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离子束刻蚀深度检测技术的研究 被引量:1
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作者 赵光兴 洪彩云 +2 位作者 张英杰 陈洪 杨国光 《微细加工技术》 1999年第1期74-78,共5页
将光学薄片用作敏感元件,利用激光干涉原理,将离子束刻蚀深度的信息转换为可测的激光干涉条纹的移动信息。这对微光学元件的离子束微细加工具有现实意义。对敏感元件与传感元件间的耦合进行了探讨,给出了振动误差的抑制措施。
关键词 离子束 刻蚀 测量 敏感元件
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表面覆膜法氢敏元件的研制及其选择性的研究 被引量:2
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作者 黎丽琳 王维臣 《传感器世界》 1997年第9期40-42,共3页
本文介绍了采用表面修饰技术,利用气敏元件表面覆盖生长的SiO_2分子膜的滤过作用,得到高选择性SnO_2半导体H_2敏感元件的方法,并对元件的特性及机理进行了分析.
关键词 灵敏度 稳定性 表面覆膜 半导体 气敏元件
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