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Ge/Al-SiO_2薄膜材料的非线性光学特性
被引量：
1
1
作者
陈虎
王加贤
《华侨大学学报（自然科学版）》
CAS
北大核心
2012年第4期380-383,共4页
采用磁控共溅射及后退火技术制备Ge,Al共掺SiO2薄膜,通过X射线衍射谱和傅里叶红外吸收谱对样品进行表征,并采用皮秒脉冲激光器的单光束Z扫描技术研究薄膜的三阶非线性光学特性.研究结果表明:薄膜材料对1 064nm的光具有自散焦和双光子吸...
采用磁控共溅射及后退火技术制备Ge,Al共掺SiO2薄膜,通过X射线衍射谱和傅里叶红外吸收谱对样品进行表征,并采用皮秒脉冲激光器的单光束Z扫描技术研究薄膜的三阶非线性光学特性.研究结果表明:薄膜材料对1 064nm的光具有自散焦和双光子吸收效应,薄膜的三阶极化率χ(3)为3.84×10-16 m2.V-2.薄膜材料的三阶非线性极化率比SiO2和GeO2均有显著的提高,说明薄膜材料中的纳米Ge颗粒的量子限域效应及双光子吸收效应是其产生非线性光学效应增强的主要原因,同时Al的掺杂也促进了材料的三阶非线性光学效应的增强.
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关键词
三阶非线性
光学性质
Ge
/al-sio
2
薄膜
Z扫描技术
磁控溅射
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职称材料
题名
Ge/Al-SiO_2薄膜材料的非线性光学特性
被引量：
1
1
作者
陈虎
王加贤
机构
华侨大学信息科学与工程学院
出处
《华侨大学学报（自然科学版）》
CAS
北大核心
2012年第4期380-383,共4页
基金
福建省自然科学基金资助项目(2012J01277)
福建省青年科技人才创新项目(2001J030)
文摘
采用磁控共溅射及后退火技术制备Ge,Al共掺SiO2薄膜,通过X射线衍射谱和傅里叶红外吸收谱对样品进行表征,并采用皮秒脉冲激光器的单光束Z扫描技术研究薄膜的三阶非线性光学特性.研究结果表明:薄膜材料对1 064nm的光具有自散焦和双光子吸收效应,薄膜的三阶极化率χ(3)为3.84×10-16 m2.V-2.薄膜材料的三阶非线性极化率比SiO2和GeO2均有显著的提高,说明薄膜材料中的纳米Ge颗粒的量子限域效应及双光子吸收效应是其产生非线性光学效应增强的主要原因,同时Al的掺杂也促进了材料的三阶非线性光学效应的增强.
关键词
三阶非线性
光学性质
Ge
/al-sio
2
薄膜
Z扫描技术
磁控溅射
Keywords
third-order nonlinear
optical properties
c-e/al-sio2 film
Z-scan technique
magnetron sputtering
分类号
O437 [机械工程—光学工程]
O484.4 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Ge/Al-SiO_2薄膜材料的非线性光学特性
陈虎
王加贤
《华侨大学学报（自然科学版）》
CAS
北大核心
2012
1
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职称材料
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