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ZnS:Mn,Sm材料中Mn中心与不同的Sm中心的相互作用及温度的影响 被引量:1
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作者 许武 张新夷 徐叙瑢 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第6期411-418,共8页
本文系统地研究了硫化锌材料中Mn中心与不同的Sm中心的相互作用.证实了Mn中心与不同的Sm中心的相互作用存在很大的差异.另外在77-500K温度范围内测量了Mn中心和Sm中心的发射光谱,发现温度对它们之间的能量传递有着重要的影响.
关键词 能量传递 流化锌 材料 温度影响
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低补偿度n-Hg_(1-x)Cd_xTe的弱局域效应 被引量:1
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作者 韦亚一 郑国珍 +3 位作者 沈金熙 沈杰 郭少令 汤定元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期263-267,共5页
本文在多次实验中选择的低补偿度n-Hg1—xCdxTe样品上测量了0—10mT弱磁场范围的横向磁阻和纵向磁阻,观测到了三维电子系统中弱局域导致的负磁阻修正效应.初步讨论了样品尺寸、磁场与电流的相对取向以及温度对弱局域... 本文在多次实验中选择的低补偿度n-Hg1—xCdxTe样品上测量了0—10mT弱磁场范围的横向磁阻和纵向磁阻,观测到了三维电子系统中弱局域导致的负磁阻修正效应.初步讨论了样品尺寸、磁场与电流的相对取向以及温度对弱局域效应的影响. 展开更多
关键词 弱局域效应 碲化镉汞 电学性质
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掺铒硫化锌交流电致发光薄膜的表面结构
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作者 王余姜 陈谋智 +1 位作者 孙书农 刘瑞堂 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1999年第2期108-110,共3页
对研制的掺铒硫化锌交流电致发光薄膜,进行了表面的 X 射线衍射( X R D) 、 X 射线光电子能谱( X P S) 及发光亮度测量。研究认为薄膜多晶的沉积有择优取向的趋势,表层碳、氧主要来源于吸附与玷污,绝缘层选择高介电常... 对研制的掺铒硫化锌交流电致发光薄膜,进行了表面的 X 射线衍射( X R D) 、 X 射线光电子能谱( X P S) 及发光亮度测量。研究认为薄膜多晶的沉积有择优取向的趋势,表层碳、氧主要来源于吸附与玷污,绝缘层选择高介电常数、低电阻率的材料。 展开更多
关键词 半导体材料 掺铒硫化锌 交流电致发光 薄膜 介电常数 表面吸附
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MBE生长的p-Hg_(1-x)Cd_xTe外延薄膜变磁场下的Hall系数及电导率
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作者 杜庆红 何力 袁诗鑫 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期182-187,共6页
本文报道了利用分子束外延技术在GaAs(211)B衬底上生长Hg1-xCdxTe/CdTe异质结,并通过VanderPauw(VdP)方法测量P-Hg1-xCdxTe外延薄膜在不同温度及磁场下Hall系数和电导率,采... 本文报道了利用分子束外延技术在GaAs(211)B衬底上生长Hg1-xCdxTe/CdTe异质结,并通过VanderPauw(VdP)方法测量P-Hg1-xCdxTe外延薄膜在不同温度及磁场下Hall系数和电导率,采用最小二乘法对实验数据下行拟合,得到了混合导电机制下电子、重空穴和轻空穴的迁移率及载流子浓度. 展开更多
关键词 外延生长 碲化镉汞薄膜 MBE法 Hall系数 电导率
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CdTe∶Al的电学特性
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作者 杨柏樑 张传平 +1 位作者 温庆祥 黄锡珉 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 1992年第2期151-155,共5页
本文用 Van der pauw 法在77~300k 的温度范围内测试了 CdTe∶Al 材料的霍尔电学特性。实验测得 Al 杂质施主能级为0.010eV,最大霍尔迁移率为1.8×10~3cm^2/V·s,实验结果表明高掺杂样品中存在明显的“离化杂质浓度效应”。文... 本文用 Van der pauw 法在77~300k 的温度范围内测试了 CdTe∶Al 材料的霍尔电学特性。实验测得 Al 杂质施主能级为0.010eV,最大霍尔迁移率为1.8×10~3cm^2/V·s,实验结果表明高掺杂样品中存在明显的“离化杂质浓度效应”。文中还讨论了 CdTe∶Al 中的杂质补偿问题以及载流子的散射机理,并给出了霍尔系数、迁移率等有关参数与温度的关系。 展开更多
关键词 Ⅱ-Ⅵ族化合物 半导体 电学性质
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电化学参数对Hg1—xCdxtE表面氧化物介质膜形成的影响 被引量:1
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作者 温廷琏 方家熊 《薄膜科学与技术》 1994年第4期301-307,共7页
关键词 碲镉汞 氧化物介质膜 电化学参数 氧化物膜
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在加速坩埚旋转条件下用移动加热器法生长Hg_(1-x)Cd_xTe单晶
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作者 胡世高 《红外与激光技术》 CSCD 1994年第3期47-51,共5页
加速旋转坩涡技术已用于Hg_(1-x)Cd_xTe的THM生长,以在较高速率下生长单晶。扩大界面前的对流搅拌区获得的这种较高的生长速率,可用于解释简单的组分过冷理论的某些结果。研究了几种不同的、可满足简单流体力学和几... 加速旋转坩涡技术已用于Hg_(1-x)Cd_xTe的THM生长,以在较高速率下生长单晶。扩大界面前的对流搅拌区获得的这种较高的生长速率,可用于解释简单的组分过冷理论的某些结果。研究了几种不同的、可满足简单流体力学和几何学判据的加速坩蜗旋转技术(ACRT)周期。在冶金学均匀性及结构完整性这两方面对生长的晶体作了研究,结果表明,把生长速率从1.5mm/d提高到8.5mm/d时,其性能并无衰变。 展开更多
关键词 碲镉汞 移动加热器法 单晶生长
