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掺铥碲酸盐反谐振光纤设计及其放大器仿真(封面文章·特邀)
1
作者 武天志 付士杰 +5 位作者 赵红汝 许海琛 史春鹏 盛泉 史伟 姚建铨 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期1-8,共8页
2.3μm掺铥光纤激光器可广泛应用于环境气体检测、医学成像以及无创血糖测量等领域。基于掺铥光纤的2.3μm与1.9μm双波长激光级联放大技术可以有效抑制1.9μm波段放大自发辐射以及自激振荡,实现高功率2.3μm激光输出。2.3μm光纤激光... 2.3μm掺铥光纤激光器可广泛应用于环境气体检测、医学成像以及无创血糖测量等领域。基于掺铥光纤的2.3μm与1.9μm双波长激光级联放大技术可以有效抑制1.9μm波段放大自发辐射以及自激振荡,实现高功率2.3μm激光输出。2.3μm光纤激光器功率的进一步提高依赖于大模场面积单模掺铥光纤的发展。基于碲酸盐玻璃设计了一种纤芯直径为40μm的大模场单模掺铥实芯反谐振光纤,模拟结果显示,光纤在1.8~2.5μm的宽波段范围基模损耗均小于1 dB/m,同时高阶模式损耗大于10 dB/m,保证了激光的单模传输。基于该光纤的2.3μm与1.9μm级联光纤放大器仿真结果表明,所设计光纤在高功率单模2.3μm激光产生方面展现出显著优势。 展开更多
关键词 实芯反谐振光纤 掺铥光纤 模式耦合 光纤放大器
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基于法布里-珀罗腔产生飞秒激光脉冲串在ITO薄膜表面精密加工
2
作者 李重周 王培尧 +3 位作者 龙明泉 许宇锋 韩若中 贾天卿 《光子学报》 北大核心 2025年第5期33-46,共14页
利用法布里-珀罗腔对飞秒激光进行时域整形,得到输出子脉冲间隔在1~1500 ps内灵活可调的飞秒激光脉冲串,在厚度为185 nm的ITO薄膜上加工出高质量的刻蚀线。实验结果显示,利用飞秒激光脉冲串加工得到的单根刻蚀线在线边沿粗糙度上明显优... 利用法布里-珀罗腔对飞秒激光进行时域整形,得到输出子脉冲间隔在1~1500 ps内灵活可调的飞秒激光脉冲串,在厚度为185 nm的ITO薄膜上加工出高质量的刻蚀线。实验结果显示,利用飞秒激光脉冲串加工得到的单根刻蚀线在线边沿粗糙度上明显优于原始高斯光加工的刻蚀线。利用子脉冲间隔为150 ps、激光能流密度为0.49 J/cm^(2)、扫线速度为0.2 mm/s的脉冲串加工得到的刻蚀线质量较高,线宽度仅有1.45μm(顶部)和0.95μm(底部),线边沿粗糙度仅有9.48 nm。该加工工艺配合平移台,实现了高质量的排线和任意曲线的导线。 展开更多
关键词 激光加工 法布里-珀罗腔 飞秒激光脉冲串 刻蚀线 ITO薄膜
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掺镱光纤芯层折射率对激光输出功率影响研究
3
作者 秦钰 张俊逸 +5 位作者 丁松 唐江 张泽霖 陈娅丽 肖力敏 沈一春 《光通信研究》 北大核心 2025年第3期84-89,共6页
【目的】随着20/400掺镱有源光纤输出功率的不断提升,增益光纤内易发生横向模式不稳定(TMI)效应,导致激光稳定输出达到功率瓶颈。研究不同20/400掺镱有源光纤芯层折射率分布(RIP)情况下的光纤激光输出差异并获得最佳RIP参数,对突破1080... 【目的】随着20/400掺镱有源光纤输出功率的不断提升,增益光纤内易发生横向模式不稳定(TMI)效应,导致激光稳定输出达到功率瓶颈。研究不同20/400掺镱有源光纤芯层折射率分布(RIP)情况下的光纤激光输出差异并获得最佳RIP参数,对突破1080 nm激光TMI相关功率限制意义重大。【方法】文章通过理论分析了不同芯层RIP设计下的光学模式分布情况,并以此调控改进化学沉积(MCVD)工艺,制备了多组不同RIP斜率的20/400掺镱有源光纤,并通过全正向泵浦光纤振荡系统验证得到最佳RIP斜率。【结果】结果表明,稳定输出功率及斜效率随着RIP斜率的增加均呈现先增后降的趋势。当RIP斜率为0.0884时,可获得最大稳定激光输出功率为2030 W、最高斜效率为82.87%。【结论】0.0884为20/400掺镱有源光纤最佳芯层RIP斜率设计值,该设计下的增益光纤具有更高的稳定激光输出功率及斜效率。 展开更多
关键词 掺镱有源光纤 折射率分布斜率 模式不稳定
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GGG系列激光晶体研究进展 被引量：43
4
作者 张庆礼 殷绍唐 +1 位作者 王爱华 肖敬忠 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期481-484,共4页
GGG和GSGG系列晶体是性能优异的LD泵浦激光晶体.本文评述了GGG和GSGG系列晶体的性能、生长和应用,指出了它们将在未来LD泵浦高功率激光器中获得广泛应用.
