
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稳定低压共源共栅电流镜工作状态的偏置电路
6
作者 陈依 黄丽芳 +1 位作者 李梓渠 李威 《微处理机》 2025年第6期61-64,共4页
研究提出了一种用于稳定低压共源共栅电流镜工作点的偏置电路。该电路的优势在于可精准设定共源管的漏源电压,使该管在工艺、电源电压、温度(统称PVT)扰动下保持在设计的工作区。基于0.18μm CMOS工艺的仿真显示,当电源电压在2.7~5.5 V... 研究提出了一种用于稳定低压共源共栅电流镜工作点的偏置电路。该电路的优势在于可精准设定共源管的漏源电压,使该管在工艺、电源电压、温度(统称PVT)扰动下保持在设计的工作区。基于0.18μm CMOS工艺的仿真显示,当电源电压在2.7~5.5 V、温度在-55~125℃,且工艺角覆盖典型(tt)、快(ff)、慢(ss)、快慢混合(fs)时,电流镜工作状态均保持稳定。 展开更多
关键词 低压共源共栅电流镜 偏置电路 漏源电压 工作状态
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具有低漏电和优异亚阈值特性的p-GaN/GaN/AlGaN增强型p型MOSHFET
7
作者 范继锋 王永强 +2 位作者 张艺 李巍 雷鹏 《半导体技术》 北大核心 2025年第3期241-247,共7页
为了实现GaN基互补逻辑电路,基于GaN的p型半导体器件逐渐引起广泛关注。制备了基于p-GaN/GaN/Al_(0.29)Ga_(0.71)N异质结构的p型金属氧化物异质结场效应晶体管(MOSHFET),该异质结构通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术生长在蓝宝石基... 为了实现GaN基互补逻辑电路,基于GaN的p型半导体器件逐渐引起广泛关注。制备了基于p-GaN/GaN/Al_(0.29)Ga_(0.71)N异质结构的p型金属氧化物异质结场效应晶体管(MOSHFET),该异质结构通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术生长在蓝宝石基底上。在p-GaN/GaN/Al_(0.29)Ga_(0.71)N异质结构中,二维空穴气(2DHG)面密度为1.3×10_(13)cm^(-2),且在温度降至80 K时保持不变。通过干法刻蚀减小GaN沟道厚度,使p型MOSHFET呈现增强型工作模式,并获得负的阈值电压(V_(th))。室温下,基于GaN(18 nm)/Al_(0.29)Ga_(0.71)N的增强型p型MOSHFET的V_(th)为-0.79 V,导通电流|I_(ON)|为2.41 mA/mm,关断态漏电流|I_(OFF)|为2.66 pA/mm,亚阈值摆幅(SS)为116 mV/dec。这种极低的|I_(OFF)|和SS值表明材料具有较高的外延质量。此外,在200℃下,该p型MOSHFET仍保持低于10 pA/mm的|I_(OFF)|,且V_(th)偏移较小(-0.3 V),展现出优异的高温工作能力。 展开更多
关键词 GaN 金属氧化物异质结场效应晶体管(MOSHFET) 二维空穴气(2DHG) 高温 增强型 亚阈值摆幅(SS) 关断态漏电流 阈值电压
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基于场效应管漏源电压反馈的固态开关短路保护策略优化研究
8
作者 陆玉芳 陈海峰 +1 位作者 蒋志军 刘榕鑫 《电子器件》 2025年第5期1102-1109,共8页
提出了一种基于场效应管漏源电压负反馈电路的短路限流控制方法。通过在栅极驱动电路中增加反馈电路将场效应管的漏源电压反馈至场效应管的栅极,减小栅源电压,动态调节场效应管的导通电阻,抑制固态开关在短路或大倍率过流工况下的回路电... 提出了一种基于场效应管漏源电压负反馈电路的短路限流控制方法。通过在栅极驱动电路中增加反馈电路将场效应管的漏源电压反馈至场效应管的栅极,减小栅源电压,动态调节场效应管的导通电阻,抑制固态开关在短路或大倍率过流工况下的回路电流;再通过优化控制策略,根据场效应管热量累积情况设定限流工作时间,实现短路限流保护控制。该控制策略可通过调节反馈系数控制,改变反馈电压的大小,实现对不同负载特性、不同短路电流及不同型号功率场效应管的适应性。最后通过电路仿真,研制新型固态功率控制器样机,进行短路限流保护及大倍率过流限流保护试验,验证方法的正确性。 展开更多
关键词 漏源电压 栅极驱动 负反馈电路 限流保护 固态功率控制器
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温度对SiC MOSFET电流和电压变化率影响分析 被引量:7
9
作者 廖兴林 李辉 +3 位作者 黄樟坚 王坤 胡姚刚 曾正 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第8期2368-2375,共8页
