期刊文献+
共找到18,306篇文章
< 1 2 250 >
每页显示 20 50 100
4T/8T像素结构CMOS图像传感器的空间辐照影响及加固技术研究
1
作者 王婷婷 杨小曦 +2 位作者 姜浩 张琪 张亮 《现代电子技术》 北大核心 2026年第1期1-7,共7页
互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器(CIS)常用于空间光通信中的捕获、跟踪、瞄准(ATP)系统中探测信标光方向。宇宙空间辐射会影响CMOS图像传感器的工作性能及工作寿命,研究空间辐照对器件的影响原理及抗辐照加固技术可以提升CMOS图... 互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器(CIS)常用于空间光通信中的捕获、跟踪、瞄准(ATP)系统中探测信标光方向。宇宙空间辐射会影响CMOS图像传感器的工作性能及工作寿命,研究空间辐照对器件的影响原理及抗辐照加固技术可以提升CMOS图像传感器实际工程应用能力。因4T/8T(Transistor)像素结构CMOS图像传感器在ATP系统中有广泛应用,从电离总剂量效应、位移损伤效应、单粒子效应三个方面综述了4T/8T像素结构CIS国内外辐照试验研究成果及抗辐照效应加固技术。提出针对8T像素结构CIS单粒子效应的加固方法,实现了CMOS图像传感器与FPGA单粒子翻转效应时无需断电重启的校正和单粒子闩锁时的关断与重启,提升了CMOS图像传感器的抗辐射效应性能。 展开更多
关键词 CMOS图像传感器 电离总剂量效应 位移损伤效应 单粒子效应 抗辐射加固技术 空间辐射
在线阅读 下载PDF
高功率器件低温失效案例分析
2
作者 范国莹 赵景波 +4 位作者 张晓帆 银军 徐守利 倪涛 李保第 《通讯世界》 2026年第1期151-153,共3页
随着微波组件向高功率、小型化方向发展,受限于结构设计与材料选择,其整体与局部热量的耗散成为工程应用中的突出挑战。基于此,针对一款P波段400 W功率载片在低温应用环境下发生的失效案例开展原理分析与技术研究,发现该载片引入氮化铝... 随着微波组件向高功率、小型化方向发展,受限于结构设计与材料选择,其整体与局部热量的耗散成为工程应用中的突出挑战。基于此,针对一款P波段400 W功率载片在低温应用环境下发生的失效案例开展原理分析与技术研究,发现该载片引入氮化铝等高导热材料后,虽提升了整体散热性能,却导致局部散热速率过快。在低温工作条件下,因热应力反复作用,印制电路板表面铜带线疲劳开裂、电性能恶化,最终导致器件烧毁。通过失效现象分析、实验复现与仿真验证,阐明了该失效机制,可为相关人员提供参考。 展开更多
关键词 微波组件 低温 高功率 失效
在线阅读 下载PDF
基于缓变复合沟道的高线性GaN HEMT仿真研究
3
作者 李世权 蔡利康 +1 位作者 林罡 章军云 《电子技术应用》 2026年第1期43-47,共5页
基于半导体工艺与器件模拟工具(TCAD)提出并仿真了一种基于缓变组分AlGaN和InGaN复合沟道的高线性GaN HEMT器件,该结构的复合沟道层形成了三维电子气和二维电子气双沟道分布,器件栅压摆幅高达4.1 V,比常规突变异质结HEMT提高2.2 V。器... 基于半导体工艺与器件模拟工具(TCAD)提出并仿真了一种基于缓变组分AlGaN和InGaN复合沟道的高线性GaN HEMT器件,该结构的复合沟道层形成了三维电子气和二维电子气双沟道分布,器件栅压摆幅高达4.1 V,比常规突变异质结HEMT提高2.2 V。器件跨导的二阶导数的峰值比常规器件的低大约56%,显示其优越的抑制三阶互调的能力。另外,还探究了自热效应对器件线性度的影响。所提出的器件结构在高线性应用领域具有良好的应用前景。 展开更多
关键词 线性度 缓变沟道 栅压摆幅 GaN HEMT 跨导
在线阅读 下载PDF
基于高低肖特基势垒异或非单器件的研究
4
作者 赵耀 刘溪 《微处理机》 2026年第1期21-26,共6页
