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Study of total ionizing dose radiation effects on enclosed gate transistors in a commercial CMOS technology 被引量:2
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作者 李冬梅 王志华 +1 位作者 皇甫丽英 勾秋静 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第12期3760-3765,共6页
This paper studies the total ionizing dose radiation effects on MOS (metal-oxide-semiconductor) transistors with normal and enclosed gate layout in a standard commercial CMOS (compensate MOS) bulk process. The lea... This paper studies the total ionizing dose radiation effects on MOS (metal-oxide-semiconductor) transistors with normal and enclosed gate layout in a standard commercial CMOS (compensate MOS) bulk process. The leakage current, threshold voltage shift, and transconductance of the devices were monitored before and after γ-ray irradiation. The parameters of the devices with different layout under different bias condition during irradiation at different total dose are investigated. The results show that the enclosed layout not only effectively eliminates the leakage but also improves the performance of threshold voltage and transconductance for NMOS (n-type channel MOS) transistors. The experimental results also indicate that analogue bias during irradiation is the worst case for enclosed gate NMOS. There is no evident different behaviour observed between normal PMOS (p-type channel MOS) transistors and enclosed gate PMOS transistors. 展开更多
关键词 moS transistors radiation effects total dose layout
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Radiation effects on MOS and bipolar devices by 8 MeV protons,60 MeV Br ions and 1 MeV electrons
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作者 李兴冀 耿洪滨 +3 位作者 兰慕杰 杨德庄 何世禹 刘超铭 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第5期419-426,共8页
The radiation effects of the metal-oxide-semiconductor (MOS) and the bipolar devices are characterised using 8 MeV protons, 60 MeV Br ions and 1 MeV electrons. Key parameters are measured in-situ and compared for th... The radiation effects of the metal-oxide-semiconductor (MOS) and the bipolar devices are characterised using 8 MeV protons, 60 MeV Br ions and 1 MeV electrons. Key parameters are measured in-situ and compared for the devices. The ionising and nonionising energy losses of incident particles are calculated using the Geant4 and the stopping and range of ions in matter code. The results of the experiment and energy loss calculation for different particles show that different incident particles may give different contributions to MOS and bipolar devices. The irradiation particles, which cause a larger displacement dose within the same chip depth of bipolar devices at a given total dose, would generate more severe damage to the voltage parameters of the bipolar devices. On the contrary, the irradiation particles, which cause larger ionising damage in the gate oxide, would generate more severe damage to MOS devices. In this investigation, we attempt to analyse the sensitivity to radiation damage of the different parameter of the MOS and bipolar devices by comparing the irradiation experimental data and the calculated results using Geant4 and SRIM code. 展开更多
