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纳米晶金刚石钝化GaN基横向二极管制备与性能
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作者 任泽阳 宋松原 +8 位作者 张涛 陈鹤元 李姚 张金风 李俊鹏 陈军飞 朱卫东 郝跃 张进成 《物理学报》 北大核心 2025年第19期336-344,共9页
高输出功率密度下的热积累问题是氮化镓基功率器件面临的关键瓶颈之一.纳米晶金刚石钝化层策略在GaN基高功率器件散热方面发挥着重要的作用.在硅基AlGaN/GaN异质结材料上制备了厚420—440 nm、晶粒尺寸330—380 nm的纳米晶金刚石薄膜,... 高输出功率密度下的热积累问题是氮化镓基功率器件面临的关键瓶颈之一.纳米晶金刚石钝化层策略在GaN基高功率器件散热方面发挥着重要的作用.在硅基AlGaN/GaN异质结材料上制备了厚420—440 nm、晶粒尺寸330—380 nm的纳米晶金刚石薄膜,制备了纳米晶金刚石钝化的GaN基横向肖特基二极管器件,并对比研究了其与SiN_(x)钝化器件的电学、热学性质.测试结果显示,在直流偏置下,有无纳米晶钝化层的二极管器件正向特性基本一致;在-20 V偏置电压下,对两种器件施加2.5 V脉冲电压后,纳米晶钝化二极管电流密度仅退化2.6%,而SiN_(x)钝化器件电学特性几乎完全退化,表明纳米晶金刚石钝化二极管具有对电流崩塌现象优异的抑制能力;在变直流功率条件下对两种器件的热成像显微观测结果显示,发生热损毁时,SiN_(x)钝化器件输出功率密度约4 W/mm,而纳米晶钝化器件则约为7.5 W/mm.本文是纳米晶金刚石钝化工艺在GaN基功率二极管散热应用的首次报道,充分证明了该策略在GaN基功率二极管方面的应用潜力. 展开更多
关键词 纳米晶金刚石 GAN 二极管 散热
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低反向漏电和高开关比自支撑准垂直GaN肖特基二极管
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作者 路博文 许晟瑞 +9 位作者 黄永 苏华科 陶鸿昌 谢磊 丁小龙 荣晓燃 刘劭珂 贾敬宇 张进成 郝跃 《物理学报》 北大核心 2025年第19期146-152,共7页
GaN基肖特基势垒二极管(SBD)器件具有功率密度高、转换效率高以及开关特性好等优点.GaN材料在异质外延过程中不可避免地会引入大量的位错,而位错会导致器件的可靠性问题.本文报道了一种在自支撑GaN衬底上生长并制备的超低位错密度N^(+)/... GaN基肖特基势垒二极管(SBD)器件具有功率密度高、转换效率高以及开关特性好等优点.GaN材料在异质外延过程中不可避免地会引入大量的位错,而位错会导致器件的可靠性问题.本文报道了一种在自支撑GaN衬底上生长并制备的超低位错密度N^(+)/N^(-)GaN准垂直SBD器件.高分辨X射线衍射仪和原子力显微镜表征结果显示,在自支撑GaN衬底上实现了总位错密度为1.01×10^(8)cm^(-2),表面均方根粗糙度为0.149 nm的高质量外延层的生长.基于高质量外延层制备的器件在不使用任何终端、场板以及等离子体处理的情况下,在反向电压为-5 V时表现出10^(-5)A/cm^(2)的极低泄漏电流密度,与在蓝宝石衬底上同步制备的对照组器件相比,反向泄漏电流低4个数量级.实验结果表明,基于自支撑GaN衬底的准垂直GaN基SBD能够大幅度降低器件的反向漏电,极大地提升准垂直SBD器件的电学性能.使用微光显微镜对两组器件进行观察,确定了准垂直SBD器件的泄漏电流主要集中在阳极边缘,并解释了漏电机理.最后对器件进行了变温测试,在温度为100℃时,仍表现出低于10^(-3)A/cm^(3)的泄漏电流,证明了自支撑GaN衬底上准垂直SBD器件具有优良的应用前景. 展开更多
关键词 自支撑GaN 位错密度 准垂直型肖特基二极管 电学性能
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宽禁带半导体氮化镓肖特基二极管研究进展
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作者 何子涵 张涛 +1 位作者 任泽阳 张进成 《科技导报》 北大核心 2025年第17期100-106,共7页
