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操作条件对化学镀Co-P薄膜磁性的影响 被引量:10
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作者 宣天鹏 郑晓华 +1 位作者 刘玉 邓宗钢 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 1998年第5期12-13,共2页
用ASM-SX、DXS-1型扫描电镜、Dmax/rB旋转阳极X射线衍射仪和H-800型透射电子显微镜分析观察了化学镀Co-P镀层的成分、组织结构和表面形貌,并用71型显微硬度计测量了其硬度,用LDJ-9000型振动磁... 用ASM-SX、DXS-1型扫描电镜、Dmax/rB旋转阳极X射线衍射仪和H-800型透射电子显微镜分析观察了化学镀Co-P镀层的成分、组织结构和表面形貌,并用71型显微硬度计测量了其硬度,用LDJ-9000型振动磁强计测定了膜层的矫顽力和矩形比。研究结果表明:化学镀Co-P镀层为晶态,是磷在钴中形成的过饱和溶液,组织中有大量层错;该镀层具有较高矫顽力和矩形比,适宜作磁记录介质,膜层的易磁化方向与膜面垂直,具有垂直记录特性;薄膜越厚,pH值越高,薄膜的矫顽力就越高。操作条件的改变对矩形比的影响不大。 展开更多
关键词 化学镀 磁记录介质 钴磷合金 带基 磁性 镀膜
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化学镀非晶态Co-Ni-P薄膜磁性的研究 被引量:5
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作者 宣天鹏 郑晓华 +1 位作者 刘玉 邓宗钢 《电镀与精饰》 CAS 1998年第1期1-3,共3页
化学镀Co-Ni-P薄膜镀态下为非晶态结构,Co-Ni-P薄膜的矫顽力较低,矩形比较高,其易磁化方向与膜面垂直。薄膜越厚,矫顽力越高,矩形比越低;镀液的pH值越高,矫顽力越高;当以化学镀Ni-P合金作为中间镀层时,可... 化学镀Co-Ni-P薄膜镀态下为非晶态结构,Co-Ni-P薄膜的矫顽力较低,矩形比较高,其易磁化方向与膜面垂直。薄膜越厚,矫顽力越高,矩形比越低;镀液的pH值越高,矫顽力越高;当以化学镀Ni-P合金作为中间镀层时,可获得较高的矫顽力和矩形比。 展开更多
关键词 化学镀 磁记录介质 镀膜 钴镍磷合金 磁性 带基
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热处理温度对NiFe薄膜磁电阻的影响 被引量:3
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作者 郑鹉 高居里 +1 位作者 王艾玲 阎明朗 《磁记录材料》 1995年第4期7-10,共4页
本文用磁控溅射法制备了厚度20~200nm的NiFe合金薄膜。研究了热处理温度对NiFe薄膜电阻(电阻率)、各向异性磁电阻地和软磁性能的影响。适当温度下的热处理可以减小NiFe薄膜的电阻、增大其各向异性磁电阻比。
关键词 热处理 温度 薄膜磁电阻 磁电阻 带基
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录像磁带带基用聚酯树脂技术(Ⅰ) 被引量:1
4
作者 周文志 《聚酯工业》 CAS 1992年第1期57-62,共6页
作者多年来从事录像磁带基用聚酯树脂技术研究。本讲座为作者近著,本刊将分6期连载,主要内容为:1.概述;2.录像带对带基及树脂的要求;3.录像带带基用PET树脂的特性;4.录像带带基用PET树脂的基本原料;5.录像带基用PET树脂配方技术;6.添加... 作者多年来从事录像磁带基用聚酯树脂技术研究。本讲座为作者近著,本刊将分6期连载,主要内容为:1.概述;2.录像带对带基及树脂的要求;3.录像带带基用PET树脂的特性;4.录像带带基用PET树脂的基本原料;5.录像带基用PET树脂配方技术;6.添加剂技术;7.树脂的高纯化稳定化技术;8.录像带带基用树脂工业的发展动向。 展开更多
关键词 录像 磁带 带基 聚酯树脂
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Tb-Fe-Co磁光薄膜溅射条件对Kerr转角的影响