关键词 radiation effects moS and bipolar devices ionisation damage displacement damage
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Effects of the band-filling and Fe/Mo disorder on physical properties of Ca_2FeMoO_6
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作者 Jin-Feng Wang Zhao-Tong Zhuang +1 位作者 Shuai-Shuai Liu Qian-Qian Gao 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第12期444-449,共6页
Both the band filling effect and Fe/Mo disorder have a close correlation with the physical properties of the double perovskite Ca2FeMoO6. Two series of Ca2FeMoO6and Nd0.3Ca1.7FeMoO6ceramics sintered at(1050℃, 1200℃,... Both the band filling effect and Fe/Mo disorder have a close correlation with the physical properties of the double perovskite Ca2FeMoO6. Two series of Ca2FeMoO6and Nd0.3Ca1.7FeMoO6ceramics sintered at(1050℃, 1200℃, and 1300℃) were specially designed to comparatively investigate the band-filling effect and Fe/Mo disorder on the physical properties of Ca2FeMoO6. The x-ray diffraction indicates that Fe/Mo disorder is sensitive to the sintering temperature. The magnetization behavior is mainly controlled by the Fe/Mo disorder not by the band filling effect, manifested by a close correlation of saturated magnetization(Ms) with the Fe/Mo disorder. Interestingly, magnetoresistance(MR) property of the same composition is dominantly contributed by the grain boundary strength, which can be expressed by the macroscopic resistivity values. However, the band filling effect caused by the Nd-substitution can decrease the spin polarization, and thus suppress the MR performance fundamentally. Contrary to the MR response, the Curie temperature(TC) shows an obvious optimization due to the band filling effect, which increases the carrier density near the Fermi level responsible for the ferromagnetic coupling interaction strengthen. Maybe, our work can provoke further research interests into the correlation of the band-filling effects and Fe/Mo disorder with the physical properties of other Fe/Mo-based double perovskites. 展开更多
关键词 band filling effect Fe/mo disorder Ca_2FemoO_6 physical property
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Effect of Ageing on Martensitic Transformation and Shape Memory Effect of Fe-Mn-Si-Co-Mo Alloy
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作者 王中 蔡伟 赵连城 《Journal of Harbin Institute of Technology(New Series)》 EI CAS 1997年第4期79-82,共4页