关键词 GGG系列 激光晶体 LD泵浦激光器 晶体生长 石榴石晶体
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激光预处理技术及其应用 被引量：15
5
作者 赵元安 胡国行 +4 位作者 刘晓凤 李大伟 朱美萍 易葵 邵建达 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期2938-2947,共10页
回顾了国内在激光预处理技术研究方面取得的进展。综述了基于激光预处理技术提升基频介质膜、磷酸二氢钾/高掺氘磷酸二氢钾(KDP/DKDP)晶体等光学元件抗激光损伤性能的机理、效果和关键技术。针对高功率激光驱动器中关键光学元件激光负... 回顾了国内在激光预处理技术研究方面取得的进展。综述了基于激光预处理技术提升基频介质膜、磷酸二氢钾/高掺氘磷酸二氢钾(KDP/DKDP)晶体等光学元件抗激光损伤性能的机理、效果和关键技术。针对高功率激光驱动器中关键光学元件激光负载能力的提高,建立了大口径光学元件激光预处理平台,实现了基频介质膜元件的激光预处理工程化作业。比较了纳秒和亚纳秒脉冲宽度激光对DKDP晶体损伤性能的影响。基于亚纳秒激光预处理后,纳秒激光辐照至14.4J/cm2(5ns)尚未出现"本征"损伤的实验结果,提出了用于DKDP晶体的亚纳秒激光预处理方案,并指出亚纳秒激光预处理技术将成为高功率激光三倍频晶体抗激光损伤性能达标的关键技术。 展开更多
关键词 激光预处理 激光与物质相互作用 高功率激光 激光损伤阈值 介质膜 磷酸二氢钾(KDP)晶体 高掺氘磷酸二氢钾(DKDP)晶体
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低亚表面损伤石英光学基底的加工和检测技术 被引量：14
6
作者 马彬 沈正祥 +5 位作者 张众 贺鹏飞 季一勤 刘华松 刘丹丹 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期2181-2185,共5页
制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了... 制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了缺陷尺寸与散射信号强度、磨料粒径与损伤层深度间的对应关系;同时,采用化学腐蚀处理技术对抛光后样品的亚表面形貌进行了刻蚀研究,分析了化学反应生成物和亚表面缺陷对刻蚀速率的影响、不同深度下亚表面缺陷的分布特征,以及均方根粗糙度与刻蚀深度间的联系。根据各道加工工艺的不同采用了相应的亚表面检测技术,由此来确定下一道加工工序,合理的去除深度,最终获得了极低亚表面损伤的超光滑光学基底。 展开更多
关键词 亚表面损伤层 共焦显微成像 光散射 化学腐蚀 刻蚀速率
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高功率固体激光驱动器污染控制及片状放大器洁净度改进 被引量：16
7
作者 程晓锋 王洪彬 +14 位作者 苗心向 秦朗 叶亚云 陈远斌 吕海兵 熊迁 贺群 马志强 赵龙彪 刘勇 贺少勃 袁晓东 朱启华 景峰 郑万国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期1147-1151,共5页
针对高功率固体激光驱动器的安全运行,提出了覆盖驱动器建设全过程的污染控制方法,详细介绍了洁净清洗、洁净检测、洁净保护等保障污染控制效果的技术手段,并介绍了神光-Ⅲ主机装置片状放大器洁净度提升所采取的技术途径,以及片状放大... 针对高功率固体激光驱动器的安全运行,提出了覆盖驱动器建设全过程的污染控制方法,详细介绍了洁净清洗、洁净检测、洁净保护等保障污染控制效果的技术手段,并介绍了神光-Ⅲ主机装置片状放大器洁净度提升所采取的技术途径,以及片状放大器光照清洗实验中气溶胶等级随闪光灯照射次数的变化情况。实验结果表明,神光-Ⅲ主机装置的洁净水平与美国国家点火装置(NIF)接近且优于其他同类装置,洁净度的大幅提升为装置的安全运行提供了有力保障。 展开更多
关键词 固体激光驱动器 片状放大器 洁净度 污染控制
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激光分布对抽运Nd∶YVO_4晶体热效应的影响 被引量：13
8
