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题名真空感应熔炼靶材磁控溅射生产高阻值薄膜电阻器
被引量：3
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作者
毛大立
王家敏
张澜庭
毛立忠
吴建生
王绪亭
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机构
上海交通大学材料科学系高温材料及高温测试开放实验室
上海无线电一厂
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出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第3期260-263,共4页
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基金
国家自然科学基金
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文摘
介绍了用真空感应熔炼方法生产用于高阻值薄膜电阻器的磁控溅射靶材，并报告了用这种靶材进行薄膜电阻器生产的溅射工艺参数和热处理方法，以及电阻器的电学性能测试结果。实际生产表明，这种用真空感应熔炼方法生产的靶材，完全能用于薄膜电阻器的磁控溅射并能得到满意的薄膜电阻器的性能指标。
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关键词
电阻器
真空感应熔炼
靶材
磁控
薄膜电阻器
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Keywords
vacuum induction melt metallurgy, target, sputtering deposition, thin film resistors
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分类号
TM544.05
[电气工程—电器]
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题名化学沉积Ni-P膜电阻器热处理工艺研究
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作者
刘仲娥
袁彩华
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机构
天津大学电子工程系
天津大学分析中心
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出处
《天津大学学报》
EI
CAS
CSCD
1992年第1期101-105,共5页
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文摘
研究热处理工艺对化学沉积金属膜电阻器的温度系数和潮湿系数的影响。发现热处理工艺可使Ni-P膜电阻器获得优良的电性能。对热处理前后的Ni-P膜层做了电子衍射分析,探讨了热处理前后的微观结构。
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关键词
化学沉积
电阻器
镍-磷膜
热处理
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Keywords
electroless plating, temperature coefficient (TCR), moisture coefficient (MCR), heat treatment technology, diffraction pattern
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分类号
TM544.05
[电气工程—电器]
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题名水合二氧化钌制备的新方法——次氯酸钠法
被引量：1
- 3
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作者
粱国珍
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机构
机电部
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出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
1993年第4期37-37,共1页
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文摘
1 前言《直接氧化法制备水合二氧化钌》方法中使用氯气,由液氯钢瓶发生。在长期试验中,由于钢瓶阀门被氯气不同程度地腐蚀,而常常发生氯气的泄漏,对环境和试验人员带来一定的危害。根据劳动部规定,这种剧毒气体在空气中的浓度不允许超过0.01mg/L。为此,改进制备方法,消除氯气的危害,成为我们必须解决的课题。经摸索、试验,总结出一种新的制备方法——次氯酸钠法。
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关键词
水合
二氧化钌
制备
次氯酸钠法
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分类号
TM544.05
[电气工程—电器]
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题名自动回转喷膜烧结炉
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作者
俞善昌
龚炳荣
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机构
上海无线电一厂
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出处
《电子节能》
1997年第4期21-23,共3页
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文摘
介绍一种节能增效、自动化程序较高的薄膜电阻器膜层烧结设备。
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关键词
炉体结构
自动喷膜
薄膜电阻
膜层烧结炉
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分类号
TM544.05
[电气工程—电器]
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