This paper discusses the effect of ageing on the thermally induced martensitic transformation and its reverse transformation and shape memory effect of Fe-24Mn-5Si-8Co-4Mo shape memory alloy:the precipitation of Fe 2... This paper discusses the effect of ageing on the thermally induced martensitic transformation and its reverse transformation and shape memory effect of Fe-24Mn-5Si-8Co-4Mo shape memory alloy:the precipitation of Fe 2Mo particles increases the hardness and strength of the alloy as ageing goes on;ageing increases the transformation temperatures;ageing improves,the SME of the alloy so remarkably that a maximum shape recovery ratio is obtained while ageing at 600℃. 展开更多
关键词 Ageing Fe-Mn-Si-Co-mo alloy martensitic TRANSFORMATION SHAPE MEmoRY effect
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Effect of Quench Treatment on Fe/Mo Order and Magnetic Properties of Double Perovskite Sr_2FeMoO_6
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作者 胡艳春 崔亚雯 +1 位作者 王显威 刘一璞 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第2期58-61,共4页
A quench-treatment technique is used to prepare a high-quality polycrystalline sample of double perovskite Sr2FeMo06 (SFMO). X-ray powder diffraction analysis reveals that the sample has a single phase and exhibits ... A quench-treatment technique is used to prepare a high-quality polycrystalline sample of double perovskite Sr2FeMo06 (SFMO). X-ray powder diffraction analysis reveals that the sample has a single phase and exhibits I4/m symmetry. The cation order η of the sample increases to 98.9(2)% from 94.2(3)%, which is prepared by the traditional sol-gel method. The initial magnetization isotherm of the sample is detected at 300 K. Unit-cell magnetization for the current sample is 1.332 #s at 300 K, and the one for the traditional sol-gel method sample is 0.946#9. Unit-cell magnetization is enhanced to 40.80% by the quench-treatment technique. Quench treatment is an effective method of enhancing the Fe/Mo order and magnetic properties of double perovskite SFMO. 展开更多
关键词 of in FE effect of Quench Treatment on Fe/mo Order and Magnetic Properties of Double Perovskite Sr2FemoO6 LFMR for mo SR is on
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Effects of Several Factors on Trapping Quantity of Grapholitha molesta Busck by Sex Pheromone
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作者 Lili LI Sicong ZHANG +5 位作者 Xueliang LIANG Ansheng ZHANG Xingyuan MEN Xianhong ZHOU Qianying ZHUANG Yi YU 《Plant Diseases and Pests》 CAS 2012年第5期8-10,共3页
The key application technology for sex pheromone of Grapholitha molesta was studied from the aspects of different hanging heights and orientations, dif- ferent doses and types of traps through the tests on trapping qu... The key application technology for sex pheromone of Grapholitha molesta was studied from the aspects of different hanging heights and orientations, dif- ferent doses and types of traps through the tests on trapping quantity of G. molesta in fields. The results showed that the trapping effect was enhanced when the hanging height was increased, and the trapping effect was the best in west direction. The trapping effect was enhanced when the dosage was increased. When it was up to 6 lures, the trapping effect was the best with 38.75 head/trap; the next was 2 lures with 31.00 head/trap. All types of traps had trapping ability to G. mo- lesta, among which triangle trapper was the best, followed by self-made bottle trap. Their trapping effects were 138.75 and 100.25 head/trap, respectively. 展开更多
