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题名二元光栅照明研究
被引量：4
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作者
罗先刚
陈旭南
姚汉民
冯伯儒
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机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
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出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1998年第6期111-115,共5页
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文摘
采用部分相干成象理论对二元光栅照明进行了较为详细的研究。分析了二元光栅照明对分辨力、焦深、照明能量和照明均匀性的影响，并通过实验研究验证了二元光栅对分辨力和焦深有较大程度的提高。
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关键词
分辨率
焦深
二元光栅
照明
光刻
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Keywords
Resolution,Focal depth,Binary Grating,Illumination,Photolithography.
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分类号
TH305.7
[机械工程—机械制造及自动化]
TH741.6
[机械工程—光学工程]
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题名激光LIGA工艺实验设计
- 2
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作者
沈蓓军
王润文
路敦武
黄惠杰
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所
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出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
1996年第3期172-176,共5页
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文摘
文章介绍了一种用于准分子激光深层光刻实验装置的设计，并根据该设计思想进行了可行性原理实验，取得了较好的结果。
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关键词
LIGA
激光深层光刻
光刻
准分子激光
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Keywords
LIGA process,deep-etch laser lithography
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分类号
TH305.7
[机械工程—机械制造及自动化]
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题名激光光刻中的超分辨现象研究
被引量：4
- 3
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作者
沈亦兵
杨国光
侯西云
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机构
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第11期1512-1517,共6页
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基金
国防预研基金
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文摘
激光光刻是加工微光学及二元光学掩模的主要手段。光刻的最细线宽对所加工的二元微器件性能起决定作用。本文导出了会聚的高斯光束用于激光光刻时在光刻胶内的光场近似分布形式， 由此可判断出能光刻线条的分辨力。若入射高斯光束受到振幅或相位调制时， 胶层内的光强分布将发生变化， 从而影响曝光线条的线宽和质量。计算看出： 当入射光中心环受到遮拦时， 可以得到超过光刻物镜极限分辨的线条宽度（０．６ μｍ ）， 但此时对曝光能量控制要求很高。在激光直接写入系统上的曝光试验结果与理论计算相符。
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关键词
二元光学
激光直写
微光刻
超分辨
光刻
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Keywords
binary optics, laser direct writer, microlithography.
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分类号
TH305.7
[机械工程—机械制造及自动化]
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