本研究提出了一种纳米级高低肖特基势垒异或非单器件。与传统的BRFET不同,该器件在源/漏极(S/D)与硅基底的接触界面引入两种不同的金属材料,成功构筑了两种肖特基势垒结构。其中,第一种金属与半导体导带形成的势垒高度低于带隙宽度的一... 本研究提出了一种纳米级高低肖特基势垒异或非单器件。与传统的BRFET不同,该器件在源/漏极(S/D)与硅基底的接触界面引入两种不同的金属材料,成功构筑了两种肖特基势垒结构。其中,第一种金属与半导体导带形成的势垒高度低于带隙宽度的一半,而其与价带形成的肖特基势垒高度则高于带隙宽度的一半;第二种金属与价带形成的势垒高度亦低于带隙宽度的一半,而其与导带形成的肖特基势垒高度则高于带隙宽度的一半。因此,该器件形成了一个一高一低的双肖特基势垒(HLBSB)。与传统BRFET相比,该器件可使更多载流子通过n模式和p模式的热电子发射进入半导体区域,而传统BRFET则主要通过带带隧穿效应产生载流子。因此,该高低肖特基势垒异或非单器件可实现更大的正向电流。通过器件仿真,研究了高肖特基势垒异或非单器件的性能,并与BRFET的性能进行了比较。基于能带理论的分析解释了其工作原理,同时对其输出特性进行了研究和验证。 展开更多
关键词 肖特基势垒 正向电流 场效应晶体管 热电子发射
在线阅读 下载PDF
基于对接职业教育智慧大脑院校数据中台的实施路径——以重庆青年职业技术学院为例
5
作者 王博 王建中 黎邦银 《现代信息科技》 2026年第2期139-144,共6页
为了实施国家教育数字化战略行动,落实职业院校对接职业教育智慧大脑院校数据中台建设要求,文章分析对接任务的10个数据子集中的98张表,梳理并制定本校数据标准,实现了数据汇聚、存储、运算、开发、服务、可视化分析、质量安全管控一体... 为了实施国家教育数字化战略行动,落实职业院校对接职业教育智慧大脑院校数据中台建设要求,文章分析对接任务的10个数据子集中的98张表,梳理并制定本校数据标准,实现了数据汇聚、存储、运算、开发、服务、可视化分析、质量安全管控一体化,利用CampusCube数据基座,方便快捷地实现了数据的全量推送和增量推送,快速高效对接职业教育数据中台,降低了开发和维护成本,为智慧校园建设提供了参考。 展开更多
关键词 数据中台 智慧大脑 数据中心 数据基座
在线阅读 下载PDF
基于栅控二极管的异或传输门研究
6
作者 潘彪 靳晓诗 《微处理机》 2026年第1期27-31,39,共6页
本研究提出了一种基于栅控二极管的异或传输门晶体管。由于栅极与漏极之间所加电压极性的相异,在强电场作用下,两个电极之间的本征硅区域将发生隧穿效应。同时,源漏之间的漏极电压不同,会形成或降低势垒,从而控制器件漏电流的导通或截... 本研究提出了一种基于栅控二极管的异或传输门晶体管。由于栅极与漏极之间所加电压极性的相异,在强电场作用下,两个电极之间的本征硅区域将发生隧穿效应。同时,源漏之间的漏极电压不同,会形成或降低势垒,从而控制器件漏电流的导通或截止。通过求解二维泊松方程,对表面电势和电场进行分析建模,并利用凯恩模型计算隧穿电流。最终,分析结果与Silvaco TCAD模拟结果进行了对比验证。 展开更多
关键词 异或传输门 二极管 隧道效应 凯恩模型
在线阅读 下载PDF
基于改进RT-DETR的织物疵点检测方法
7
作者 李敏 周双 +2 位作者 朱萍 崔树芹 颜小运 《电子测量技术》 北大核心 2025年第14期176-184,共9页
针对织物疵点种类有限、尺度变化大以及模型检测精度低等问题,提出了一种基于RT-DETR的织物疵点检测方法DHR-DETR。首先,创新性地设计了多路径坐标注意力机制模块(MPCA),并将其与可变形卷积模块(DCNv2)深度融合,构建动态可变形卷积模块... 针对织物疵点种类有限、尺度变化大以及模型检测精度低等问题,提出了一种基于RT-DETR的织物疵点检测方法DHR-DETR。首先,创新性地设计了多路径坐标注意力机制模块(MPCA),并将其与可变形卷积模块(DCNv2)深度融合,构建动态可变形卷积模块,以应对复杂多样的疵点形状。其次,采用高水平筛选特征金字塔(HS-FPN)替换跨尺度特征融合模块(CCFM),实现多层次特征的高效融合并有效降低了模型复杂度。最后,构建了兼具轻量化和特征增强能力的RetBlockC3模块,并集成至HS-FPN网络,进一步强化模型对局部信息的捕捉能力,同时显著提升模型的轻量化性能。试验结果表明,DHR-DETR方法在公开和自制织物数据集上的mAP@0.5分别达到了50.9%和97.5%,相较原模型提高了2.9%和0.6%,参数量仅为17.9 M,计算量降低了37%,显著提升了模型的检测性能和部署效率,具备在实际工业检测任务中的应用潜力。 展开更多
关键词 RT-DETR 疵点检测 动态可变形卷积 高水平筛选特征金字塔 轻量化
原文传递
基于GaN HEMT太赫兹探测器的单光源多通道区截测速研究
8