作者 史彭 陈文 +1 位作者 李隆 甘安生 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期197-201,共5页
以解析各向异性分析理论为基础,研究了在矩形横截面Nd∶YVO4激光晶体受到超高斯分布LD端面抽运时,激光晶体的温度场分布和抽运面热形变分布。通过分析激光晶体工作特点,考虑了激光分布和激光光束半径变化,建立了符合激光晶体工作状态的... 以解析各向异性分析理论为基础,研究了在矩形横截面Nd∶YVO4激光晶体受到超高斯分布LD端面抽运时,激光晶体的温度场分布和抽运面热形变分布。通过分析激光晶体工作特点,考虑了激光分布和激光光束半径变化,建立了符合激光晶体工作状态的热模型。利用各向异性介质热传导方程的一种新求解方法,得出了矩形截面Nd∶YVO4晶体的温度场、端面热形变场的通解表达式。研究结果表明:当使用输出功率为15 W的半导体激光器(超高斯阶次为1)从端面中心入射Nd∶YVO4晶体(晶体掺钕离子质量分数为0.5%)时,在抽运端面中心获得了243.8℃最高温升和1.99μm最大热形变量,与实验结果一致。这种方法可以应用到其它激光晶体热问题研究中,为有效解决激光系统热问题提供了理论依据。 展开更多
关键词 激光物理 ND:YVO4激光器 热分析 超高斯分布 矩形截面 各向异性
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Er^(3+)在氟氧化物玻璃陶瓷中的光谱性质 被引量：7
9
作者 何琛娟 陈鸾 +3 位作者 孟超 宋增福 王志光 孟广政 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期529-534,共6页
根据ErYb共掺氟氧化物玻璃陶瓷的吸收光谱 ,用Jubb Ofelt理论计算了强度参量 ,并由此计算了激发能级的自发辐射跃迁速率、辐射寿命。
关键词 光谱性质 稀土离子 ER^3+ 氟氧化物玻璃陶瓷 吸收光谱 光谱参量 激光材料 饵(Ⅲ) 掺杂
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高效的红外到可见上转换氟氧化物玻璃材料 被引量：16
10
作者 陈宝玖 王海宇 +3 位作者 秦伟平 曹望和 许武 黄世华 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期257-259,共3页
本文报道了一种高效的 Er3+掺杂红外到可见的上转换氟氧化物玻璃材料。材料的组份为 6 0 Te O2 -8Pb F2 - 10 Al F3- 10 Ba F2 - 10 Na F- 2 Er O3/2 ,给出了样品的制备方法。测量了该材料在室温下的吸收光谱 ,在 80 8和 970 nm L D激... 本文报道了一种高效的 Er3+掺杂红外到可见的上转换氟氧化物玻璃材料。材料的组份为 6 0 Te O2 -8Pb F2 - 10 Al F3- 10 Ba F2 - 10 Na F- 2 Er O3/2 ,给出了样品的制备方法。测量了该材料在室温下的吸收光谱 ,在 80 8和 970 nm L D激发下观察到了非常强的上转换荧光 ,测量了在不同激发波长激发下 Er3+ 的绿色荧光 ,讨论了在 80 8和 970 nm激发下上转换发光的机理。测量了上转换发射光谱 ,研究了 L D的工作电流与上转换荧光强度的关系 ,证明了在 80 8和 970 nm激发下 Er3+离子的绿色上转换发射都需要两个激发光子。 展开更多
关键词 氟氧化物玻璃 铒离子掺杂 上转换激光材料
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基于高分辨力CCD的大口径光学元件疵病检测 被引量：12
11
作者 程晓锋 徐旭 +4 位作者 张林 贺群 袁晓东 蒋晓东 郑万国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期1677-1680,共4页
介绍了一种利用高分辨力CCD快速检测大口径光学元件表面和体内疵病的方法。利用侧照明方式对大口径光学元件进行均匀掠射照明,表面和体内疵病因为散射在暗室成像过程中影像被放大。对比研究了疵病示踪尺寸和真实尺寸,得出近似数学关系,... 介绍了一种利用高分辨力CCD快速检测大口径光学元件表面和体内疵病的方法。利用侧照明方式对大口径光学元件进行均匀掠射照明,表面和体内疵病因为散射在暗室成像过程中影像被放大。对比研究了疵病示踪尺寸和真实尺寸,得出近似数学关系,利用高分辨力CCD,通过一次性成像获得光学元件疵病尺寸近似值、2维空间位置等定量描述表面特征的信息。 展开更多