氮化镓肖特基二极管具有电子迁移率高、导通电阻低、集成度高等优势,能够很好地应用于电力电子及微波射频领域,已成为促使创新前沿技术进步的重要手段。回顾了近年来氮化镓肖特基二极管的研究历程,聚焦于器件结构对器件性能的影响,通过... 氮化镓肖特基二极管具有电子迁移率高、导通电阻低、集成度高等优势,能够很好地应用于电力电子及微波射频领域,已成为促使创新前沿技术进步的重要手段。回顾了近年来氮化镓肖特基二极管的研究历程,聚焦于器件结构对器件性能的影响,通过对氮化镓肖特基二极管结构的不断优化,其性能已得到长足的改善,从正向特性到反向特性,性能持续提升;从高压领域到射频电路,应用持续扩大;同时,建议从提升材料质量、提高器件可靠性、降低成本等方面入手,进一步突破现有技术瓶颈。可以预测,随着中国集成电路事业的不断发展,GaN肖特基二极管凭借其优异的高频、高压特性,将成为下一代电子设备的核心器件。未来GaN肖特基二极管在各领域的应用将更为广泛,在解决实际问题和行业挑战上发挥更大的作用。 展开更多
关键词 氮化镓 肖特基二极管 凹槽阳极 低功函数金属
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一种非易失可重置肖特基势垒二极管
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作者 刘子铭 靳晓诗 《微处理机》 2025年第6期36-39,共4页
随着集成电路制程工艺的飞速发展,新的问题也日益增多,许多基础单元器件已逐渐无法满足当前集成电路设计的高要求。针对传统二极管在某些领域的局限性,研究者提出了一种新型肖特基势垒二极管,其导通类型可重置且具有非易失特性。该设计... 随着集成电路制程工艺的飞速发展,新的问题也日益增多,许多基础单元器件已逐渐无法满足当前集成电路设计的高要求。针对传统二极管在某些领域的局限性,研究者提出了一种新型肖特基势垒二极管,其导通类型可重置且具有非易失特性。该设计通过编程栅极向浮栅充入电荷,即使在断电情况下,也能长时间保持器件的导电类型,从而实现了较低的静态功耗和反向漏电流。这一创新不仅提高了器件的使用效率,还为未来集成电路设计提升集成度、缩小芯片面积提供了新的解决方案。 展开更多
关键词 肖特基二极管 导电类型可调 非易失性 可重置浮栅
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Ga_(2)O_(3)肖特基二极管的结构设计与优化
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作者 岳聪慧 庄萃萃 朱岩 《河北科技师范学院学报》 2025年第2期29-34,共6页
为了探寻Ga_(2)O_(3)肖特基二极管(SBD)理想的器件参数及电学性能,利用器件仿真软件构建了传统的SBD器件结构,通过对比器件的电学性能,进行器件内部结构材料选取,确定衬底为GaN,金属电极为铂(Pt)以及漂移区为α-Ga_(2)O_(3)的SBD器件结... 为了探寻Ga_(2)O_(3)肖特基二极管(SBD)理想的器件参数及电学性能,利用器件仿真软件构建了传统的SBD器件结构,通过对比器件的电学性能,进行器件内部结构材料选取,确定衬底为GaN,金属电极为铂(Pt)以及漂移区为α-Ga_(2)O_(3)的SBD器件结构,并给出了器件性能理想的漂移区厚度和掺杂浓度以及肖特基接触长度。该工作对实际中制备α-Ga_(2)O_(3)SBD器件具有指导性意义。 展开更多
关键词 α-Ga_(2)O_(3) β-Ga_(2)O_(3) 肖特基二极管 击穿电压
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面向空基协同的泛在操作系统研究
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作者 傅康平 唐江文 张利永 《中国电子科学研究院学报》 2025年第2期124-131,共8页
文中结合泛在操作系统这一新兴概念以及空基协同场景下空基信息系统的特点,针对性地讨论了面向空基协同的泛在操作系统架构,围绕空基协同场景的实际需求,将经典操作系统核心功能进行延伸扩展,分析空基协同泛在操作系统要解决的核心问题... 文中结合泛在操作系统这一新兴概念以及空基协同场景下空基信息系统的特点,针对性地讨论了面向空基协同的泛在操作系统架构,围绕空基协同场景的实际需求,将经典操作系统核心功能进行延伸扩展,分析空基协同泛在操作系统要解决的核心问题,梳理所涉及的关键技术,给出一种典型实现设计。通过构建面向空基协同的泛在操作系统,可为空基信息系统构筑逻辑统一的开放式底座,以原生的方式支撑平台间的协同,进而支撑实现空基协同软硬件生态的构建和开放式体系能力的生成。 展开更多
关键词 空基信息系统 泛在操作系统 开放式架构
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强耦合光纤通信网络链路传输层数据自适应分组方法研究
