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不同工艺制备的氟化镁材料对真空镀膜的影响
被引量:
2
1
作者
王武育
孙平
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第1期22-25,共4页
用三种不同工艺制得的氟化镁为镀膜材料,考察了不同材料的结构对镀膜工艺和薄膜光学性能折射率的影响,并就其影响的原因进行了宏观分析,为选择高质量的镀膜材料提供了理论依据。
关键词
真空镀膜
氟化镁
光学材料
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职称材料
电子束蒸镀半导体光电器件的增透膜
2
作者
罗江财
王剑格
《四川真空》
1995年第3期9-13,共5页
用自动电子束蒸发设备,蒸镀用于光纤通信等中的GaAs和InP系列双异质结红外发光二极管的增透膜。结果表明,对波长为0.8μm左右的GaAlAs/GaAs发光二极管,蒸镀四分之一波长厚的Al2O3介质膜后,其输出光功率...
用自动电子束蒸发设备,蒸镀用于光纤通信等中的GaAs和InP系列双异质结红外发光二极管的增透膜。结果表明,对波长为0.8μm左右的GaAlAs/GaAs发光二极管,蒸镀四分之一波长厚的Al2O3介质膜后,其输出光功率在50mA和100mA电流注入,可增加25-35%,最大可增加-50%。对1.3μm波长的InP系列红餐发光管,用ZrO2作介质增透膜效果更好。
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关键词
发光二极管
增透膜
半导体光电器件
电子束
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职称材料
题名
不同工艺制备的氟化镁材料对真空镀膜的影响
被引量:
2
1
作者
王武育
孙平
机构
北京有色金属研究总院
北京师范大学物理系
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第1期22-25,共4页
文摘
用三种不同工艺制得的氟化镁为镀膜材料,考察了不同材料的结构对镀膜工艺和薄膜光学性能折射率的影响,并就其影响的原因进行了宏观分析,为选择高质量的镀膜材料提供了理论依据。
关键词
真空镀膜
氟化镁
光学材料
Keywords
MgF 2, Vacuum plating, Refraction index
分类号
TN360.58 [电子电信—物理电子学]
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
电子束蒸镀半导体光电器件的增透膜
2
作者
罗江财
王剑格
出处
《四川真空》
1995年第3期9-13,共5页
文摘
用自动电子束蒸发设备,蒸镀用于光纤通信等中的GaAs和InP系列双异质结红外发光二极管的增透膜。结果表明,对波长为0.8μm左右的GaAlAs/GaAs发光二极管,蒸镀四分之一波长厚的Al2O3介质膜后,其输出光功率在50mA和100mA电流注入,可增加25-35%,最大可增加-50%。对1.3μm波长的InP系列红餐发光管,用ZrO2作介质增透膜效果更好。
关键词
发光二极管
增透膜
半导体光电器件
电子束
分类号
TN360.58 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
不同工艺制备的氟化镁材料对真空镀膜的影响
王武育
孙平
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998
2
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职称材料
2
电子束蒸镀半导体光电器件的增透膜
罗江财
王剑格
《四川真空》
1995
0
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职称材料
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