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机器人研磨抛光工艺研究被引量：22: 1; 作者郭彤颖曲道奎徐方《新技术新工艺》 2006年第1期84-85,共2页; 以有机玻璃为研究对象,介绍了机器人研磨抛光工艺,讨论了研磨抛光参数优化设计方法,并进行了研磨抛光试验。试验结果表明,研磨抛光后的工件,能够达到产品外形和表面质量的要求,且提高了磨抛效率。; 关键词机器人研磨抛光工艺参数优化正交设计; 在线阅读下载PDF 职称材料

CMP加工过程中抛光速度对液膜厚度的影响分析被引量：2: 2; 作者郁炜吕迅楼飞燕《轻工机械》 CAS 2008年第6期97-99,共3页; 化学机械抛光过程中抛光工艺参数对抛光液的流动特性有重要影响。采用LIF技术实验研究抛光参数对抛光液液膜厚度的影响。研究表明,抛光液膜厚度随着抛光速度的增加而增加,增加的趋势随抛光转速的提高而减缓。同时液膜厚度随着抛光压力... 展开更多; 关键词化学机械抛光液膜厚度抛光速度激光诱导荧光; 在线阅读下载PDF 职称材料

CMP加工过程中晶片形状对抛光液流动特性的影响被引量：1: 3; 作者郁炜吕迅楼飞燕《轻工机械》 CAS 2008年第5期93-95,共3页; 化学机械抛光过程中抛光液的流动特性取决于被抛光晶片的形状和抛光参数。采用LIF技术来实验研究晶片形状及抛光参数对抛光液液膜厚度的影响。研究表明,凸面晶片与抛光垫摩擦过程中,抛光液膜厚度随着抛光盘转速的增加而增加,随着下压力... 展开更多; 关键词化学机械抛光流动特性激光诱导荧光; 在线阅读下载PDF 职称材料

磁流变抛光去除模型及驻留时间算法研究被引量：15: 4; 作者孙希威张飞虎 +1 位作者董申康桂文《新技术新工艺》 2006年第2期73-75,共3页; 建立了磁流变抛光球形光学元件的去除模型,分析了影响磁流变抛光的因素,提出了驻留时间算法,用其仿真加工球形工件,结果表明该算法是收敛的,并用磁流变抛光加工了R41.3mm、口径20mm的K9光学玻璃球面工件,获得了Rms8.441nm、PV57.911nm... 展开更多; 关键词磁流变抛光去除模型驻留时间; 在线阅读下载PDF 职称材料

振摆抛光工艺原理的试验研究被引量：1: 5; 作者刘莹李福援 +1 位作者纪峰万宏强《新技术新工艺》 2006年第2期76-78,共3页; 介绍了一类新型光饰机及其基本结构。通过正交试验,对于磨料浆液相对静止而工件振动或振摆的光整加工工艺进行了初步分析,认为这种工艺下工件材料去除主要靠磨粒对工件的冲蚀而完成。这种工艺可达到Ra0.1μm的表面,值得进一步研究。; 关键词振动抛光磨料; 在线阅读下载PDF 职称材料

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