关键词 ICF 大口径光学元件 疵病 快速检测
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80kV可调节高压脉冲方波脉冲电源的研制 被引量：9
12
作者 李亚维 丁明军 +2 位作者 马成刚 刘云涛 谢敏 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期2742-2746,共5页
研制了80kV可调节高压脉冲方波电源系统以对ZnO样品特性进行测试,实现电源输出脉宽、重复频率、运行时间可调。系统采用人工形成线、脉冲变压器加可调节负载电阻等技术路线,实现了高压方波脉冲的输出;采用高速数据I/O卡产生序列脉冲信... 研制了80kV可调节高压脉冲方波电源系统以对ZnO样品特性进行测试,实现电源输出脉宽、重复频率、运行时间可调。系统采用人工形成线、脉冲变压器加可调节负载电阻等技术路线,实现了高压方波脉冲的输出;采用高速数据I/O卡产生序列脉冲信号控制两个火花间隙开关的通断,对人工形成线形成的方波进行截尾,实现了输出方波宽度可调;利用Labview中的图形化控件,编写友好简洁的计算机控制界面;采用光电隔离、光纤传输和供电隔离等一系列措施,提高触发控制系统的抗干扰能力。实验结果表明,最终电源输出电压幅值超过80kV,输出方波脉冲宽度超过25μs,脉冲前沿小于0.7μs,并且输出电压幅值可调,脉冲宽度在输出范围内可连续调节。利用该电源对ZnO压敏电阻样品进行了测试,得到了较好的ZnO压敏电阻非线性伏安特性曲线。 展开更多
关键词 ZNO压敏电阻 连续可调 测试 控制 脉冲方波电源
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K9基片的亚表面损伤探测及化学腐蚀处理技术研究 被引量：11
13
作者 陈宁 张清华 +2 位作者 许乔 王世健 段利华 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1289-1293,共5页
研究了几种类型的腐蚀液对K9基片化学腐蚀的影响。通过腐蚀液对基片纵向腐蚀速度的变化初步判断了K9基片重沉积层的深度。考察了腐蚀前后基片表面参数的变化以及腐蚀对激光损伤阈值的影响。研究表明,特定的腐蚀液能够对K9基片进行平稳... 研究了几种类型的腐蚀液对K9基片化学腐蚀的影响。通过腐蚀液对基片纵向腐蚀速度的变化初步判断了K9基片重沉积层的深度。考察了腐蚀前后基片表面参数的变化以及腐蚀对激光损伤阈值的影响。研究表明,特定的腐蚀液能够对K9基片进行平稳可控的腐蚀,并且腐蚀能提高其激光损伤阈值,其主要原因是去除了重沉积层及表面、亚表面缺陷中的污染物,但过多的腐蚀会暴露本来为重沉积层所掩盖的划痕等亚表面缺陷,所以腐蚀并非越深越好。同时,表面各种杂质与缺陷的去除能够提高材料的机械强度,从而也有利于提高材料的激光损伤阈值。 展开更多
关键词 化学腐蚀 亚表面缺陷 激光损伤阈值 重沉积层
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激光非线性复合功能晶体的研究和发展 被引量：8
14
作者 张国春 王国富 +1 位作者 官向国 傅佩珍 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期769-778,共10页
简要回顾了激光非线性复合功能晶体(即自倍频晶体)的发展过程,从结构、生长和性能等方面对现已研制发展的Nd:Mg:LiNbO3(NMLN)、NdxY1-xAl3(BO3)4(NYAB)、C4:KTP、LaBGeO5:Nd3+、β’-Gd2(MoO4)3:Nd3+(GMO:Nd3+)、掺Nd3+或Yb3+的ReCa4O(B... 简要回顾了激光非线性复合功能晶体(即自倍频晶体)的发展过程,从结构、生长和性能等方面对现已研制发展的Nd:Mg:LiNbO3(NMLN)、NdxY1-xAl3(BO3)4(NYAB)、C4:KTP、LaBGeO5:Nd3+、β’-Gd2(MoO4)3:Nd3+(GMO:Nd3+)、掺Nd3+或Yb3+的ReCa4O(BO3)3(ReCOB;Re=Gd、Y)(即 Nd:GdCOB、Yb:GdCOB、Nd:YCOB、Yb:YCOB)、Yb:BaCaBO3F等几种主要类型的自倍频晶体的研究现状进行了总结,并对该类晶体的发展做了展望. 展开更多
