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Room-temperature creation and manipulation of skyrmions in MgO/FeNiB/Mo multilayers
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作者 梁文会 苏鉴 +3 位作者 王雨桐 张颖 胡凤霞 蔡建旺 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第12期560-564,共5页
Magnetic skyrmions in multilayer structures are considered as a new direction for the next generation of storage due to their small size,strong anti-interference ability,high current-driven mobility,and compatibility ... Magnetic skyrmions in multilayer structures are considered as a new direction for the next generation of storage due to their small size,strong anti-interference ability,high current-driven mobility,and compatibility with existing spintronic technology.In this work,we present a tunable room temperature skyrmion platform based on multilayer stacks of MgO/FeNiB/Mo.We systematically studied the creation of magnetic skyrmions in MgO/FeNiB/Mo multilayer structures with perpendicular magnetic anisotropy(PMA).In these structures,the magnetic anisotropy changes from PMA to in-plane magnetic anisotropy(IMA)as the thickness of FeNiB layer increases.By adjusting the applied magnetic field and electric current,stable and high-density skyrmions can be obtained in the material system.The discovery of this material broadens the exploration of new materials for skyrmion and promotes the development of spintronic devices based on skyrmions. 展开更多
关键词 magnetic skyrmion MgO/FeNiB/mo multilayers electromagnetic coordinated manipulation Lorentz transmission electron microscopy(LTEM)
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NiFe/Cu和NiFe/Mo多层膜的界面结构与巨磁电阻 被引量:3
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作者 郑鹉 王艾玲 +3 位作者 周安 陈金昌 王岩国 周少雄 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期153-157,共5页
用磁控溅射方法制备了NiFe/Cu和NiFe/Mo多层膜.测量了厚度不同的Cu层和Mo层多层膜的磁性和磁电阻,并用电镜分析了部分NiFe/Cu多层膜样品测量到NiFe/Cu多层膜的室温巨磁电阻随Cu层厚度振荡的第一、二、三峰而在NiFe/Mo多层膜中未发... 用磁控溅射方法制备了NiFe/Cu和NiFe/Mo多层膜.测量了厚度不同的Cu层和Mo层多层膜的磁性和磁电阻,并用电镜分析了部分NiFe/Cu多层膜样品测量到NiFe/Cu多层膜的室温巨磁电阻随Cu层厚度振荡的第一、二、三峰而在NiFe/Mo多层膜中未发现巨磁电阻效应讨论了多层膜的界面结构对巨磁电阻效应的影响. 展开更多
关键词 nife/Cu 多层膜 nife/mo 巨磁电阻 界面结构
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Cu层和Mo层对NiFe多层膜巨磁电阻(GMR)的影响
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作者 王艾玲 周安 +3 位作者 郑鹉 陈金昌 王岩国 周少雄 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 1998年第3期24-28,共5页