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作者 代署光 黄继海 张煌 《激光杂志》 北大核心 2025年第11期112-117,共6页
在强耦合环境下,光纤通信网络中的多个信号共享同一传输介质,随着传输距离的延长,信号衰减逐渐加剧。当网络负载过重时,信号强度会因资源竞争而减弱,进而影响数据传输速率,导致数据分组的结果出现混乱。为此,提出强耦合光纤通信网络链... 在强耦合环境下,光纤通信网络中的多个信号共享同一传输介质,随着传输距离的延长,信号衰减逐渐加剧。当网络负载过重时,信号强度会因资源竞争而减弱,进而影响数据传输速率,导致数据分组的结果出现混乱。为此,提出强耦合光纤通信网络链路传输层数据自适应分组方法研究。通过自联想神经网络获取链路传输层数据的特征向量,将提取的光纤通信链路数据特征输入至MCCA算法,对特征数据分配传输信道,计算信道分配后的光纤通信数据类间距离,并将其作为数据聚类的参数,实现数据自适应分组,以避免信号衰减导致光纤通信网络中的数据难以稳定传输的问题,有效解决数据传输过程中存在的传输效率低、分组混乱的问题。实验结果表明,所提方法能够更合理地分配网络资源,提高了光纤通信网络的传输效率和可靠性。 展开更多
关键词 强耦合 数据自适应分组 光纤通信网络 数据聚类 信道分配
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台面终端氧化镓肖特基二极管单粒子效应研究
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作者 贺松 刘金杨 +2 位作者 郝伟兵 徐光伟 龙世兵 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第3期511-516,I0003,共7页
超宽禁带氧化镓半导体材料具有高临界场强、位移阈能等优势,在太空等高压强辐照应用环境下具有良好的应用前景。然而,由于材料较低的热导率和空穴迁移率,高能粒子辐照容易导致器件在远低于额定电压下发生单粒子烧毁(SEB)。因此,本文提... 超宽禁带氧化镓半导体材料具有高临界场强、位移阈能等优势,在太空等高压强辐照应用环境下具有良好的应用前景。然而,由于材料较低的热导率和空穴迁移率,高能粒子辐照容易导致器件在远低于额定电压下发生单粒子烧毁(SEB)。因此,本文提出通过台面终端结构将辐照前电场峰值从阳极边缘漂移层表面转移到台面终端侧壁,避免了肖特基界面电场聚集在单粒子效应下进一步恶化,同时也降低了局部功率密度,提高了器件的单粒子烧毁电压。单粒子实验采用入射能量高达1.86 GeV的钽离子,线性能量传递(LET)超过80 MeV·cm^(2)·mg^(-1)。普通无终端结构氧化镓肖特基二极管(SBD)单粒子烧毁电压仅170 V,而台面终端结构氧化镓肖特基二极管单粒子烧毁电压达到了220 V。通过仿真研究了器件的单粒子瞬态响应,发现采用台面终端结构后,重离子入射下阳极边缘漂移层表面的电场峰值得到显著抑制,且较低的峰值电场避免了过高的局部功率耗散,降低了器件内部峰值温度,提高了单粒子烧毁阈值。本工作为氧化镓功率器件的辐照加固方案提供了新思路。 展开更多
关键词 氧化镓 肖特基二极管 台面终端 辐照 单粒子效应
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基于超薄β-Ga_(2)O_(3)薄膜的肖特基势垒二极管性能研究
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作者 陈海峰 关幼幼 +2 位作者 郭天翔 陆芹 刘祥泰 《传感器与微系统》 北大核心 2025年第12期38-42,共5页
采用原子层沉积(ALD)法在氧化硅(SiO2)衬底上沉积不同厚度的氧化镓(Ga_(2)O_(3))薄膜,制备基于超薄β-Ga_(2)O_(3)薄膜的肖特基势垒二极管(SBD),研究器件的电极间距(d)、薄膜厚度(H)、薄膜退火温度(Tfilm)和欧姆退火温度(TE)对器件正向... 采用原子层沉积(ALD)法在氧化硅(SiO2)衬底上沉积不同厚度的氧化镓(Ga_(2)O_(3))薄膜,制备基于超薄β-Ga_(2)O_(3)薄膜的肖特基势垒二极管(SBD),研究器件的电极间距(d)、薄膜厚度(H)、薄膜退火温度(Tfilm)和欧姆退火温度(TE)对器件正向和反向特性的影响。研究结果显示:随着d从10μm增至35μm时,器件的正向电流减小,耐压值增大;随着H从60 nm增至180 nm时,器件的正向电流和耐压值增大;随着Tfilm从500℃增至900℃时,器件的正向电流和耐压值增大;随着TE从250℃增至650℃时,器件的正向电流和耐压值先增大后减小。结果表明:SBD在d为10μm、H为180 nm、Tfilm为900℃且TE为550℃时,正向特性最优,正向电流最大值为1.46×10^(-7)A;d为35μm、H为180 nm、Tfilm为900℃且TE为550℃时,反向特性最优,耐压最大值为297.004 V。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3) 原子层沉积 肖特基势垒二极管 退火温度
