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钽舟真空蒸发制备高纯金属、合金和硅化物薄膜及其在大规模集成电路中的应用
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作者 张一平 徐元森 《应用科学学报》 CAS CSCD 1989年第1期47-51,共5页
本文提出以纯钽舟为电阻加热器真空蒸发高纯度Al、Cr、Si、Ti、Al-Si、TiSi等薄膜的方法,测定了这些薄膜的性质.证明钽舟蒸发薄膜具有投资省、操作简单、控制方便、产品沾污少、纯度高等优点,适合于大规模集成电路的研制.
关键词 钽舟 真空蒸发 薄膜 集成电路
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