采用磁控溅射方法制备了NiFe/Cu和NiFe/Mo两个系列的多层膜,进行了结构、磁性和磁电阻测量,并对部分NiFe/Cu多层膜样品作了电镜分析。对于NiFe/Cu多层膜,在室温下测量到巨磁电阻随Cu层厚度振荡的第一... 采用磁控溅射方法制备了NiFe/Cu和NiFe/Mo两个系列的多层膜,进行了结构、磁性和磁电阻测量,并对部分NiFe/Cu多层膜样品作了电镜分析。对于NiFe/Cu多层膜,在室温下测量到巨磁电阻随Cu层厚度振荡的第一、二、三峰。在NiFe/Mo多层膜样品中未发现巨磁电阻效应。讨论了非磁性层对多层膜的磁性、界面结构和巨磁电阻效应的影响。 展开更多
关键词 多层膜 巨磁电阻 界面结构 镍铁/钼 镍铁/铜
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磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜 被引量:7
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作者 涂昱淳 宋竹青 +6 位作者 黄秋实 朱京涛 徐敬 王占山 李乙洲 刘佳琪 张力 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第9期2419-2422,共4页
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的... 采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3~15.9nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60%~65%。 展开更多
关键词 mo/SI多层膜 磁控溅射 梯度多层膜 反射率 同步辐射
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用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜 被引量:10
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作者 秦俊岭 邵建达 易葵 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期67-70,共4页
用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。研究发现,随... 用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。研究发现,随着Mo靶溅射功率的增大,Mo/Si多层膜的表面粗糙度增加,Mo的特征X射线衍射峰也增强,Mo/Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小。 展开更多
关键词 mo mo/SI多层膜 溅射功率 软X射线 反射率
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Mo/Si软X射线多层膜的界面粗糙度研究 被引量:6
6
作者 秦俊岭 邵建达 +3 位作者 易葵 周洪军 霍同林 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期763-766,共4页
用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo/Si多层膜系列,利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度。以不同周期数的Mo/Si多层膜的新鲜表面近似等同于同一多层膜的内界面,通过原子力显微镜研究了多层膜界面粗糙度随膜层数... 用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo/Si多层膜系列,利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度。以不同周期数的Mo/Si多层膜的新鲜表面近似等同于同一多层膜的内界面,通过原子力显微镜研究了多层膜界面粗糙度随膜层数的变化规律。并在国家同步辐射实验室测量了各多层膜的软X射线反射率。研究表明:随着膜层数的增加,Mo膜层和Si膜层的界面粗糙度先减小后增加然后再减小,多层膜的峰值反射率先增加后减小。 展开更多
关键词 mo/SI多层膜 软X射线 界面粗糙度 反射率
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磁控溅射Cu/Mo纳米多层膜的结构与性能 被引量:6
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作者 郭中正 孙勇 +3 位作者 段永华 彭明军 吴大平 刘国涛 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期92-97,共6页
用磁控溅射法在单晶硅和聚酰亚胺衬底上制备了恒定调制比(η=1)、调制周期λ=10~100 nm的Cu/Mo纳米多层膜,运用XRD,HRTEM,EDX,AFM,单轴拉伸系统、显微硬度仪和电阻仪对多层膜的微观结构、表面形貌和力学及电学性能进行了研究。结果表明... 用磁控溅射法在单晶硅和聚酰亚胺衬底上制备了恒定调制比(η=1)、调制周期λ=10~100 nm的Cu/Mo纳米多层膜,运用XRD,HRTEM,EDX,AFM,单轴拉伸系统、显微硬度仪和电阻仪对多层膜的微观结构、表面形貌和力学及电学性能进行了研究。结果表明,Cu/Mo多层膜中的Cu层和Mo层分别具有Cu(111)和Mo(110)择优取向,Cu层呈柱状纳米晶、Mo层为极细纳米晶结构,Cu/Mo层间界面处存在一定厚度的扩散混合层。Cu/Mo多层膜的结构和性能受到调制周期和Cu层厚度的显著影响。在调制比η=1的条件下,随着调制周期的增加,软相Cu层厚度增大,Cu/Mo多层膜总体的屈服强度和显微硬度明显下降,裂纹萌生临界应变εc和电导率则显著上升。主要原因在于,随Cu层厚度的增加,Cu晶粒尺寸增大,Cu层内晶界密度降低,使Cu层的位错运动阻力减小、塑性变形能力增强,Cu层内电子散射效应减弱。同时当Cu/Mo多层膜总厚度恒定时,多层膜中Cu层和Mo层的层间界面数量亦随Cu层厚度的增加而减少,减弱了层间界面的电子散射效应,从而使多层膜电导率得以提高。 展开更多