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组分渐变过渡层对氮化镓基发光二极管性能的影响 被引量:10
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作者 龙浩 张智超 +3 位作者 顾锦华 王皓宁 丁楚伟 钟志有 《中南民族大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2017年第1期71-75,共5页
针对半导体发光二极管(LED)中普遍存在的效率衰减效应严重影响大注入电流条件下LED发光性能的问题,在传统InGaN/GaN多量子阱LED基础上,设计了组分渐变过渡层结构,引入到量子垒和电子阻挡层界面。模拟计算结果表明:当引入过渡层后,量子... 针对半导体发光二极管(LED)中普遍存在的效率衰减效应严重影响大注入电流条件下LED发光性能的问题,在传统InGaN/GaN多量子阱LED基础上,设计了组分渐变过渡层结构,引入到量子垒和电子阻挡层界面。模拟计算结果表明:当引入过渡层后,量子垒和电子阻挡层界面处的电子势阱深度和空穴势垒高度减小,有益于有源区载流子浓度的提高,有效提升了量子阱内辐射复合速率,使发光效率衰减现象得到显著改善.研究结果对大功率发光二极管的结构设计和器件研发具有启发作用. 展开更多
关键词 发光二极管 氮化镓 多量子阱 效率衰减
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基于FPGA的红外图像非均匀校正实现方法 被引量:21
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作者 牛英宇 聂瑞杰 李丽娟 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2016年第8期1028-1032,共5页
针对某国产探测器成像特点,对传统两点校正和神经网络非均匀性校正算法进行了改进和定点化处理。对算法实现时的存储和数据流需求进行分析后,利用存储控制器对DDR2高速读写的优势,在以FPGA为核心的红外成像装置预处理平台上实现了校正... 针对某国产探测器成像特点,对传统两点校正和神经网络非均匀性校正算法进行了改进和定点化处理。对算法实现时的存储和数据流需求进行分析后,利用存储控制器对DDR2高速读写的优势,在以FPGA为核心的红外成像装置预处理平台上实现了校正系数的在线标定和自适应迭代。在系数更新时,引入运动判断环节,以防止神经网络校正算法带来的目标退化和鬼影现象。成像系统仅采用一片FPGA芯片,使得系统小型化成为可能,充足的资源余量使其具有功能可扩充性。实验证明该实现方法明显改善了红外成像装置的非均匀性,在抑制时间漂移上也取得了满意的效果。 展开更多
关键词 非均匀性校正 神经网络算法 FPGA 图像预处理
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共振隧穿二极管的压阻特性测试与研究 被引量:5
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作者 毛海央 熊继军 +3 位作者 张文栋 薛晨阳 桑胜波 鲍爱达 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1789-1793,共5页
设计并搭建了检测共振隧穿二极管(RTD)压阻特性的实验系统,测试了RTD结构在不同应力状态下I-V特性曲线的漂移.实验结果表明RTD结构压阻特性的灵敏度大于1×10-8Pa-1.为了更精确地定量表达其压阻特性,研究了同一RTD结构I-V特性的一致... 设计并搭建了检测共振隧穿二极管(RTD)压阻特性的实验系统,测试了RTD结构在不同应力状态下I-V特性曲线的漂移.实验结果表明RTD结构压阻特性的灵敏度大于1×10-8Pa-1.为了更精确地定量表达其压阻特性,研究了同一RTD结构I-V特性的一致性,得到相同环境条件下RTD电阻的最大相对漂移量小于3%,其中1%由测试仪器造成. 展开更多
关键词 共振隧穿二极管 压阻特性 一致性 灵敏度 喇曼光谱