由于SiC MOSFET的半导体物理和器件内部参数会随着温度的变化而发生变化,导致温度变化也会影响SiC MOSFET的动态特性。该文以其漏极电流变化率dID/dt、漏源极电压变化率dVDS/dt这2个动态性能参数为例,重点从实验的角度分析其随温度变化... 由于SiC MOSFET的半导体物理和器件内部参数会随着温度的变化而发生变化,导致温度变化也会影响SiC MOSFET的动态特性。该文以其漏极电流变化率dID/dt、漏源极电压变化率dVDS/dt这2个动态性能参数为例,重点从实验的角度分析其随温度变化的规律。首先,搭建基于电感钳位双脉冲的SiC MOSFET动态特性测试电路,测试不同温度下漏极电流和漏源极电压,得到温度对其的影响规律;其次,基于器件物理方程建立SiC MOSFET漏极电流变化率dID/dt、漏源极电压变化率dVDS/dt的温度特性解析模型,且通过实验测试得到SiC MOSFET的阈值电压VTH、跨导gm的温度特性;最后,根据所建立的SiC MOSFET dID/dt、dVDS/dt温度特性解析模型及其VTH、gm的温度特性从理论上对实验所得结果进行定性解释。所得结果对SiC MOSFET器件选型、建立准确的器件模型及实际系统的设计具有指导意义。 展开更多
关键词 碳化硅 MOSFET 温度 漏极电流 漏源极电压
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InP基HEMTs器件16参数小信号模型(英文) 被引量:2
10
作者 钟英辉 李凯凯 +5 位作者 李梦珂 王文斌 孙树祥 李慧龙 丁鹏 金智 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期163-167,共5页
针对InAlAs/InGaAsInP基HEMTs提出了一种16参数小信号拓扑结构.拓扑结构中引入栅源电阻(R_(gs))表征短栅沟间距引起的栅泄漏电流效应.另外还引入输出跨导(gds)和漏延迟(τ_(ds))描述漏端电压对沟道电流的影响以及漏源电容(C_(ds))引起... 针对InAlAs/InGaAsInP基HEMTs提出了一种16参数小信号拓扑结构.拓扑结构中引入栅源电阻(R_(gs))表征短栅沟间距引起的栅泄漏电流效应.另外还引入输出跨导(gds)和漏延迟(τ_(ds))描述漏端电压对沟道电流的影响以及漏源电容(C_(ds))引起的相位变化,从而提高了S_(22)参数拟合精度.外围寄生参数通过open和short拓扑结构计算得出,本征部分利用去除外围寄生参数后的Y参数计算得出,最终模型参数值经过优化以达到最佳拟合状态而确定.结果表明,s参数和频率特性的仿真值与测试数据拟合程度很好,R_(gs)和τ_(ds)的引入降低了模型误差.准确合适的InP基HEMTs小信号模型对于高频电路设计非常重要. 展开更多
关键词 InP基高电子迁移率晶体管 小信号模型 栅泄漏电流 漏端延时
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钢质燃气管道动态直流杂散电流干扰的防护设计 被引量:3
11
作者 高佳伟 尹志彪 +2 位作者 邹健 王生平 杜艳霞 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2022年第9期79-83,98,共6页
某高压燃气管道受紧邻的直流轨道交通系统动态杂散电流干扰严重,管道阴极保护效果较差,排流电流需求量较大。采用数据记录仪进行长时间连续的通、断电电位监测,对管道的阴极保护的有效性和杂散电流干扰情况进行了评价,并对外加电流阴极... 某高压燃气管道受紧邻的直流轨道交通系统动态杂散电流干扰严重,管道阴极保护效果较差,排流电流需求量较大。采用数据记录仪进行长时间连续的通、断电电位监测,对管道的阴极保护的有效性和杂散电流干扰情况进行了评价,并对外加电流阴极保护排流的位置进行了优化设计。该方法可以作为钢质燃气管道动态直流杂散电流干扰的评价与防护的借鉴。 展开更多
关键词 阴极保护 动态杂散电流干扰 排流 馈电试验
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一种高精度曲率补偿带隙基准电压源设计 被引量:6
12
作者 陈睿 丁召 +1 位作者 杨发顺 鲁冬梅 《现代电子技术》 2014年第12期140-142,147,共4页
根据带隙基准电压源的原理,基于CSMC0.5μm工艺设计了一种高精度二阶曲率补偿带隙基准电压源。利用MOS管工作在亚闽值区时漏电流和栅极电压的指数关系,在高温段对温度特性曲线进行补偿。通过Spectre仿真,得到输出基准电压为2.5V的... 根据带隙基准电压源的原理,基于CSMC0.5μm工艺设计了一种高精度二阶曲率补偿带隙基准电压源。利用MOS管工作在亚闽值区时漏电流和栅极电压的指数关系,在高温段对温度特性曲线进行补偿。通过Spectre仿真,得到输出基准电压为2.5V的电压基准源。工作电压范围为3.35~7.94V,1kHz时电源抑制比为-71.73dB,温度从-25~125℃之间变化时温度系数为7.003×10^-6℃^-1。 展开更多