作者 陈彪 张金峰 +1 位作者 孙建东 秦华 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期190-199,共10页
高速弹丸初速与运动姿态的精确测量是火炮、电磁炮等武器系统效能评估的关键技术。然而,复杂测试环境下的火光、烟雾及等离子体干扰导致传统光电测速技术信噪比急剧下降。为此,文中提出基于太赫兹波的新型测速方案,其兼具等离子体穿透... 高速弹丸初速与运动姿态的精确测量是火炮、电磁炮等武器系统效能评估的关键技术。然而,复杂测试环境下的火光、烟雾及等离子体干扰导致传统光电测速技术信噪比急剧下降。为此,文中提出基于太赫兹波的新型测速方案,其兼具等离子体穿透、火光烟雾透射与电磁抗干扰特性。结合AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(High-Electron-Mobility Transistor,HEMT)探测器的高速响应优势,构建单光源多通道区截测速系统,采用高斯准光-泊松点定位联合建模方法,有效解决太赫兹波衍射问题。所构建系统通过单光源多通道架构设计,光学元件相比传统装置减少50%以上,结合锂电池供电与硅透镜耦合技术,实现了系统小型化与环境适应性提升。在3000 m/s弹速模拟测试中,基于线列探测器局部极大值提取与远场扩散模型修正,测速误差由>10%降低至0.83%,且在3.5~4.5 m物距范围内保持稳定。通过理论建模、数值仿真与实验验证的全链路研究,证实了该方案为电磁炮初速测量等复杂环境下高速目标的精准测速提供了新型技术方案,未来将通过高密度阵列开发、动态模型建立及真实环境实测,进一步提升系统的实时性与鲁棒性。 展开更多
关键词 区截测速 高斯光束 太赫兹探测器 氮化镓HEMT
原文传递
光电突触器件权重离散特性对图像识别性能的影响
9
作者 陈小青 黄翔茂 +1 位作者 刘恒阳 张永哲 《北京工业大学学报》 北大核心 2026年第2期130-137,共8页
随着互联网和数字技术的快速发展,各类数据爆炸式增长,以图像识别为代表的任务亟须对海量数据高效分析和处理的手段,从而推动人工智能技术的快速发展。现有的基于冯诺依曼架构的常规图像识别技术由于自身感、存、算分离的特点,在运算速... 随着互联网和数字技术的快速发展,各类数据爆炸式增长,以图像识别为代表的任务亟须对海量数据高效分析和处理的手段,从而推动人工智能技术的快速发展。现有的基于冯诺依曼架构的常规图像识别技术由于自身感、存、算分离的特点,在运算速度和功耗方面受到极大的限制。为此,近年来发展了一种非冯诺依曼架构的片上图像识别解决方案,这种新型的基于人工突触的存算一体图像识别技术相比传统冯诺依曼架构的图像识别技术具有功耗更低、运算速度更快的优点。然而,由于突触元件的设计和制造技术限制,人工突触的电导往往是离散的,导致该类新型图像识别技术的可部署权重值是分散的,这意味着无法部署理想的神经网络权重,从而降低了图像识别效果。为了解决这一问题,基于Keras库设计了相关算法,将连续的理想权重量化成离散权重,以模拟实际器件的非理想特性。探讨了权重离散程度、权重的分布模式以及图像不同区域对神经网络在图像识别任务中准确率的影响。研究发现,通过增加权重选项数,即使用精度更高的器件,可以有效减少权重非理想特性的影响;权重离散特性对信息密度高的图像区域影响更大,在资源受限时,应优先考虑这些区域;权重的各种分布模式在图像不同区域产生的效果各异,每个子区域都有对应的最优分布。在不同子区域选择各自最优权重分布所组成的“综合分布模式”可以最有效地降低离散特性所带来的影响,但相比单一的分布模式,性能提升有限。探究结果揭示了图像各区域的不同权重量化级别对识别性能的具体影响,为优化基于人工突触的图像识别系统提供了有价值的参考。 展开更多
关键词 人工突触 离散权重 量化 图像识别 神经网络 非冯诺依曼计算
在线阅读 下载PDF
氧化温度与NO退火组分协同优化提升SiC MOSFET界面特性与器件性能
10
作者 刘玮 陈刚 +4 位作者 夏云 桂雅雯 陈昱 田佳民 杜融鑫 《微纳电子技术》 2026年第1期104-109,共6页