关键词 Grapholith mo/eJta Sex pheromone Hanging height TRAP Trapping effect
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高通量电弧熔炼制备的Mo-Re合金的组织和性能研究
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作者 刘轶 乔乐琳 +1 位作者 李学文 刘艳洁 《特种铸造及有色合金》 北大核心 2025年第8期1127-1135,共9页
利用高通量电弧熔炼方法制备了32种成分的Mo-xRe合金(x=1%~50%,质量分数),系统研究了Re含量对合金的微观组织和硬度的影响。X射线衍射表明,制备的合金为BCC固溶体。当x≤10%时,合金硬度(HV)约为164,平均晶粒尺寸约为230μm。当x>10%... 利用高通量电弧熔炼方法制备了32种成分的Mo-xRe合金(x=1%~50%,质量分数),系统研究了Re含量对合金的微观组织和硬度的影响。X射线衍射表明,制备的合金为BCC固溶体。当x≤10%时,合金硬度(HV)约为164,平均晶粒尺寸约为230μm。当x>10%时,合金硬度(HV)随Re含量增加可升高至300,晶粒尺寸则降低至40μm。考虑固溶强化和细晶强化机制的共同作用,合金的硬度可拟合成:H=39.2+5.117x+8.803/d 12(x>10%)。低Re合金中细晶强化机制起主要作用,高Re合金中固溶强化为主导。 展开更多
关键词 mo-Re合金 铼效应 固溶强化 细晶强化 高通量电弧熔炼
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Mo添加对Ni_3Al-TiC润湿特性的影响机制研究 被引量:13
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作者 沈强 张联盟 涂溶 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期1306-1310,共5页
采用2AP-LEITZ高温显微镜对TiC-Ni3Al的润湿接触角进行了实验测定,着重探讨了Ni3Al对TiC的润湿特性以及Ni3Al中添加少量Mo的影响机制.结果表明,TiC与Ni3Al之间具有良好的润湿性能.5wt%Mo的添加使Ni3Al向TiC基板浸渗的深度增大,并与TiC... 采用2AP-LEITZ高温显微镜对TiC-Ni3Al的润湿接触角进行了实验测定,着重探讨了Ni3Al对TiC的润湿特性以及Ni3Al中添加少量Mo的影响机制.结果表明,TiC与Ni3Al之间具有良好的润湿性能.5wt%Mo的添加使Ni3Al向TiC基板浸渗的深度增大,并与TiC颗粒发生固溶反应置换出部分Ti,在其周围形成一个含Mo的壳层.在这个壳层里,Ti、Mo进一步与Ni3Al固溶,这些反应降低了液-固表面张力,导致了润湿接触角的下降,从而改善了TiC-Ni3Al的润湿性. 展开更多
关键词 Ni3Al-TiC mo 润湿特性 影响机制 添加剂 镍铝合金 碳化钛 陶瓷增强金属基复合材料
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考虑MOS效应的锥型硅通孔寄生电容解析模型 被引量:3
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作者 杨银堂 王凤娟 +2 位作者 朱樟明 刘晓贤 丁瑞雪 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2013年第12期3011-3017,共7页
该文采用求解泊松方程等数学方法,提出了考虑MOS效应的锥型硅通孔(TSV)寄生电容解析模型。基于铜材料TSV,对比了解析模型与Ansoft Q3D参数提取模型,得出在偏置电压为-0.4 V,0.5 V和1.0 V时,对于锥型TSV侧面倾角为75°,80°,85&#... 该文采用求解泊松方程等数学方法,提出了考虑MOS效应的锥型硅通孔(TSV)寄生电容解析模型。基于铜材料TSV,对比了解析模型与Ansoft Q3D参数提取模型,得出在偏置电压为-0.4 V,0.5 V和1.0 V时,对于锥型TSV侧面倾角为75°,80°,85°和90°4种情况,多个参数变化时解析模型最大均方根误差分别为6.12%,4.37%,3.34%和4.84%,忽略MOS效应时,最大均方根误差分别达到210.42%,214.81%,214.52%和211.47%,验证了该解析模型的准确性和考虑MOS效应的必要性。Ansoft HFSS仿真结果表明,考虑MOS效应以后11S的最大减幅大约为19 dB,21S的最大增幅大约为0.01 dB,锥型TSV的传输性能得到改善。 展开更多
关键词 集成电路 锥型硅通孔 寄生电容 moS效应 泊松方程
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考虑员工学习效应的MTO/MOS指派模型及算法研究 被引量:4
10
作者 于秀丽 张毕西 +1 位作者 李逸帆 李弘 《运筹与管理》 CSSCI CSCD 北大核心 2014年第1期226-233,共8页
订单式生产(MTO)人工作业系统(MOS)是我国中小制造企业广泛采用的生产系统模式。在MTO/MOS中,一线员工生产技能对生产绩效具有直接的影响。随着重复操作次数的增多,员工的生产效率不断提高,即产生学习效应。本文考虑员工学习效应来优化... 订单式生产(MTO)人工作业系统(MOS)是我国中小制造企业广泛采用的生产系统模式。在MTO/MOS中,一线员工生产技能对生产绩效具有直接的影响。随着重复操作次数的增多,员工的生产效率不断提高,即产生学习效应。本文考虑员工学习效应来优化一线员工的配置,强调员工初始技能和学习能力的个体差异对完工期的影响,以期缩小理论研究与生产实践之间的差距。本文首先提出一个基于员工初始技能、员工的学习能力、工艺难度和订单批量的员工技能动态变化函数。然后,以最小化完工期为目标,建立一个优化模型。由于员工指派问题属于"完全NP-Hard"问题,为了求解本文所提出模型,本文提出Bootstrap方法对问题进行求解。最后,基于一个算例分析,验证该模型及算法的有效性。 展开更多