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基于领域特征本体的构件语义描述和组装 被引量:5
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作者 彭鑫 赵文耘 钱乐秋 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第B12期2473-2477,共5页
构件的功能语义是复用者了解并判断构件可复用性的重要依据,因此必须在构件开发者和复用者共同的知识基础上进行构件描述.目前已有一些方法引入本体作为构件语义描述的基础,但仍然存在语义描述不够精确以及无法支持语义的组装推导等不足... 构件的功能语义是复用者了解并判断构件可复用性的重要依据,因此必须在构件开发者和复用者共同的知识基础上进行构件描述.目前已有一些方法引入本体作为构件语义描述的基础,但仍然存在语义描述不够精确以及无法支持语义的组装推导等不足.引入了领域分析中提出的基于本体的领域特征模型作为构件语义描述基础,在此基础上给出了构件端口语义、静态语义、语义协议的定义以及语义组装算法.基于构件静态语义和组装算法可以在构件组装时进行语义合成,从而辅助开发者进行基于语义的构件适配和组装分析. 展开更多
关键词 构件 业务语义 领域 特征 本体 语义描述 组装
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新型复合终端氧化镓肖特基二极管电学特性仿真研究
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作者 屈珉敏 余建刚 +6 位作者 李子唯 李旺旺 雷程 李腾腾 李丰超 梁庭 贾仁需 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第2期348-357,共10页
作为新一代宽禁带半导体,氧化镓因具有更大的禁带宽度(4.4~4.8 eV)和更高的击穿场强(8 MV/cm),成为制备耐高压、高频、高功率电力电子器件的最佳候选材料。然而,氧化镓肖特基二极管具有终端电场边缘集中效应,导致器件因提前击穿而失效,... 作为新一代宽禁带半导体,氧化镓因具有更大的禁带宽度(4.4~4.8 eV)和更高的击穿场强(8 MV/cm),成为制备耐高压、高频、高功率电力电子器件的最佳候选材料。然而,氧化镓肖特基二极管具有终端电场边缘集中效应,导致器件因提前击穿而失效,从而限制了氧化镓的应用。本文通过将可以缓解电场边缘集中效应的高阻区和抑制反向漏电的电子势垒层相结合,设计了一种新型复合终端。仿真结果表明:引入高阻区终端结构的器件电极边缘附近的峰值电场从3.650 MV/cm下降到0.246 MV/cm,可以有效缓解电极电场边缘集中效应。当高阻区Mg离子注入浓度为10^(19) cm^(-3)时,击穿电压从725 V提高到2115 V,巴利加优值从0.060 GW/cm^(2)增加到0.247 GW/cm^(2),临界击穿场强从3.650 MV/cm提升到5.500 MV/cm,提高了50.7%;与此同时,电子势垒层AlN的引入使器件反向漏电流大幅降低,反向击穿电压提升至2690 V。该新型复合终端结构不仅可以有效抑制器件的反向漏电流,同时可以有效提升器件的反向击穿电压。本研究为耐高压、低反向漏电流氧化镓肖特基二极管的研制提供了理论基础。 展开更多
关键词 氧化镓 肖特基二极管 反向漏电流 击穿电压 复合终端
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FQPSK和SOQPSK信号的通用准最优解调设计 被引量:3
15
作者 郄志鹏 翟海涛 +1 位作者 钟声 朱江 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期77-81,共5页
FQPSK-JR和SOQPSK-TG是IRIG-106遥测标准中可以互换的两种信号体制,两种信号有着近乎相同的功率效率和带宽效率。尽管两种信号都可以采用常规的OQPSK接收机进行解调,但是基于OQPSK结构的接收机忽略了两种信号固有的记忆特性,其解调性能... FQPSK-JR和SOQPSK-TG是IRIG-106遥测标准中可以互换的两种信号体制,两种信号有着近乎相同的功率效率和带宽效率。尽管两种信号都可以采用常规的OQPSK接收机进行解调,但是基于OQPSK结构的接收机忽略了两种信号固有的记忆特性,其解调性能损失相比最优解调达2dB之多。在遥测链路中,受设备体积及电源限制,2dB的功率损失是至关重要的。虽然基于其调制体制相对应的最优接收机都能提高功率效率,但信号产生体制的不同导致了其对应的最优接收机结构不同。将IRIG-106标准中的FQPSK-JR信号用CPM调制来近似表示,将SOQPSK-TG信号的频率成型脉冲进行了截短近似,设计了基于CPM的通用准最优解调器。基于CPM近似设计出的解调器与OQPSK解调器一样无须对两种信号进行识别,仿真表明基于CPM设计的通用解调器对两种信号进行解调的渐进损失都很小,对复杂度也进行了分析对比。 展开更多