针对碳化硅(SiC)金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)中SiC/SiO2界面态密度偏高、迁移率低、栅氧击穿场强退化与阈值电压不稳定问题,系统研究了氧化温度、NO退火组分对界面特性及器件性能的调控机制。通过设计三组对比实验(氧化温度... 针对碳化硅(SiC)金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)中SiC/SiO2界面态密度偏高、迁移率低、栅氧击穿场强退化与阈值电压不稳定问题,系统研究了氧化温度、NO退火组分对界面特性及器件性能的调控机制。通过设计三组对比实验(氧化温度1200~1350℃;退火温度1250~1300℃;NO组分10%~100%),制备金属-氧化物-半导体(MOS)电容、平面MOSFET及横向MOSFET。电学表征与物性分析发现:温度升至1300℃可抑制界面碳团簇,阈值电压负漂移率改善44%,但1350℃工艺因氧空位增多导致栅氧反向击穿场强下降7%;10%NO退火较100%NO显著提升场效应迁移率38%,这源于氮原子对界面悬挂键的高效钝化。在最优工艺(1300℃氧化温度结合1300℃/10%NO退火)条件下,器件综合性能最优:栅氧正向击穿场强9.65 MV/cm、迁移率14.4 cm^(2)/(V·s)、阈值电压负漂移率-9%。本研究为SiC MOSFET栅氧工艺提供了明确的参数窗口与机理解释。 展开更多
关键词 SiC金属-氧化物-半导体(MOS)电容 SiC横向金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET) 栅氧工艺 场效应迁移率 栅氧击穿场强 阈值电压漂移
原文传递
低噪声Colpitts振荡器的研究与设计
11
作者 韩德生 陈磊 《电子设计工程》 2026年第1期85-90,共6页
为满足多普勒雷达传感器对高接收灵敏度的需求,提出了一种基于DONGBU110 nm CMOS工艺的Colpitts LC振荡器,其具有良好的相位噪声和高频率稳定度的特点,可以为多普勒雷达传感器接收机电路提供一个干净的本振信号。所提出的Colpitts LC振... 为满足多普勒雷达传感器对高接收灵敏度的需求,提出了一种基于DONGBU110 nm CMOS工艺的Colpitts LC振荡器,其具有良好的相位噪声和高频率稳定度的特点,可以为多普勒雷达传感器接收机电路提供一个干净的本振信号。所提出的Colpitts LC振荡器采用了复用电流和增强跨导技术,以提高Colpitts振荡器的电流效率进而实现在较低功耗下保持电路的正常启动和良好的相位噪声。该LC振荡器在1.2 V电源下的工作电流为1.5 mA,功耗为1.8 mW。该设计重点关注振荡器的低频部分的相位噪声,经优化后相位噪声为-37 dBc/Hz@1 kHz和-113.5 dBc/Hz@1 MHz。 展开更多
关键词 Colpitts振荡器 低功耗 低噪声 高频率稳定性 多普勒雷达
在线阅读 下载PDF
Influencing factors of noise characteristics in EBCMOS with uniformly doped P-type substrates
12
作者 Xinyue He Gangcheng Jiao +4 位作者 Hongchang Cheng Tianjiao Lu Ye Li De Song Weijun Chen 《Journal of Semiconductors》 2026年第1期30-40,共11页
In this study,with the aim of achieving a high signal-to-noise ratio(SNR)in an electron-bombarded complementary metal-oxide-semiconductor(EBCMOS)imaging chip,we analyzed the sources of noise using principles from low-... In this study,with the aim of achieving a high signal-to-noise ratio(SNR)in an electron-bombarded complementary metal-oxide-semiconductor(EBCMOS)imaging chip,we analyzed the sources of noise using principles from low-light-level imaging and semiconductor theory,and established a physical computational model that relates the electron-multiplication layer to the