关键词 带隙基准电压源 曲率补偿 亚阈值区 漏极电流
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TF SOI PMOSFET的导电机理及漏电流的二维解析模型 被引量:1
13
作者 张海鹏 魏同立 宋安飞 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期18-22,共5页
从薄膜积累型 (TF AM) SOIPMOSFET的栅下硅膜物理状态随外加正栅压和漏压的变化出发 ,对其在 -5 .0 V背栅偏压下的导电机理进行了比较深入的理论分析 ,推导出了各种正栅压和漏压偏置条件下漏电流的二维解析模型 ,为高温 TF AM SOIPMOSFE... 从薄膜积累型 (TF AM) SOIPMOSFET的栅下硅膜物理状态随外加正栅压和漏压的变化出发 ,对其在 -5 .0 V背栅偏压下的导电机理进行了比较深入的理论分析 ,推导出了各种正栅压和漏压偏置条件下漏电流的二维解析模型 ,为高温 TF AM SOIPMOSFET和 CMOS数字电路的实验研究奠定了一定的理论基础 ,也为设计高温 SOI PMOSFET和 CMOS数字电路提供了一定的理论依据。 展开更多
关键词 SOI PMOSFET 导电机理 漏电流 二维解析模型 薄膜积累型 P沟道金属-氧化物-半导体场效应晶体管
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基于MOSFET漏电流温度特性的室温红外探测器 被引量:2
14
作者 董良 岳瑞峰 刘理天 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2002年第6期534-539,共6页
基于MOSFET的漏电流温度特性,提出了一种可与CMOS工艺兼容的新型室温红外探测器。它采用在SOI衬底上实现的MOSFET作为探测红外灵敏元,在MOSFET的钝化层上制作可提高红外吸收率的光学谐振腔,并利用硅微机械加工技术将SOI的隐埋氧化层悬空... 基于MOSFET的漏电流温度特性,提出了一种可与CMOS工艺兼容的新型室温红外探测器。它采用在SOI衬底上实现的MOSFET作为探测红外灵敏元,在MOSFET的钝化层上制作可提高红外吸收率的光学谐振腔,并利用硅微机械加工技术将SOI的隐埋氧化层悬空,形成热绝缘微桥结构。MOSFET在担当探测红外辐射灵敏元的同时,又作为放大处理电路的一部分,简化了电路。分析表明,探测器的探测率可高达109~1010cmHz1/2W-1。 展开更多
关键词 MOSFET 漏电流温度特性 室温红外探测器 SOI
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HgI_2探测器中晶体表面处理的研究 被引量:1
15
作者 李莹 史伟民 +1 位作者 潘美军 郭燕明 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2003年第2期167-171,共5页
该文研究了HgI2晶体表面状况对晶体电学性质的影响,主要探讨在不同的腐蚀条件下KI溶液腐蚀HgI2晶体时,得到不同的表面状况,从而对HgI2晶体电学性质产生的影响.扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)及微电流计分析表明,通过化学腐蚀,在0... 该文研究了HgI2晶体表面状况对晶体电学性质的影响,主要探讨在不同的腐蚀条件下KI溶液腐蚀HgI2晶体时,得到不同的表面状况,从而对HgI2晶体电学性质产生的影响.扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)及微电流计分析表明,通过化学腐蚀,在0℃时,用浓度为10%~20%KI溶液,腐蚀时间2min左右,可以得到较好的晶体表面状况.上述工艺条件,能够很大程度上优化HgI2晶体的电学参数,从而提高HgI2核探测器的性能. 展开更多
关键词 核探测器 HgI2晶体 表面处理 漏电流 电学性质 半导体探测器 碘化汞 化学腐蚀
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短沟道MOSFET解析物理模型 被引量:2
16
作者 杨谟华 于奇 +2 位作者 肖兵 谢晓峰 李竞春 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期84-86,92,共4页
本文基于修正的二维泊松方程导出了适用于深亚微米MOSFET的阈值电压解析模型,并进而通过反型区电荷统一表达式并考虑到载流子速度饱和、DIBL、相关迁移率、反型层电容和沟道长度调制等主要小尺寸与高场效应,最后得到了较为准确、连续和... 本文基于修正的二维泊松方程导出了适用于深亚微米MOSFET的阈值电压解析模型,并进而通过反型区电荷统一表达式并考虑到载流子速度饱和、DIBL、相关迁移率、反型层电容和沟道长度调制等主要小尺寸与高场效应,最后得到了较为准确、连续和可缩小的漏极电流模型.模型输出与华晶等样品测试MINIMOS模拟结果较为吻合。 展开更多