5
作者 张喜燕 刘志农 陈志武 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期334-335,共2页
在实际磁光盘生产线上大都使用合金溅射靶溅射记录介质膜,而尚未有直接使用合金靶研究这些关系的报道.我们首先研制了用于磁光溅射的系列合金靶,并完善了靶材制造工艺参数.且在此基础上进行了成分以及溅射参数对各种磁光性能影响的... 在实际磁光盘生产线上大都使用合金溅射靶溅射记录介质膜,而尚未有直接使用合金靶研究这些关系的报道.我们首先研制了用于磁光溅射的系列合金靶,并完善了靶材制造工艺参数.且在此基础上进行了成分以及溅射参数对各种磁光性能影响的研究。首先确定了各种溅射功率和N2-Ar气流量下Al、Si以及 Tb-Fe-Co(Mo)的溅射速率,在此基础上通过改变溅射功率和调整气流量改变SiN的成分和厚度。在各种功率和气流量下溅射了 Mo膜,并测定了这些磁光膜的Kerr回线以获得 Kerr 转角等性能,从而探讨了溅射工艺条件对 Kerr的影响。 展开更多
关键词 磁光盘 磁光材料 磁光性能 合金靶 Kerr转角 磁光薄膜 溅射
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溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能 被引量:1
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作者 耿胜利 肖春涛 杨正 《磁记录材料》 1996年第4期10-12,共3页
用射频溅射法在Ar+N2混和气氛中制备了FeZrN膜,研究了制备条件及退火温度对样品结构及磁性能的影响。样品膜均由(110)取向的α-Fe小晶粒组成。Zr的添加有效地抑制了FeZrN膜中Fe4N相的生成,而Zr和N的加入不仅有利于减小晶粒尺寸,... 用射频溅射法在Ar+N2混和气氛中制备了FeZrN膜,研究了制备条件及退火温度对样品结构及磁性能的影响。样品膜均由(110)取向的α-Fe小晶粒组成。Zr的添加有效地抑制了FeZrN膜中Fe4N相的生成,而Zr和N的加入不仅有利于减小晶粒尺寸,而且能抑制非磁性初生层的生长,改善了软磁性能的热稳定性。 展开更多
关键词 带基薄膜 磁记录 射频溅射
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DyFeCo磁光记录膜的制备及其磁光记录特性的厚度效应
7
作者 熊锐 李佐宜 +2 位作者 杨晓非 胡作启 徐瑛 《磁记录材料》 1997年第2期32-34,共3页
利用磁控溅射方法制备DyFeCo薄膜,磁光特性的测量表明,在适当的溅射条件下,DyFeCO薄膜具有良好的磁光记录特性。同时,矫顽力的大小与薄膜厚度有关,其内在机制可“用内应力“钉扎”
关键词 磁光记录膜 制备 厚度效应 薄膜 带基 磁记录
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录像磁带带基用聚酯树脂技术(Ⅵ)
8
作者 周文志 《聚酯工业》 CAS 1993年第2期48-57,共10页
八、带基用PET树脂性能评价测试技术评价录像带带基用树脂性能的方法很多。有的性能直接用树脂就能评价,有的性能则需将树脂制成带基薄膜才能加以评价。有的性能可以沿用普通PET树脂的评价方法,有的性能可沿用普通PET薄膜的评价方法。
关键词 磁带 录像磁带 带基 聚酯树脂
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录像磁带带基用聚酯树脂技术(Ⅳ)
9
作者 周文志 《聚酯工业》 CAS 1992年第4期50-57,共8页
六、PET添加剂及添加技术大量使用的录像带带基是厚度为数μm到十几μm的PET薄膜。这样薄的薄膜,在使用过程中,甚至在制造过程中,都要从许多金属辊、轴、柱上通过,并与之接触、摩擦。即使是有背层录像带带基,在涂复背层之前也要与少量... 六、PET添加剂及添加技术大量使用的录像带带基是厚度为数μm到十几μm的PET薄膜。这样薄的薄膜,在使用过程中,甚至在制造过程中,都要从许多金属辊、轴、柱上通过,并与之接触、摩擦。即使是有背层录像带带基,在涂复背层之前也要与少量的辊、轴、柱接触摩擦。所以,录像带带基在不同程度上都有摩擦与磨损问题。解决这一问题的常用办法是加入惰性微粒,使带基表面有限粗糙化,降低摩擦系数。这种惰性微粒就是我们所说的添加剂。 展开更多