关键词 订单式生产 人工作业系统 学习效应 员工指派
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Influence of Mo on the microstructure and mechanical properties of TiC-based cermets 被引量:5
11
作者 WANG Xingqing,HE Xiaoxiang,and GUO Hailiang School of Materials Science and Engineering,Shanghai University,Shanghai 200072,China 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第4期346-350,共5页
The microstructures and mechanics properties of TiC-based cermets composed of TiC, WC, Ni, Co, Mo, and Cr3C2 were investigated. The results show that Mo has a great effect on the sintering densification, microstructur... The microstructures and mechanics properties of TiC-based cermets composed of TiC, WC, Ni, Co, Mo, and Cr3C2 were investigated. The results show that Mo has a great effect on the sintering densification, microstructures, and mechanical properties. The microstructures and distribution of Mo and Ti in the TiC-based cermets were analyzed. It was indicated that a new phase with Ti, Mo, W, and C was formed on the rim of (Ti,W)C grains by means of an addition of Mo into the TiC-based cermets. The new phase with a surrounding structure was of great aid to improve the wettability of the liquid phase on the solid phase surface of TiC, decrease the porosity and refine the grains of the hard phase, which gave rise to the increase in strength and hardness. The properties of the TiC-based cermets could be further improved to some extent by adding WC, Cr2C3, and Co. 展开更多
关键词 TiC-based cermets mo effect sintering densification MICROSTRUCTURE mechanical properties
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ICL7650-CMOS斩波集成运放简介及应用 被引量:10
12
作者 文亚凤 赵莲清 刘向军 《现代电子技术》 2006年第12期19-20,共2页
介绍了ICL7650 CMOS斩波集成运算放大结构和性能,输入级使用MOS场效应管,采用斩波自动稳零结构,附带调制和解调等措施,具有输入偏置电流小,低失调电压和温度漂移以及精密的反馈特性和高的共模抑制比能力。并采用该器件实现了一个积分电... 介绍了ICL7650 CMOS斩波集成运算放大结构和性能,输入级使用MOS场效应管,采用斩波自动稳零结构,附带调制和解调等措施,具有输入偏置电流小,低失调电压和温度漂移以及精密的反馈特性和高的共模抑制比能力。并采用该器件实现了一个积分电路,该电路零位可以调整,抑制干扰,降低噪声,是很好的传感器信号预处理电路。 展开更多
关键词 ICL7650 运算放大器 积分电路 moS场效应管
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低剂量率下MOS器件的辐照效应 被引量:6
13
作者 刘传洋 张廷庆 +7 位作者 刘家璐 王剑屏 黄智 徐娜军 何宝平 彭宏论 姚育娟 王宝成 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期29-33,共5页
对 MOS器件在低剂量率 γ射线辐射条件下的偏置效应进行了研究。对不同偏置及退火条件下 MOS器件辐照后的阈值电压漂移进行了对比。结果表明 ,偏置在 MOS器件栅氧化层内产生电场 ,增强了辐照产生电子 -空穴对的分离 ,同时 ,影响了正电... 对 MOS器件在低剂量率 γ射线辐射条件下的偏置效应进行了研究。对不同偏置及退火条件下 MOS器件辐照后的阈值电压漂移进行了对比。结果表明 ,偏置在 MOS器件栅氧化层内产生电场 ,增强了辐照产生电子 -空穴对的分离 ,同时 ,影响了正电荷 (包括空穴和氢离子 )的运动状态 ;此外 ,偏置对退火同样有促进作用。 展开更多
关键词 moS器件 辐照效应 阈值电压漂移 低剂量率
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辐照偏置影响深亚微米MOS器件总剂量效应的理论研究 被引量:5
14
作者 丁李利 郭红霞 +5 位作者 陈伟 范如玉 王忠明 闫逸华 陈雷 孙华波 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期842-847,共6页
由理论公式推导出辐照偏压影响MOS器件总剂量效应宏观电学参数的解析表达,并给出器件仿真结果加以验证。在总剂量效应未达到饱和的情况下,截止态漏电流由辐照偏压和累积剂量的关系式唯一确定。引入等效累积剂量的概念,用于将MOS器件实... 由理论公式推导出辐照偏压影响MOS器件总剂量效应宏观电学参数的解析表达,并给出器件仿真结果加以验证。在总剂量效应未达到饱和的情况下,截止态漏电流由辐照偏压和累积剂量的关系式唯一确定。引入等效累积剂量的概念,用于将MOS器件实际工作中的各类偏置映射为最劣偏置状况,进而利用实测数据求取对应的电学响应。所得单管解析表达式应用到电路仿真中能反映电路在不同偏置情况下的总剂量效应,可用于甄别电路的最劣辐照偏置状态。 展开更多