noise characteristics of an EBCMOS chip in a uniformly doped structure with a P-type substrate.We conducted theoretical calculations to analyze the effects on noise characteristics of the passivation layer material and thickness,P-substrate doping concentration,P-substrate thickness,incident electron energy,and substrate temperature.By comparing the characteristics of pixel noise,dark current,multiplication electron numbers,and SNR under various structures,we simulated optimized structural parameters of the device.Our simulation results showed that the noise characteristics of the device could be optimized using an Al_(2)O_(3)passivation thickness of 15 nm and substrate temperature of 260 K,and by decreasing the doping concentration and thickness of the P-type substrate and increasing the incident electron energy.The optimized SNR were 252 e/e.And the substantial impact of dark current noise,primarily governed by interfacial defects,on the overall noise characteristics of the device.This research offers theoretical support to develop EBCMOS imaging chips with high gain and SNR. 展开更多
关键词 EBCMOS dark current electron number GAIN SNR
在线阅读 下载PDF
A low-thermal-budget MOSFET-based reservoir computing for temporal data classification
13
作者 Yanqing Li Feixiong Wang +5 位作者 Heyi Huang Yadong Zhang Xiangpeng Liang Shuang Liu Jianshi Tang Huaxiang Yin 《Journal of Semiconductors》 2026年第1期42-48,共7页
Neuromorphic devices have garnered significant attention as potential building blocks for energy-efficient hardware systems owing to their capacity to emulate the computational efficiency of the brain.In this regard,r... Neuromorphic devices have garnered significant attention as potential building blocks for energy-efficient hardware systems owing to their capacity to emulate the computational efficiency of the brain.In this regard,reservoir computing(RC)framework,which leverages straightforward training methods and