以双氧水为氧化剂,通过氧化还原反应降低二甲基环硅氧烷混合物(DMC)中的杂质含量。研究了双氧水加入量、反应温度、反应溶液的pH值等对DMC杂质含量的影响。结果表明:反应溶液的pH值对DMC中杂质含量的影响最明显。较佳工艺条件为:500 g ...以双氧水为氧化剂,通过氧化还原反应降低二甲基环硅氧烷混合物(DMC)中的杂质含量。研究了双氧水加入量、反应温度、反应溶液的pH值等对DMC杂质含量的影响。结果表明:反应溶液的pH值对DMC中杂质含量的影响最明显。较佳工艺条件为:500 g DMC中,双氧水加入量8%,反应温度80℃,反应溶液pH值为10。展开更多
文摘以双氧水为氧化剂,通过氧化还原反应降低二甲基环硅氧烷混合物(DMC)中的杂质含量。研究了双氧水加入量、反应温度、反应溶液的pH值等对DMC杂质含量的影响。结果表明:反应溶液的pH值对DMC中杂质含量的影响最明显。较佳工艺条件为:500 g DMC中,双氧水加入量8%,反应温度80℃,反应溶液pH值为10。