关键词 辐照偏置 总剂量效应 moS器件 解析模型 器件仿真
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Mo/2Si混合粉末的摩擦化学效应 被引量:4
15
作者 马勤 王翠霞 +2 位作者 薛群基 何荔 朱雪斌 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期126-129,共4页
利用 ZJM10 T型搅拌机和 X射线衍射仪研究了 Mo/ 2 Si混合粉末在机械球磨过程中的摩擦化学效应 .结果表明 :在球磨初期 ,晶粒尺寸明显减小 ,显微应变和有效温度系数明显增加 ;在球磨 3h后 ,Mo和 Si粉末的晶粒尺寸和显微应变变化幅度减... 利用 ZJM10 T型搅拌机和 X射线衍射仪研究了 Mo/ 2 Si混合粉末在机械球磨过程中的摩擦化学效应 .结果表明 :在球磨初期 ,晶粒尺寸明显减小 ,显微应变和有效温度系数明显增加 ;在球磨 3h后 ,Mo和 Si粉末的晶粒尺寸和显微应变变化幅度减小 ;球磨 10 h后 ,有效温度系数趋于极限值 ,晶粒尺寸和显微应变几乎保持不变 .塑性 Mo颗粒的机械活化以变形或晶格畸变加剧为主 ,而脆性 Si颗粒的机械活化以细化或比表面积增加为主 . 展开更多
关键词 mo/2Si混合粉末 球磨 摩擦化学效应
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MOS场效应晶体管辐照特性的实验研究 被引量:2
16
作者 皇甫丽英 金平 +1 位作者 勾秋静 李冬梅 《实验技术与管理》 CAS 2006年第3期38-40,共3页
通过对NMOS和PMOS场效应晶体管在^60coγ射线下的辐照实验,研究辐照对不同宽长比(W/L)及不同偏置电压下的MOS管的阈值电压及其转移特性的影响。实验证明辐照使MOS管的阈值电压负向漂移,辐照时非零栅源电压引起的MOS管阈值电压漂移... 通过对NMOS和PMOS场效应晶体管在^60coγ射线下的辐照实验,研究辐照对不同宽长比(W/L)及不同偏置电压下的MOS管的阈值电压及其转移特性的影响。实验证明辐照使MOS管的阈值电压负向漂移,辐照时非零栅源电压引起的MOS管阈值电压漂移明显大于零栅源电压情况,宽长比对阈值电压漂移量影响不大。 展开更多
关键词 moS器件 辐照效应 阈值电压漂移 宽长比
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Mo-Cu合金熔渗工艺影响因素研究 被引量:5
17
作者 赵虎 杨秦莉 +1 位作者 庄飞 刘仁智 《中国钼业》 2019年第2期52-55,共4页
本文研究了熔渗工艺制备Mo-Cu合金的影响因素。结论指出:钼铜熔渗开始之前,将铜板放置在钼骨架下方熔渗效果更佳;熔渗时,温度应控制在1 200~1 350℃、时间控制在60~120 min较为适宜;升温速率控制在1. 5~2. 5℃/min,而降温时应选择快... 本文研究了熔渗工艺制备Mo-Cu合金的影响因素。结论指出:钼铜熔渗开始之前,将铜板放置在钼骨架下方熔渗效果更佳;熔渗时,温度应控制在1 200~1 350℃、时间控制在60~120 min较为适宜;升温速率控制在1. 5~2. 5℃/min,而降温时应选择快速降温。H_2气氛和真空气氛熔渗对Mo-Cu合金最终性能影响不同,各有优劣势。选用石墨坩埚较氧化铝坩埚性价比更高。 展开更多
关键词 mo-Cu合金 熔渗 影响因素
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基于Savitzky-Golay滤波器的MOSFET阈值电压提取技术 被引量:2
18
作者 杨红官 朱坤顺 朱晓君 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期2242-2246,共5页
MOS(Matel-Oxide-Semiconductor)器件阈值电压提取过程中的一些求导运算放大了测量数据中所包含的涨落因素(噪声和测量错误),使阈值电压提取过程变得不稳定.本文采用Savitzky-Golay低通滤波算法,求导运算和滤波过程同时进行,有效地抑制... MOS(Matel-Oxide-Semiconductor)器件阈值电压提取过程中的一些求导运算放大了测量数据中所包含的涨落因素(噪声和测量错误),使阈值电压提取过程变得不稳定.本文采用Savitzky-Golay低通滤波算法,求导运算和滤波过程同时进行,有效地抑制了测量数据中的涨落.再结合目标曲线峰值附近局域匹配系数判据,阈值电压提取过程就可以稳定且自动地完成,这为MOSFET(MOS Field-Effect Transistor)特性分析及集成电路设计工作带来很大方便. 展开更多
关键词 金属氧化物半导体场效应晶体管 阈值电压 测量涨落 Savitzky-Golay滤波器
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MOS场效应晶体管虚拟仿真实验教学资源建设 被引量:6
19
作者 李曼 郭宇锋 +1 位作者 顾世浦 姚佳飞 《物理实验》 2020年第11期35-40,共6页
为了解决大多数高校微电子专业实验教学面临的难题,建设了MOS场效应晶体管虚拟仿真实验教学资源.引入半导体器件的虚拟制造和虚拟测试理念,基于半导体工艺仿真软件和器件模拟软件进行二次开发,包含教学管理、虚拟制造和虚拟测试3大部分,... 为了解决大多数高校微电子专业实验教学面临的难题,建设了MOS场效应晶体管虚拟仿真实验教学资源.引入半导体器件的虚拟制造和虚拟测试理念,基于半导体工艺仿真软件和器件模拟软件进行二次开发,包含教学管理、虚拟制造和虚拟测试3大部分,共17个模块,实现了MOS场效应晶体管的各种制造工艺流程和直流、交流、瞬态等各种性能测试.虚拟仿真实验教学资源知识点覆盖面广,理念先进,辐射范围广,具有较好的学习效果,为微电子专业人才培养提供了优质的实验教学资源. 展开更多
关键词 moS场效应晶体管 虚拟仿真 虚拟制造 虚拟测试 微电子 教学管理
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500 V/11 A VDMOSFET 的研究 被引量:1
20
作者 陈宁 朱长纯 +1 位作者 吴一清 单建安 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期22-25,30,共5页
在理论分析的基础上,设计制作了500V/11AVDMOSFET芯片,并且进行了失效分析,从而进一步解决了设计和工艺中存在的问题,提高了成品率.最后指出了今后努力的方向.
关键词 功率器件 moS结构 场效应
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