efficient temporal signal processing,has emerged as a promising scheme.While various physical reservoir devices,including ferroelectric,optoelectronic,and memristor-based systems,have been demonstrated,many still face challenges related to compatibility with mainstream complementary metal oxide semiconductor(CMOS)integration processes.This study introduced a silicon-based schottky barrier metal-oxide-semiconductor field effect transistor(SB-MOSFET),which was fabricated under low thermal budget and compatible with back-end-of-line(BEOL).The device demonstrated short-term memory characteristics,facilitated by the modulation of schottky barriers and charge trapping.Utilizing these characteristics,a RC system for temporal data processing was constructed,and its performance was validated in a 5×4 digital classification task,achieving an accuracy exceeding 98%after 50 training epochs.Furthermore,the system successfully processed temporal signal in waveform classification and prediction tasks using time-division multiplexing.Overall,the SB-MOSFET's high compatibility with CMOS technology provides substantial advantages for large-scale integration,enabling the development of energy-efficient reservoir computing hardware. 展开更多
关键词 schottky barrier MOSFET back-end-of-line integration reservoir computing
在线阅读 下载PDF
基于小分子有机电致发光材料的合成、性能的研究
14
作者 王珅琛 《新潮电子》 2026年第1期142-144,共3页
随着5G时代的来临,电子器件在人们的日常生活中越来越重要,制备光电性能良好的发光材料具有相当的学术价值和实际意义。具有成品率高、成本低、主动发光、响应速度快,分辨率高等优点的有机电致发光器件逐渐取代传统的阴极射线管,占据市... 随着5G时代的来临,电子器件在人们的日常生活中越来越重要,制备光电性能良好的发光材料具有相当的学术价值和实际意义。具有成品率高、成本低、主动发光、响应速度快,分辨率高等优点的有机电致发光器件逐渐取代传统的阴极射线管,占据市场的主导地位。按照材料的分子结构可以将有机电致发光材料主要分为小分子有机化合物和高分子聚合物,蒽类衍生物、芴类小分子、香豆素衍生物以及喹吖啶酮是常见的小分子化合物材料,其中红光、蓝光、绿光发光材料在全彩显示中起着至关重要的作用。这些材料所制备的发光器件的发光亮度、发光效率和外量子效率直接反映材料的光电性能。 展开更多
关键词 有机电致发光器件 有机小分子材料 发光性能
在线阅读 下载PDF
DC/AC纳米片器件的自加热效应仿真
15
作者 李远达 《电子制作》 2026年第1期99-102,共4页