关键词 短沟道 MOSFET 解析物理模型 VLSI/ULSI
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半绝缘GaAs衬底中AB微缺陷对MESFET器件性能的影响 被引量:1
17
作者 徐岳生 付生辉 +3 位作者 刘彩池 王海云 魏欣 郝景臣 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期72-77,共6页
研究了LEC法生长SI GaAs衬底上的AB微缺陷对相应的MESFET器件性能 (跨导、饱和漏电流、夹断电压 )的影响 .用AB腐蚀液显示AB微缺陷 (AB EPD :10 3 ~ 10 4cm-2 量级 ) ,用KOH腐蚀液显示位错 (EPD :10 4cm-2 量级 ) ,发现衬底上的AB微缺... 研究了LEC法生长SI GaAs衬底上的AB微缺陷对相应的MESFET器件性能 (跨导、饱和漏电流、夹断电压 )的影响 .用AB腐蚀液显示AB微缺陷 (AB EPD :10 3 ~ 10 4cm-2 量级 ) ,用KOH腐蚀液显示位错 (EPD :10 4cm-2 量级 ) ,发现衬底上的AB微缺陷对器件性能及均匀性有显著影响 .随着AB EPD的增大 ,跨导、饱和漏电流变小 ,夹断电压的绝对值也变小 .利用扫描光致发光光谱 (PLmapping)对衬底质量进行了测量 ,结果表明衬底参数好的样品 ,PL参数好 ,相应器件的参数也好 。 展开更多
关键词 LEC SI-GAAS 位错 AB-EPD 跨导 饱和漏电流 夹断电压
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施主型界面态引起深亚微米槽栅PMOS特性的退化 被引量:2
18
作者 任红霞 张晓菊 郝跃 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期562-567,共6页
基于流体动力学能量输运模型 ,对沟道杂质浓度不同的槽栅和平面 PMOSFET中施主型界面态引起的器件特性的退化进行了研究 ,并与受主型界面态的影响进行了对比 .研究结果表明同样浓度的界面态在槽栅器件中引起的器件特性的漂移远大于平面... 基于流体动力学能量输运模型 ,对沟道杂质浓度不同的槽栅和平面 PMOSFET中施主型界面态引起的器件特性的退化进行了研究 ,并与受主型界面态的影响进行了对比 .研究结果表明同样浓度的界面态在槽栅器件中引起的器件特性的漂移远大于平面器件 ,且 N型施主界面态密度对器件特性的影响远大于 P型界面态 ,N型施主界面态引起器件特性的退化趋势与 P型受主界面态相似 ,而 P型施主界面态则与 N型受主界面态相似 .沟道杂质浓度不同 。 展开更多
关键词 槽栅PMOSFET 施主界面态密度 栅极特性 漏极电流驱动能力 特性退化
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高频电刀的安全控制技术 被引量:2
19
作者 王明刚 孙延泉 《中国医疗器械杂志》 CAS 2004年第6期442-443,共2页
从高频电刀的原理入手,分析了高频电刀安全控制的要求,并对其安全性能指标及其检定方法作了介绍。
关键词 高频 安全控制 漏电流 耐压 检定
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高P_r/低P_r栅FFET漏极电流与铁电材料特性的关系 被引量:1
20
作者 顾江 施敏 +1 位作者 王强 蔡小鹏 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第11期659-662,673,共5页
分析了对铁电场效应晶体管漏极电流特性有影响的铁电材料参数,设计了具有单层和双层栅介质结构的铁电场效应晶体管,并进行了仿真研究。仿真结果表明:具有高Pr/低Pr栅介质结构的铁电场效应晶体管在饱和极化后,其极化前后输出漏极电流差... 分析了对铁电场效应晶体管漏极电流特性有影响的铁电材料参数,设计了具有单层和双层栅介质结构的铁电场效应晶体管,并进行了仿真研究。仿真结果表明:具有高Pr/低Pr栅介质结构的铁电场效应晶体管在饱和极化后,其极化前后输出漏极电流差最大,有利于存储信号的分辨,提高电路的效率。通过改变该结构中低Pr层的Pr,Ec等铁电材料参数,发现在3-4V间饱和极化,该结构的铁电场效应晶体管的漏极电流输出特性比较稳定,减小了对材料、工艺、Ps/Pr及Ec的依赖性和敏感性,具有易于制造和便于电路设计的优点。 展开更多
关键词 铁电场效应晶体管(FFET) 双层栅 铁电材料 漏极电流 极化 仿真
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