关键词 Cu/mo纳米多层膜 调制周期 屈服强度 显微硬度 电导率
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磁控溅射方法制备直径120mm高均匀性Mo/Si多层膜 被引量:4
8
作者 潘磊 王晓强 +7 位作者 张众 朱京涛 王占山 李乙洲 李宏杰 王道荣 赵巨岩 陆伟 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期1535-1538,共4页
为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的... 为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%。 展开更多
关键词 mo/SI多层膜 磁控溅射 均匀性 反射率 同步辐射
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[NiFe/Cu/Co/Cu]_n纳米多层线的电化学制备及表征 被引量:2
9
作者 张卫国 谢仁鑫 +1 位作者 王宏智 姚素薇 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第1期1-5,共5页
采用电沉积法,在阳极氧化铝(AAO)模板中制备了[NiFe/Cu/Co/Cu]n多层纳米线.利用扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM)对纳米多层线的表面形貌及结构进行了表征,纳米线阵列高度有序、直径均一、层状结构清晰,NiFe层厚度约40 nm,Cu... 采用电沉积法,在阳极氧化铝(AAO)模板中制备了[NiFe/Cu/Co/Cu]n多层纳米线.利用扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM)对纳米多层线的表面形貌及结构进行了表征,纳米线阵列高度有序、直径均一、层状结构清晰,NiFe层厚度约40 nm,Cu层厚度约60 nm,Co层厚度约15 nm,各子层厚度可控.利用X射线能谱分析仪(EDS)对纳米多层线NiFe层的成分进行了测试,Ni,Fe的原子比为4∶1.利用X射线衍射仪(XRD)对[NiFe/Cu/Co/Cu]n纳米多层膜和多层线结构进行了测试,多层膜为面心立方(fcc)结构,多层线NiFe层为面心立方(fcc)结构,Cu层为六方密排hcp(100),Co层为面心立方(fcc)结构.与组成、结构完全相同的多层膜相比,[NiFe/Cu/Co/Cu]n多层纳米线具有更优越的巨磁电阻性能. 展开更多
关键词 [nife/Cu/Co/Cu]n 纳米多层线 电化学 表征
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中心波长为13.9nm的正入射Mo/Si多层膜 被引量:2
10
作者 范鲜红 陈波 +1 位作者 尼启良 王晓光 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期405-408,共4页
用由铜靶激光等离子体光源等组成的反射率计对自行设计的周期厚度为7.14nm的120层Mo/Si多层膜进行极紫外(EUV)波段反射率测量。由于多层膜层数增加所引起的吸收、膜层界面之间的扩散以及镀膜过程中的膜厚控制误差或表面被氧化(污染)等原... 用由铜靶激光等离子体光源等组成的反射率计对自行设计的周期厚度为7.14nm的120层Mo/Si多层膜进行极紫外(EUV)波段反射率测量。由于多层膜层数增加所引起的吸收、膜层界面之间的扩散以及镀膜过程中的膜厚控制误差或表面被氧化(污染)等原因,正入射Mo/Si多层膜在13.9nm处的反射率低于理论计算值73.2%,最后用原子力显微镜(AFM)测量其表面粗糙度为σ=0.401nm。 展开更多
关键词 mo/SI多层膜 反射率 极紫外波段
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13.9和19.6nm正入射Mo/Si多层膜反射镜的反射率测量 被引量:3
11
作者 李敏 董宁宁 +6 位作者 刘震 刘世界 李旭 范鲜红 王丽辉 马月英 陈波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1666-1672,共7页
为了进一步研究13.9 nm类镍银和19.6 nm类氖锗X射线激光,制备了工作在上述两个波长的Mo/Si多层膜反射镜。设计了结构简单、操作方便的小型反射率计,将其安装在Mcpherson247单色仪出射狭缝附近,以铜靶激光等离子体辐射源为极紫外光源,组... 为了进一步研究13.9 nm类镍银和19.6 nm类氖锗X射线激光,制备了工作在上述两个波长的Mo/Si多层膜反射镜。设计了结构简单、操作方便的小型反射率计,将其安装在Mcpherson247单色仪出射狭缝附近,以铜靶激光等离子体辐射源为极紫外光源,组建了一套适合反射率测量的实验装置,利用此装置测量了实验室制备的多层膜反射镜的反射率。测量之前对单色仪进行了标定并对光源稳定性进行了测量,结果显示,波长准确度是0.08 nm,光源信号抖动范围<5%,光源稳定性好。反射率测量结果显示,实验室能够制备出中心波长分别是13.91和19.60 nm的Mo/Si多层膜反射镜,相应反射率分别为41.9%和22.6%,半宽度为0.56和1.70 nm。同时还用WYKO测量得到13.9和19.6 nmMo/Si多层膜的表面粗糙度分别为0.52和0.55 nm。 展开更多