本文基于Sentaurus TCAD软件对纳米片器件进行建模,系统研究了其在直流偏压、器件结构变化及交流偏压条件下的自加热效应及其影响机制。仿真结果显示,在直流偏压下,自加热效应导致器件开态电流下降,最大晶格温度可达480.49K;随着纳米片... 本文基于Sentaurus TCAD软件对纳米片器件进行建模,系统研究了其在直流偏压、器件结构变化及交流偏压条件下的自加热效应及其影响机制。仿真结果显示,在直流偏压下,自加热效应导致器件开态电流下降,最大晶格温度可达480.49K;随着纳米片宽度和厚度的增大,开态电流和最大晶格温度均有所提升。在交流偏压下,器件晶格温度随栅极电压升高而增加,并在脉冲持续约150ps时达到热平衡,同时可在相同时间尺度恢复至环境温度。在多个脉冲循环作用下,器件晶格温度呈持续上升趋势,表现出明显的热量积累效应。本研究为纳米片器件的热管理设计及高频工作可靠性分析提供了理论参考。 展开更多
关键词 纳米片器件 自加热效应 Sentaurus TCAD
在线阅读 下载PDF
不同栅氧退火工艺下的SiC MOS电容及其界面电学特性 被引量:1
16
作者 付兴中 刘俊哲 +4 位作者 薛建红 尉升升 谭永亮 王德君 张力江 《半导体技术》 CAS 北大核心 2025年第1期32-38,共7页
SiC MOS电容的电学特性和栅氧界面特性是评价和改进SiC MOS器件制造工艺的重要依据。通过依次测试SiC MOS器件的氧化物绝缘特性、界面态密度、偏压温度应力不稳定性(偏压温度应力条件下的平带电压漂移)、氧化物陷阱电荷密度和可动电荷... SiC MOS电容的电学特性和栅氧界面特性是评价和改进SiC MOS器件制造工艺的重要依据。通过依次测试SiC MOS器件的氧化物绝缘特性、界面态密度、偏压温度应力不稳定性(偏压温度应力条件下的平带电压漂移)、氧化物陷阱电荷密度和可动电荷密度的方法,对分别经过氮等离子体氧化后退火(POA)处理、氮氢混合等离子体POA处理、氮氢氧混合等离子体POA处理、氮氢氯混合等离子体POA处理的SiC MOS电容的电学特性和栅氧界面特性进行了分析。结果表明,该方法可以系统地评价SiC MOS电容电学特性和栅氧界面特性,经过氮氢氯混合等离子体POA处理的SiC MOS电容可以满足高温、大场强下长期运行的性能指标。 展开更多
关键词 SiC MOS电容 氧化后退火(POA) 平带电压漂移 氧化物陷阱电荷 可动电荷
原文传递
MOCVD生长的外延层掺杂氧化镓场效应晶体管 被引量:1
17
作者 郁鑫鑫 沈睿 +11 位作者 于含 张钊 赛青林 陈端阳 杨珍妮 谯兵 周立坤 李忠辉 董鑫 张洪良 齐红基 陈堂胜 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第2期312-318,共7页
本文基于Ga_(2)O_(3)MOCVD外延材料,开展了Ga_(2)O_(3)场效应晶体管的研制和性能研究。为了降低器件的导通电阻,优化了外延层设计,将掺杂浓度提高至1×10^(18) cm^(-3)以上。通过长沟道器件提取的外延层的电子浓度和场效应迁移率分... 本文基于Ga_(2)O_(3)MOCVD外延材料,开展了Ga_(2)O_(3)场效应晶体管的研制和性能研究。为了降低器件的导通电阻,优化了外延层设计,将掺杂浓度提高至1×10^(18) cm^(-3)以上。通过长沟道器件提取的外延层的电子浓度和场效应迁移率分别为2×10^(18) cm^(-3)和55 cm^(2)/(V·s),相应的沟道方阻为10.3 kΩ/sq。研制的栅漏间距2和16μm的Ga_(2)O_(3)MOSFET器件的比导通电阻分别为2.3和40.0 mΩ·cm^(2),对应的击穿电压分别达到458和2324 V。为了进一步提升器件的击穿电压,采用p型NiO制备栅电极,研制的Ga_(2)O_(3)JFET器件导通电阻显著增大,但击穿电压分别提升至755和3000 V以上。计算了不同栅漏间距器件的功率优值(P-FOM),发现其随栅漏间距的增加先增大后减小,其中栅漏间距为8μm的Ga_(2)O_(3)MOSFET器件获得了最高的P-FOM,达到了192 MW/cm^(2),表明MOCVD外延技术在Ga_(2)O_(3)功率器件上具有重要的应用前景。 展开更多
关键词 氧化镓 MOCVD外延 掺杂 比导通电阻 击穿电压 功率优值
在线阅读 下载PDF
14 nm体硅FinFET工艺标准单元的总剂量效应 被引量:1
18
作者 李海松 王斌 +3 位作者 杨博 蒋轶虎 高利军 杨靓 《半导体技术》 北大核心 2025年第6期619-624,647,共7页