关键词 聚酯树脂 磁带录像机 磁带 带基
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录像磁带带基用聚酯树脂技术(Ⅱ)
10
作者 周文志 《聚酯工业》 CAS 1992年第2期55-60,共6页
作者多年来从事录像磁带基用聚酯树脂技术研究。本讲座为作者近著,本刊将分6期连载,主要内容为:1.概述;2.录像带对带基及树脂的要求;3.录像带带基用PET树脂的特性;4.录像带带基用PET树脂的基本原料;5.录像带基用PET树脂配方技术;6.添加... 作者多年来从事录像磁带基用聚酯树脂技术研究。本讲座为作者近著,本刊将分6期连载,主要内容为:1.概述;2.录像带对带基及树脂的要求;3.录像带带基用PET树脂的特性;4.录像带带基用PET树脂的基本原料;5.录像带基用PET树脂配方技术;6.添加剂技术;7.树脂的高纯化稳定化技术;8.录像带带基用树脂工业的发展动向。 展开更多
关键词 录像 磁带 带基 聚酯树脂
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反应溅射法制备的软磁铁氮膜
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作者 肖春涛 韩建平 +2 位作者 耿胜利 杨正 陈子瑜 《磁记录材料》 1996年第1期23-25,共3页
用反应溅射法在Ar+N2混合气氛中制备了软磁性铁氮膜,并对样品进行了真空退火热处理。考察了制备条件和热处理对铁氮膜的微结构和软磁性能的影响。发现氮气的加入导致了晶粒尺寸减小和软磁性能改善。
关键词 磁头 软磁铁氮膜 反应溅射 制备
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录像磁带带基用聚酯树脂技术(Ⅴ)
12
作者 周文志 《聚酯工业》 CAS 1993年第1期50-58,共9页
七、PET树脂的高纯化、稳定化技术为了使带基获得所需的表面性能、机械性能、厚度均匀性和尺寸稳定性,录像带带基用PET树脂必须是特性粘度稳定、杂质含量低的高纯度高清洁度树脂。高纯度高清洁度的重要标志是熔点高而稳定;DEG在0.4—1.... 七、PET树脂的高纯化、稳定化技术为了使带基获得所需的表面性能、机械性能、厚度均匀性和尺寸稳定性,录像带带基用PET树脂必须是特性粘度稳定、杂质含量低的高纯度高清洁度树脂。高纯度高清洁度的重要标志是熔点高而稳定;DEG在0.4—1.2%范围内,且稳定;齐聚物含量低;通过过滤器的能力强。并且,所制成的带基的表面粗糙度在规定范围内。高纯化高净化稳定化技术就是为了达到上述目的所需要的技术。 展开更多
关键词 聚酯 录像磁带 带基
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CoCr合金薄膜垂直磁化矫顽力与畴壁钉扎
13
作者 陈子瑜 阎明朗 《磁记录材料》 1994年第2期21-25,共5页
考虑到晶粒边界K'、A'、Ms'与晶粒的不同,即晶界对畴壁的钉扎作用,用矫顽力新理论探讨了CoCr合金薄膜垂直磁化的矫顽力机制。低Cr含量,低矫顿力CoCr薄膜及磁化过程为畴壁位移。随Cr含量增加,晶界的富Cr现象加剧,反磁... 考虑到晶粒边界K'、A'、Ms'与晶粒的不同,即晶界对畴壁的钉扎作用,用矫顽力新理论探讨了CoCr合金薄膜垂直磁化的矫顽力机制。低Cr含量,低矫顿力CoCr薄膜及磁化过程为畴壁位移。随Cr含量增加,晶界的富Cr现象加剧,反磁化过程为转动反磁化,对应于高桥涵力薄膜。 展开更多
关键词 矫顽力 铬钴合金 薄膜 磁化 磁记录 带基
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精车工艺参数对磁盘基片变形与光洁度的影响
14
作者 关学丰 伊春芝 《广西冶金》 1994年第1期26-28,共3页
关键词 磁盘 精车 基镀形 光洁度 工艺参数 车削
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热处理对化学镀钴磷薄膜组织结构和磁学性能的影响 被引量:2
15
作者 宣天鹏 郑晓华 +1 位作者 刘玉 邓宗钢 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 1999年第1期13-16,共4页
