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离子束刻蚀深度检测技术的研究
被引量:
1
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作者
赵光兴
洪彩云
+2 位作者
张英杰
陈洪
杨国光
《微细加工技术》
1999年第1期74-78,共5页
将光学薄片用作敏感元件,利用激光干涉原理,将离子束刻蚀深度的信息转换为可测的激光干涉条纹的移动信息。这对微光学元件的离子束微细加工具有现实意义。对敏感元件与传感元件间的耦合进行了探讨,给出了振动误差的抑制措施。
关键词
离子束
刻蚀
测量
敏感元件
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职称材料
表面覆膜法氢敏元件的研制及其选择性的研究
被引量:
2
2
作者
黎丽琳
王维臣
《传感器世界》
1997年第9期40-42,共3页
本文介绍了采用表面修饰技术,利用气敏元件表面覆盖生长的SiO_2分子膜的滤过作用,得到高选择性SnO_2半导体H_2敏感元件的方法,并对元件的特性及机理进行了分析.
关键词
灵敏度
稳定性
表面覆膜
半导体
气敏元件
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职称材料
题名
离子束刻蚀深度检测技术的研究
被引量:
1
1
作者
赵光兴
洪彩云
张英杰
陈洪
杨国光
机构
华东冶金学院自动化系
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
出处
《微细加工技术》
1999年第1期74-78,共5页
基金
国家自然科学基金
安徽省自然科学基金
文摘
将光学薄片用作敏感元件,利用激光干涉原理,将离子束刻蚀深度的信息转换为可测的激光干涉条纹的移动信息。这对微光学元件的离子束微细加工具有现实意义。对敏感元件与传感元件间的耦合进行了探讨,给出了振动误差的抑制措施。
关键词
离子束
刻蚀
测量
敏感元件
Keywords
ion beam
etching
measurement
分类号
TN379.052 [电子电信—物理电子学]
TN307 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
表面覆膜法氢敏元件的研制及其选择性的研究
被引量:
2
2
作者
黎丽琳
王维臣
机构
黑龙江敏感技术产业集团有限公司传感器技术公司
出处
《传感器世界》
1997年第9期40-42,共3页
文摘
本文介绍了采用表面修饰技术,利用气敏元件表面覆盖生长的SiO_2分子膜的滤过作用,得到高选择性SnO_2半导体H_2敏感元件的方法,并对元件的特性及机理进行了分析.
关键词
灵敏度
稳定性
表面覆膜
半导体
气敏元件
Keywords
Gas Sensor Hydrogen, High Sensitivity, High Stability, High Selectivity, Surface Coating
分类号
TN379.052 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
离子束刻蚀深度检测技术的研究
赵光兴
洪彩云
张英杰
陈洪
杨国光
《微细加工技术》
1999
1
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职称材料
2
表面覆膜法氢敏元件的研制及其选择性的研究
黎丽琳
王维臣
《传感器世界》
1997
2
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