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热处理工艺对KHP—2坡莫合金磁导率的影响 被引量:4
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作者 诸葛兰剑 李亚东 邹垂峰 《磁性材料及器件》 CSCD 1996年第2期50-53,共4页
研究了热处理工艺对KHP—2坡莫合金磁导率的影响,获得适用于磁头生产的热处理工艺,对影响磁导率的机理进行了探讨。
关键词 坡莫合金 热处理工艺 磁导率 磁头
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Fe_(73.5)Cu_1Mo_3Si_(13.5)B_9超微晶磁粉芯的研究 被引量:9
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作者 丘渝青 王正杰 《金属功能材料》 CAS 1997年第2期71-74,共4页
本文对FeCutMOpita.sBs超微晶合金带制作磁粉芯的工艺进行了研究。特别对粉的粒度、成形压力、绝缘剂的配比以及磁粉芯的磁性能进行了深入的探讨。发现磁粉芯的性能与制粉用的微晶带材是否具有优良磁性能无关。通过调整... 本文对FeCutMOpita.sBs超微晶合金带制作磁粉芯的工艺进行了研究。特别对粉的粒度、成形压力、绝缘剂的配比以及磁粉芯的磁性能进行了深入的探讨。发现磁粉芯的性能与制粉用的微晶带材是否具有优良磁性能无关。通过调整绝缘剂量及其组分可以使磁粉芯的磁性能发生相应的变化。 展开更多
关键词 超微晶合金 磁粉芯 绝缘剂 坡莫合金粉
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磁光盘的介质膜材料AlN、AlSiN薄膜的电子显微分析
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作者 缪向水 李佐宜 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第2期249-252,共4页
本文研究了磁光盘介质薄膜──AlN和AlSiN薄膜的电子显微结构.通过透射电镜分析了AlN薄膜的多晶结构和C轴垂直取向;通过X射线衍射分析、透射电镜分析和X射线光电子能谱分析,确定了AlSiN薄膜并不是多晶AlN和S... 本文研究了磁光盘介质薄膜──AlN和AlSiN薄膜的电子显微结构.通过透射电镜分析了AlN薄膜的多晶结构和C轴垂直取向;通过X射线衍射分析、透射电镜分析和X射线光电子能谱分析,确定了AlSiN薄膜并不是多晶AlN和SiN薄膜的简单组合,而是形成了稳定的非晶特征结构.且AlSiN薄膜由于其非晶结构而比AlN薄膜的磁光克尔效应增强效果更优越. 展开更多
关键词 薄膜 电子显微结构 磁光盘 磁介质
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