随着鳍式场效应晶体管(FinFET)在高辐射环境中的广泛应用,其在总剂量(TID)效应下的可靠性成为研究重点。基于14 nm体硅互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺FinFET标准单元,设计了一款TID效应实验验证电路。利用^(60)Co产生的γ射线研究了该... 随着鳍式场效应晶体管(FinFET)在高辐射环境中的广泛应用,其在总剂量(TID)效应下的可靠性成为研究重点。基于14 nm体硅互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺FinFET标准单元,设计了一款TID效应实验验证电路。利用^(60)Co产生的γ射线研究了该验证电路的静态电流以及环振电路的环振频率和触发器电路的时序特性随辐照总剂量变化的情况,表征了FinFET工艺的本征抗辐射能力。实验结果表明,当辐照总剂量达到1000 krad(Si)时,验证电路静态电流增大了121%,且整个过程基本呈线性趋势增长,增长斜率约为3.14μA/krad(Si);组合逻辑单元时序参数变化绝对值小于0.6%,时序逻辑单元CK到输出端的延迟时间变化绝对值小于1%。这主要归因于TID效应对FinFET的阈值电压和饱和电流影响较小,而对器件的亚阈值漏电流影响较大。该研究结果为先进工艺超大规模集成电路在空间辐射环境中的应用提供了一定的理论指导。 展开更多
关键词 14 nm 鳍式场效应晶体管(FinFET)工艺 组合逻辑 时序逻辑 总剂量(TID)效应 标准单元
原文传递
具有超低比导通电阻的双漂移区双导通路径新型横向双扩散金属氧化物半导体 被引量:2
19
作者 段宝兴 任宇壕 +1 位作者 唐春萍 杨银堂 《物理学报》 北大核心 2025年第8期221-228,共8页
本文提出了一种具有双漂移区和双导通路径的新型横向双扩散金属氧化物半导体(LDMOS)器件,实现了超低比导通电阻(R_(on,sp)).其漂移区采用P型和N型纵向交替所构成的双漂移区结构,并引入平面栅和槽型栅分别控制P型和N型漂移区,使得器件能... 本文提出了一种具有双漂移区和双导通路径的新型横向双扩散金属氧化物半导体(LDMOS)器件,实现了超低比导通电阻(R_(on,sp)).其漂移区采用P型和N型纵向交替所构成的双漂移区结构,并引入平面栅和槽型栅分别控制P型和N型漂移区,使得器件能够在漂移区中形成两条独立的电子导通或消失路径.在对平面栅施加正向电压时,可使P型漂移区的表面发生反型,形成连接沟道和N+漏极的高浓度电子反型层,从而极大提高器件导通时的电子密度,降低比导通电阻.槽型栅极的引入可使器件在关断时产生一条额外的电子消失路径,从而缩短器件的关断时间(t_(off)).此外,由于引入P型漂移区,使得电子在P型漂移区内输运时与其体内的空穴发生复合,从而加快了电子的消失过程并进一步地缩短器件的t_(off).仿真结果表明,在200 V的击穿电压(BV)等级下,本文所提出的新型LDMOS的R_(on,sp)为3.43 mΩ·cm^(2),关断时间为9 ns.相比传统的LDMOS器件,R_(on,sp)和t_(off)分别下降了90%和11.6%.该器件不仅实现了R_(on,sp)和BV的良好折中,而且缩短了器件的t_(off),展现出了优异的器件性能. 展开更多
关键词 双漂移区 双导通路径 比导通电阻 击穿电压
在线阅读 下载PDF
基于设计加固的抗辐射高速处理器件 被引量:1
20
作者 郭阳 梁斌 +1 位作者 池雅庆 陈建军 《现代应用物理》 2025年第3期158-164,共7页
抗辐射高速处理器件是航天器信息系统的算力底座、实时处理的核心,直接决定了辐照环境下系统的性能和可靠性。通过“理论-平台-产品-试验”四步走的思路,揭示了硅基CMOS器件辐照机理,构建了辐照效应模型,面向高速处理器件突破了晶体管... 抗辐射高速处理器件是航天器信息系统的算力底座、实时处理的核心,直接决定了辐照环境下系统的性能和可靠性。通过“理论-平台-产品-试验”四步走的思路,揭示了硅基CMOS器件辐照机理,构建了辐照效应模型,面向高速处理器件突破了晶体管级、电路级和系统级抗辐射设计技术,建立了多种工艺下的抗辐射设计技术平台,攻克了高速处理器件抗辐射能力地面精准测试评价难题,研制出10亿次至5000亿次运算性能的抗辐射高速处理器件,获得广泛应用。 展开更多
关键词 CMOS器件 辐照效应 设计加固 高速处理器件
在线阅读 下载PDF
上一页 1 2 250 下一页 到第
使用帮助 返回顶部