化学镀钴磷薄膜具有优良的磁学性能。研究了不同的热处理条件下薄膜组织结构对磁学性能的影响。化学镀钴磷薄膜镀态下为单一的α-固溶体,矫顽磁力和矩形比较高,具有磁各向异性。随着温度的升高,依次析出CoP2和Co2P相,并由... 化学镀钴磷薄膜具有优良的磁学性能。研究了不同的热处理条件下薄膜组织结构对磁学性能的影响。化学镀钴磷薄膜镀态下为单一的α-固溶体,矫顽磁力和矩形比较高,具有磁各向异性。随着温度的升高,依次析出CoP2和Co2P相,并由密排六方结构的α-Co向面心立方结构的β-Co转变;矫顽磁力经200℃,1h热处理后达到最大值,随后呈下降趋势。 展开更多
关键词 钴磷薄膜 化学镀 磁学性 热处理 镀合金 磁带
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用红外吸收法非接触测量涤纶薄膜的厚度 被引量:3
16
作者 廖复中 魏和荣 +1 位作者 赵文奎 方毓文 《计量学报》 CSCD 1990年第4期266-270,共5页
本文叙述了一种利用高分子材料对特定波长红外线吸收原理来实现涤纶薄膜非接触测厚的新方法。与接触法相比具有速度快、非接触、可实现在线测量的优点,并且无β射线测厚法的放射性污染。文中还对HW-1型红外测厚仪作了简单介绍。
关键词 红外吸收法 测量 涤纶 薄膜 厚度
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快淬纳米复合α-Fe/Pr_2Fe_(14)B薄带的硬磁性研究 被引量:1
17
作者 王云 李宝河 张庆海 《北京化工大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2000年第2期84-87,共4页
通过熔体快淬法得到α Fe/Pr2 Fe1 4 B纳米双相磁体 ,研究了不同辊速快淬带的磁性能 ,找到最佳直接快淬辊速条件 ,并比较了直接快淬得到的样品和非晶薄带晶化后得到的样品的磁性能 ,发现直接快淬得到的样品的矫顽力和机械性能优于非晶... 通过熔体快淬法得到α Fe/Pr2 Fe1 4 B纳米双相磁体 ,研究了不同辊速快淬带的磁性能 ,找到最佳直接快淬辊速条件 ,并比较了直接快淬得到的样品和非晶薄带晶化后得到的样品的磁性能 ,发现直接快淬得到的样品的矫顽力和机械性能优于非晶晶化样品。 展开更多
关键词 纳米复合磁体 熔体快淬 硬磁性 薄带
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如何减少双轴拉伸聚酯薄膜生产中低聚物的污染 被引量:2
18
作者 吴斌 《磁记录材料》 1995年第2期32-36,共5页
关键词 带基生产 聚酯薄膜 低聚物污染 磁记录介质
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磁带用粘合剂与片基材料的进展 被引量:1
19
作者 陈德薰 《磁记录材料》 1998年第2期25-27,36,共3页
关键词 磁带 胶粘剂 片基材料 进展 带基生产
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磁光记录薄膜温度特性测量方法研究
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作者 朱全庆 李震 +2 位作者 胡用时 邱进军 李佐宜 《磁记录材料》 1999年第3期6-7,28,共3页
光调制直接重写磁光盘为多层耦合膜,要求各功能层厚度很小,同时饱和磁化强度从很低,用一般的VSM测量系统的测定各功能层的Ms及其与温度的关系比较困难。我们采用了多种技术,包括隔震技术、仪器参数综合优化和误差分析等方法,提高了... 光调制直接重写磁光盘为多层耦合膜,要求各功能层厚度很小,同时饱和磁化强度从很低,用一般的VSM测量系统的测定各功能层的Ms及其与温度的关系比较困难。我们采用了多种技术,包括隔震技术、仪器参数综合优化和误差分析等方法,提高了VSM测量灵敏度,成功测出了磁光记录薄膜各功能层的温度特性及其居里温度,取得了很好的效果。 展开更多
关键词 磁光记录薄膜 温度特性 测量方法 磁化强度
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