关键词 FQPSK-JR SOQPSK-TG IRIG-106 连续相位调制
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ROHM开发出低V_(F)且低I_(R)的保护用肖特基势垒二极管
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《变频器世界》 2025年第10期44-44,共1页
中国上海,2025年10月9日——全球知名半导体制造商RO0HM(总部位于日本京都市)今日宣布,开发出一款创新型保护用肖特基势垒二极管"RBEO1VYM6AFH",该产品在低VF(正向电压)和低IR(反向电流)这对此消彼长的特性之间实现了高维度平... 中国上海,2025年10月9日——全球知名半导体制造商RO0HM(总部位于日本京都市)今日宣布,开发出一款创新型保护用肖特基势垒二极管"RBEO1VYM6AFH",该产品在低VF(正向电压)和低IR(反向电流)这对此消彼长的特性之间实现了高维度平衡,可为ADAS摄像头等配备了像素日益提高的各种图像传感器的应用,提供高可靠性的保护解决方案。 展开更多
关键词 RBEO1VYM6AFH 肖特基势垒二极管 ADAS摄像头 低VF 低IR ROHM
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基于氮化镓二极管的异构集成宽带小型化限幅器电路
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作者 霍树栋 相梦娇 +6 位作者 张正兴 翁铭远 高云云 党魁 周弘 张进成 郝跃 《微波学报》 北大核心 2025年第5期34-39,53,共7页
硅二极管器件耐功率高、击穿电压大,基于硅二极管的大功率射频限幅器,因需依托其该特性,一般采用半有源结构。本文在半有源硅二极管限幅器设计的基础上,结合氮化镓二极管的特性,设计了自检波半有源限幅器。以此为基础进一步采用异构集... 硅二极管器件耐功率高、击穿电压大,基于硅二极管的大功率射频限幅器,因需依托其该特性,一般采用半有源结构。本文在半有源硅二极管限幅器设计的基础上,结合氮化镓二极管的特性,设计了自检波半有源限幅器。以此为基础进一步采用异构集成方案,将硅二极管与氮化镓单片微波集成电路方案相结合,实现了基于氮化镓二极管的异构集成宽带小型化限幅电路。实测限幅电路在2 GHz~14 GHz频率范围内插损小于2.4 dB,在2 GHz频点实测连续波耐功率达100 W,电路尺寸3.15 mm×3.00 mm×0.40 mm。相比于半有源微组装形式的限幅架构,本文设计的限幅器在尺寸上明显减小,同时可以实现较高的耐功率指标。 展开更多
关键词 氮化镓二极管 限幅器 异构集成 小型化
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4700V碳化硅PiN整流二极管 被引量:10
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作者 陈思哲 盛况 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2015年第22期57-61,共5页
碳化硅Pi N二极管是一种理想的高压二极管器件,具有高阻断电压以及高电流导通密度的特点。通过使用有限元分析的方法对器件外延层参数以及终端结构进行了仿真,提出了优化的器件原胞和终端设计。基于50μm厚、掺杂浓度为1.5×10^(15)... 碳化硅Pi N二极管是一种理想的高压二极管器件,具有高阻断电压以及高电流导通密度的特点。通过使用有限元分析的方法对器件外延层参数以及终端结构进行了仿真,提出了优化的器件原胞和终端设计。基于50μm厚、掺杂浓度为1.5×10^(15)cm^(-3)的N型低掺杂外延,制备了电压阻断能力达到4 700V的高压碳化硅整流二极管。制备的器件具有较低的漏电流以及良好的正向导通能力,在100A/cm^2的电流导通密度条件下,器件的最低正向导通压降为3.6V。为进一步研制高压大功率碳化硅二极管器件模块提供了良好的基础。 展开更多
关键词 4H型碳化硅 整流二极管 终端保护 少子注入