关键词 mo/Si多层膜反射镜 反射率测量 表面粗糙度 极紫外光源 激光等离子体光源
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8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性 被引量:1
12
作者 吕俊霞 马月英 +3 位作者 裴舒 沈长斌 曹健林 陈星旦 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期343-345,共3页
用磁控溅射法制备工作波长约80 nm 的 Mo/ B4 C多层膜作为正入射短波长(λ< 10.0 nm )软 X 射线激光反射腔的反射镜。经 X 射线衍射仪和 T E M 检测,多层膜周期结构准确,热稳定性高。
关键词 软X射线 多层膜 磁控溅射法 激光反射镜 膜系
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Mo/B_4C软X射线多层膜结构特性研究 被引量:1
13
作者 吕俊霞 马月英 +2 位作者 裴舒 陈星旦 曹健林 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第5期459-461,共3页
在 6.7<λ<1 0 .0 nm波段选择 Mo/ B4 C作为多层膜材料 ,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品 .这些多层膜样品的周期结构为 3 .3 5 nm~ 5 .5 2 nm.采用 X射线衍射仪和透射电镜 (TEM)对样品的微观结构进行研究 .结构表明 ,这些多... 在 6.7<λ<1 0 .0 nm波段选择 Mo/ B4 C作为多层膜材料 ,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品 .这些多层膜样品的周期结构为 3 .3 5 nm~ 5 .5 2 nm.采用 X射线衍射仪和透射电镜 (TEM)对样品的微观结构进行研究 .结构表明 ,这些多层膜样品的结构质量很高 ,并有很好的热稳定性 . 展开更多
关键词 mo/B4C 多层膜 软X射线
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离子束增强沉积Ti-Mo多层膜和TiMo合金膜及其性能 被引量:1
14
作者 唐长斌 刘道新 +2 位作者 李凡巧 张卿 张晓化 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期15-21,共7页
采用离子束增强磁控溅射沉积技术制备了Ti–Mo金属多层膜和TiMo合金膜,评价了膜层的结合强度、韧性、硬度等力学性能和摩擦学性能。结果表明:不同调制周期及不同调制比的Ti–Mo多层膜的硬度均比Ti、Mo金属单层膜的硬度高,调制周期小于20... 采用离子束增强磁控溅射沉积技术制备了Ti–Mo金属多层膜和TiMo合金膜,评价了膜层的结合强度、韧性、硬度等力学性能和摩擦学性能。结果表明:不同调制周期及不同调制比的Ti–Mo多层膜的硬度均比Ti、Mo金属单层膜的硬度高,调制周期小于200nm的多层膜呈现出明显的超硬度现象,调制周期为20nm的多层膜硬度达到最大值,多层膜硬度随Ti膜:Mo膜调制比的减小而提高。Mo过渡层比Ti过渡层更能有效改善膜层的结合强度,离子辅助轰击能明显提高膜层的结合力。TiMo合金膜的硬度与Mo金属单层膜相近,明显低于调制周期20~200nm的Ti–Mo多层膜,其韧性也明显低于调制周期60nm以上的Ti–Mo多层膜。调制周期20~200nm的Ti–Mo多层膜的耐磨性能优于TiMo合金膜。 展开更多
关键词 Ti-mo多层膜 Timo合金膜 硬度 磨损 腐蚀磨损
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Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析 被引量:1
15
作者 王凤平 王佩璇 +3 位作者 方正知 崔明启 姜晓明 马宏骥 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1997年第7期737-741,共5页
用X射线衍射的动力学理论对磁控溅射法制备的Mo/SiO2多层膜低角X射线衍射谱进行拟合,定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度.同时,用Auger电子能谱证实了多层膜成分的周期性以及比较明晰的层界面随样品厚度的增加,界面粗糙度增加.
关键词 多层膜 低角X射线衍射 俄歇电子能谱 薄膜 界面
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月基极紫外相机Mo/Si多层膜反射镜的空间质子辐照稳定性 被引量:1
16
作者 李云鹏 陈波 +2 位作者 吕鹏 杨洪臣 王华朋 《激光杂志》 CAS 北大核心 2021年第11期24-29,共6页
为研究月基极紫外相机Mo/Si多层膜反射镜能否在月面辐照环境下长期稳定工作,从理论仿真、光学性能、微观形貌三方面对其辐照稳定性进行了研究。采用Monte-Carlo方法模拟了不同能量质子束辐照Mo/Si多层膜后薄膜内部的损伤情况,结果表明:... 为研究月基极紫外相机Mo/Si多层膜反射镜能否在月面辐照环境下长期稳定工作,从理论仿真、光学性能、微观形貌三方面对其辐照稳定性进行了研究。采用Monte-Carlo方法模拟了不同能量质子束辐照Mo/Si多层膜后薄膜内部的损伤情况,结果表明:质子能量越高,对薄膜深层损伤越大。进行了50KeV高能质子辐照实验,Mo/Si多层膜辐照后周期厚度降低、界面粗糙度增加,30.4 nm反射率下降2.8%,中心波长向短波方向偏移0.2nm。TEM显示Mo/Si多层膜辐照后出现了局部烧蚀和膜层间渗透,周期结构被破坏。制备的Mo/Si多层膜反射镜在辐照后虽然性能发生一定退化,但仍可正常工作,说明其具有良好的辐照稳定性。 展开更多