关键词 非线性光学 激光非线性复合功能晶体 自倍频晶体 结构 晶体生长 性能 激光器 材料
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神光-Ⅲ主机激光装置片状放大器洁净控制进展 被引量：10
15
作者 程晓锋 苗心向 +14 位作者 陈远斌 王洪彬 秦朗 吕海兵 熊迁 贺群 马志强 叶亚云 赵龙彪 刘勇 贺少勃 袁晓东 朱启华 景峰 郑万国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期1-2,共2页
针对神光-Ⅲ主机激光装置片状放大器的洁净控制采取了一系列有效措施。除了设计上更有利于洁净控制外,机械结构件表面残留不挥发性有机污染物也达到了低于1 mg/m2的水平。为了进一步提高放大器洁净度,进行了光照清洗。实验结果表明：神... 针对神光-Ⅲ主机激光装置片状放大器的洁净控制采取了一系列有效措施。除了设计上更有利于洁净控制外,机械结构件表面残留不挥发性有机污染物也达到了低于1 mg/m2的水平。为了进一步提高放大器洁净度,进行了光照清洗。实验结果表明：神光-Ⅲ主机装置的洁净水平与美国国家点火装置接近,光照清洗时内部气溶胶等级维持在5 000~10 000之间,且绝大部分表面有机残留物在最初几发光照清洗中已被释放,从而得到一个干净的放大器腔体,减少了放大器运行时光学元件受污染和损伤的几率。 展开更多
关键词 激光驱动器 片状放大器 洁净度 光照清洗
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再发射技术测量SGⅡ黑腔靶早期对称性 被引量：10
16
作者 陈伯伦 蒋炜 +11 位作者 景龙飞 袁铮 黎航 余波 蒲昱东 苏明 晏骥 黄天晅 江少恩 刘慎业 杨家敏 丁永坤 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期385-388,共4页
利用再发射技术能够有效测量早期辐射驱动对称性。2011年在神光Ⅱ激光装置上,采用Bi替代靶,通过改变靶丸的支撑方式和优化探测器配置,利用分幅相机获得较高信噪比的Bi球表面再发射图像。利用实验结果获得了入射流不对称性P2分量随时间... 利用再发射技术能够有效测量早期辐射驱动对称性。2011年在神光Ⅱ激光装置上,采用Bi替代靶,通过改变靶丸的支撑方式和优化探测器配置,利用分幅相机获得较高信噪比的Bi球表面再发射图像。利用实验结果获得了入射流不对称性P2分量随时间的变化,对比两种腔长的黑腔,P2分量随时间的变化存在明显差别。两种腔P2分量随时间的变化趋势与采用视角因子模拟的结果基本一致。 展开更多
关键词 再发射 早期不对称性 P2分量 Bi替代靶
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Tm^(3+)/Yb^(3+)掺杂亚碲酸盐玻璃蓝红光上转换的研究 被引量：8
17
作者 牛春晖 曹望和 +1 位作者 臧春雨 陈宝玖 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期227-230,共4页
研究了掺Tm3+ /Yb3+ 亚碲酸盐玻璃室温下的上转换发光。用 970nm波长的半导体激光器作为泵浦源 ,得到了高效率的 480nm波长上转换的荧光。通过对不同掺杂浓度样品的发光比较 ,发现了这种玻璃上转换发光的浓度猝灭现象 ,找出了这种玻璃... 研究了掺Tm3+ /Yb3+ 亚碲酸盐玻璃室温下的上转换发光。用 970nm波长的半导体激光器作为泵浦源 ,得到了高效率的 480nm波长上转换的荧光。通过对不同掺杂浓度样品的发光比较 ,发现了这种玻璃上转换发光的浓度猝灭现象 ,找出了这种玻璃得到高效率上转换发光的适宜浓度 ,并对Tm3+ 的浓度猝灭现象进行了分析。通过对上转换发光强度与泵浦强度关系曲线的拟合 ,看到这种上转换是三光子吸收过程 ,这与通过能级图分析得到的结果相同。另外 ,也对 65 0nm波长的上转换发光进行了研究。 展开更多
关键词 掺杂 亚碲酸盐玻璃 稀土 上转换发光 浓度猝灭 碲化物玻璃 钐 镱 光吸收 激光器 工作物质
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基于Marangoni界面效应的数控化学抛光去除函数的研究 被引量：9