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界面薄SiO2层对Ti/Si固相反应形成TiSi2薄膜的影响
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作者 亓文杰 李炳宗 《薄膜科学与技术》 1993年第1期14-22,共9页
关键词 硅化钛 薄膜 界面 氧化层 固相反应
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New Inclusion Assessment Method in Aluminum Alloys——Electrochemical Method for Inclusion Assessment 被引量:1
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作者 XU Zhengbing ZOU Yongzhi ZENG Jianmin 《Chinese Journal of Mechanical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第1期160-166,共7页
The existence of inclusion influences the properties of aluminum alloy castings,from which the castings will face scrapping under severe condition.Great efforts on the inclusions in aluminum alloy were made and many i... The existence of inclusion influences the properties of aluminum alloy castings,from which the castings will face scrapping under severe condition.Great efforts on the inclusions in aluminum alloy were made and many inclusion assessment methods were put forward.However,most of the current methods are characterized by time consuming and expensive equipment cost,which limits the application in aluminum industry.Since the aluminum properties are sensitive to the inclusion,this paper tries to establish a new kind of inclusion assessment method.The inclusions were introduced to aluminum melts by adding aluminum scraps.The samples with different inclusion contents were prepared.The microstructure contained inclusions was observed.The inclusion was automatically identified with an image analyzer by setting different grey threshold value,and the inclusion content was obtained.The image analysis shows that inclusions wreck the continuity of the alloy matrix seriously,and the inclusion area percentage increases with the increasing of aluminum scraps.The high and low polarization measurements were conducted in 3.5 wt%NaCl aqueous solution at the temperature of 25℃.The electrochemical parameters of the testing materials,such as corrosion potential E k,corrosion current density I k and the linear polarization resistance R p,were obtained.The polarization measurement results show that the linear polarization resistances decrease,the corrosion potentials move towards more negative direction,and the corrosion current densities increase with the increasing of inclusion content.The theoretical analysis of the inclusion content and the corrosion current density was performed.The existence of inclusions makes the microstructure form corrosion microcells between the alloy matrix and inclusions.The impressed current can accelerate the current velocity or corrosion current density.The regression model of the inclusion contents vs.the corrosion current density was obtained.This model can be used to quantitatively analyze the inclusion content in aluminum alloys on the basis of inclusion sensitivity to the inclusion content.It is confirmed that the electrochemical method for inclusion assessment(EcMIA)is simple and reliable,which can provide a new solution for inclusion assessment in aluminum alloy. 展开更多
关键词 aluminum alloys inclusion assessment electrochemical parameters electrochemical method for inclusion assessment(EcMIA)
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