关键词 mo/SI多层膜 质子辐照 反射率 等离子体层
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磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜 被引量:1
17
作者 吕俊霞 马月英 +2 位作者 裴舒 曹健林 陈星旦 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1999年第2期143-145,共3页
用DC和RF磁控溅射法制备出了波长小于 10nm波段的Mo/B4 C软X射线多层膜反射镜。掠入射X射线衍射仪的测量结果表明 ,磁控溅射法有很高的控制精度 ,制备出的Mo/B4 C软X射线多层膜周期结构非常好 ,表 (界 )面粗糙度非常小 ,约为 0 4nm。
关键词 软X射线 多层膜 磁控溅射 mo/B4C
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磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜(英文)
18
作者 朱京涛 李淼 +3 位作者 朱圣明 张嘉怡 冀斌 崔明启 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期16-20,共5页
用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8~11.0nm波段的[Mo/B_4C]60横向梯度多层膜。利用X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试。X射线掠入射反射测试结果表明,... 用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8~11.0nm波段的[Mo/B_4C]60横向梯度多层膜。利用X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试。X射线掠入射反射测试结果表明,多层膜周期厚度沿着长轴方向从4.39nm逐渐增加到7.82nm,周期厚度平均梯度为0.054nm/mm。对横向梯度多层膜沿长轴方向每隔5mm进行了一次同步辐射反射率测试,结果显示,横向梯度多层膜在45°入射角下的反射率约为10%,反射峰的半高全宽介于0.13nm到0.31nm之间。 展开更多
关键词 极紫外 横向梯度多层膜 mo/B4C 磁控溅射 同步辐射
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Mo/Si多层膜反射镜在带电粒子照射下反射率变化
19
作者 陈波 李忠芳 +2 位作者 尼启良 齐立红 王丽辉 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期38-41,共4页
为模拟低地球轨道空间辐射环境,利用高能电子和质子对应用于空间极紫外望远镜上的Mo/Si多层膜反射镜分别进行照射,研究在电子和质子照射下多层膜反射镜反射率的变化,电子的能量和辐照剂量分别为4.5 MeV和3.3×1010mm-2,质子的能量... 为模拟低地球轨道空间辐射环境,利用高能电子和质子对应用于空间极紫外望远镜上的Mo/Si多层膜反射镜分别进行照射,研究在电子和质子照射下多层膜反射镜反射率的变化,电子的能量和辐照剂量分别为4.5 MeV和3.3×1010mm-2,质子的能量和辐照剂量分别为160 keV和1×1013cm-2。实验结果显示,经高能电子照射后的多层膜反射镜反射率有所降低,降低幅度在1%~3%之间,经质子照射后反射率没有变化。并对带电粒子对多层膜反射镜的辐射损伤作了初步分析。 展开更多
关键词 空间辐射环境 mo/Si多层膜反射镜 带电粒子 辐射损伤
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离子增强沉积Ti/Mo多层膜对钛合金微动疲劳行为的影响
20
作者 唐长斌 刘道新 +1 位作者 张卿 张晓化 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2011年第5期712-717,共6页
为提高Ti6Al4V钛合金微动疲劳抗力,利用离子增强磁控溅射沉积技术制备了不同结构的Ti/Mo金属多层膜,评价了膜层的结合强度、韧性、硬度等力学性能和摩擦学性能,对优选出的Ti/Mo多层膜进行微动疲劳试验。研究结果表明:离子增强磁控溅射... 为提高Ti6Al4V钛合金微动疲劳抗力,利用离子增强磁控溅射沉积技术制备了不同结构的Ti/Mo金属多层膜,评价了膜层的结合强度、韧性、硬度等力学性能和摩擦学性能,对优选出的Ti/Mo多层膜进行微动疲劳试验。研究结果表明:离子增强磁控溅射沉积的Ti/Mo金属多层膜膜层结晶细致,膜基结合强度高,有效地提高了钛合金基材的耐磨性能。调制周期小于200 nm的多层膜呈现出明显的超硬度现象,调制周期为20 nm的多层膜硬度达到最大值。调制周期200 nm的Ti/Mo多层膜结合强度高,强韧综合性能好,具有较好的耐磨和抗疲劳特性,使Ti6Al4V合金的微动疲劳寿命明显提高。 展开更多
关键词 钛合金 微动疲劳 Ti/mo金属多层膜 离子增强沉积
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