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Aγ-irradiated AlGaN/GaN Schottky barrier diode with barrier-decreased Schottky junction and high breakdown voltage
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作者 Jiahao Chen Tao Zhang +7 位作者 Ziqi Tao Kai Su Shengrui Xu Xiangdong Li Huake Su Yachao Zhang Yue Hao Jincheng Zhang 《Journal of Semiconductors》 2025年第12期79-85,共7页
In this letter,we demonstrate the effect ofγirradiation on the lateral AlGaN/GaN Schottky barrier diodes(SBDs)with self-terminated recessed anode structure and low work-function metal tungsten(W)as anode.For a compre... In this letter,we demonstrate the effect ofγirradiation on the lateral AlGaN/GaN Schottky barrier diodes(SBDs)with self-terminated recessed anode structure and low work-function metal tungsten(W)as anode.For a comprehensive evaluation of the radiation-resistance performance of the device,the total dose ofγirradiation is up to 100 kGy with irradiation time of 20 h.Attributed to the barrier lowering effect of the W/GaN interface induced byγirradiation observed in the experiment,the extracted turnon voltage(VON)defined at anode forward current of 1 mA decreases from 0.47 to 0.43 V.Meanwhile,benefiting from the reinforced Schottky interface treated by post-anode-annealing,a high breakdown voltage(BV)of 1.75 kV is obtained for theγ-irradiated AlGaN/GaN SBD,which shows the promising application for the deep-space radiation environment and promotes the development of radiation-resistance research for GaN SBDs. 展开更多
关键词 GaN SBDS γirradiation breakdown voltage radiation-resistance
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SiC结势垒肖特基二极管正面工艺要点
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作者 魏宇祥 常志 《电子工艺技术》 2025年第3期48-50,59,共4页
随着SiC器件的发展,提升芯片良率、降低生产成本已成为发展SiC功率芯片的必然趋势。根据当前SiC结势垒肖特基二极管生产工艺现状,从批量生产的角度,阐述了其正面关键工艺过程中的要点,解决了实际工艺问题,并进行规模化量产。结果表明,... 随着SiC器件的发展,提升芯片良率、降低生产成本已成为发展SiC功率芯片的必然趋势。根据当前SiC结势垒肖特基二极管生产工艺现状,从批量生产的角度,阐述了其正面关键工艺过程中的要点,解决了实际工艺问题,并进行规模化量产。结果表明,产品良率提升且质量稳定。 展开更多
关键词 碳化硅 结势垒肖特基二极管 JBS 肖特基接触
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