18
作者 侯晶 许乔 +3 位作者 雷向阳 周礼书 张清华 王健 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期555-558,共4页
利用基于Marangoni界面效应对化学抛光去除函数的理论及实验进行研究,提出采用湿法化学抛光(刻蚀)方法为大口径高精度光学元件的加工提供新的解决途径。介绍了Marangoni界面效应及其验证实验,运用WYKO轮廓仪对熔石英基片局域刻蚀前后的... 利用基于Marangoni界面效应对化学抛光去除函数的理论及实验进行研究,提出采用湿法化学抛光(刻蚀)方法为大口径高精度光学元件的加工提供新的解决途径。介绍了Marangoni界面效应及其验证实验,运用WYKO轮廓仪对熔石英基片局域刻蚀前后的粗糙度进行检测,结果表明,粗糙度基本无变化,刻蚀前后粗糙度分别为0. 72nm和0. 71nm。基于Preston假设, 建立了数控化学抛光理论模型,运用WYKO干涉仪观察实验现象可知,化学抛光刻蚀曲线基本上成平底陡峭的去除函数曲线,小磨头抛光是倒置的仿高斯函数曲线。 展开更多
关键词 Marangoni界面效应 数控化学抛光 去除函数 化学刻蚀
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波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制 被引量：13
19
作者 付雄鹰 孔明东 +1 位作者 胡建平 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期413-417,共5页
研究 Ｈｆ Ｏ２／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀 Ｈｆ Ｏ２、反应离子辅助蒸镀 Ｈｆ Ｏ２、反应离子辅助蒸镀金属 Ｈｆ 的源材料形成 Ｈｆ Ｏ２ 薄膜。采用这三种工艺制备了 Ｈ... 研究 Ｈｆ Ｏ２／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀 Ｈｆ Ｏ２、反应离子辅助蒸镀 Ｈｆ Ｏ２、反应离子辅助蒸镀金属 Ｈｆ 的源材料形成 Ｈｆ Ｏ２ 薄膜。采用这三种工艺制备了 Ｈｆ Ｏ２ ／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜，在中心波长 １０６４ｎｍ 处，反射率 Ｒ≥９９．５％ ，其中反应蒸镀 Ｈｆ Ｏ２ ／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜损伤阈值最高，可达 ６０ Ｊ／ｃｍ ２（１０６４ｎｍ ，５ｎｓ）。 展开更多
关键词 反射膜 激光诱导损伤 阈值 激光薄膜
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用于制备YAG透明陶瓷激光材料超细粉体的合成及其表征研究 被引量：6
20
作者 徐雪春 卢铁城 +4 位作者 承刚 刘彦章 杨争 黄存新 林理彬 《四川大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期894-897,共4页
作者以硝酸钇和硫酸铝铵 (摩尔比为 3∶5 )为原料 ,碳酸氢铵为沉淀剂 ,利用无机体系共沉淀法制备了钇铝石榴石Y3 Al5O12 (YAG)前驱体 .对前驱体进行适当处理并采用高温热解法 ,制备出了纯相的YAG超细粉体 .用XRD分别分析了不同焙烧温度... 作者以硝酸钇和硫酸铝铵 (摩尔比为 3∶5 )为原料 ,碳酸氢铵为沉淀剂 ,利用无机体系共沉淀法制备了钇铝石榴石Y3 Al5O12 (YAG)前驱体 .对前驱体进行适当处理并采用高温热解法 ,制备出了纯相的YAG超细粉体 .用XRD分别分析了不同焙烧温度下所得粉体物相、用TG/DTA分析前驱体在加热过程中的重量变化和晶化的温度 ,用TEM观察所得YAG超细粉体的形貌 .结果表明 ,和其它无机体系相比 ,可在较低焙烧温度 (90 0℃ )下直接得到YAG纯相 ,而且粉体颗粒细小均匀 ,呈椭球形 ,尺寸为 30～ 4 0nm . 展开更多
关键词 YAG透明陶瓷 激光材料 超细粉体 合成 无机体系共沉淀法 结构表征 硝酸钇 硫酸铝铵
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