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JS-4正性光刻胶两重性的研究 被引量：1
1
作者 浦家诚 夏明德 《感光材料》 北大核心 1993年第6期15-20,共6页
在ＪＳ－４紫外正性光刻胶（光敏剂为２－叠氮－１萘醌－５－磺酸－双酚Ａ酯）中加入添加剂后，经过涂布，前烘，掩膜触曝光，加热，全面曝光，碱液显影及刻蚀等使用步骤，可得与掩膜上图案相反的图像即负像；若无加热及全面曝光步骤，... 在ＪＳ－４紫外正性光刻胶（光敏剂为２－叠氮－１萘醌－５－磺酸－双酚Ａ酯）中加入添加剂后，经过涂布，前烘，掩膜触曝光，加热，全面曝光，碱液显影及刻蚀等使用步骤，可得与掩膜上图案相反的图像即负像；若无加热及全面曝光步骤，则得正像。添加剂的类型对光刻胶的两重性具有重要作用。本文通过实验筛选出碳酸胍，硝酸胍，苯胺以及苯并咪唑等添加剂，可使ＪＳ－４正性光刻胶具有两重性，即可得正图像，也可得负图像。除苯胺外， 展开更多
关键词 光刻胶 正性光刻胶 助剂
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光致抗蚀剂的国内外发展动向
2
作者 刘锡洹 慎微 《影像科学与实践》 1990年第4期24-26,F004,共4页
关键词 光刻胶 光刻技术 微电子学
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