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题名电子屏蔽罩支架平面度超差原因分析及控制
被引量：3
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作者
张金梁
曹建国
邵长伟
杜磊
武欢
代先东
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机构
四川大学机械工程学院
长江机械有限公司
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出处
《锻压技术》
CAS
CSCD
北大核心
2022年第11期109-115,共7页
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基金
四川大学-泸州市人民政府战略合作科技创新研发项目(2021CDLZ-3)。
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文摘
屏蔽罩支架是屏蔽罩的重要组成部分,为解决屏蔽罩支架产品的平面度超差问题,对其产生原因和工艺优化进行了分析。首先,采用数值模拟技术,探讨了顶料力、压边及压边力和板料工艺结构等因素对屏蔽罩支架成形质量的影响,结果表明,增大顶料力、添加压边圈并全拉深、增加压边力、改进工艺结构有利于抑制该薄板冲压件的翘曲倾向。然后,根据影响因素设计了优化方案并最终通过实物实验,发现在精冲结束后增加一道过压量为0.01 mm的过压整形工序,以及更改引伸工序前面板料工艺结构为C型的优化方案有利于抑制翘曲,同时采用两种优化方案可以将平面度从0.6~0.8 mm减小至0.3~0.5 mm。
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关键词
屏蔽罩支架
平面度
回弹
翘曲
精冲
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Keywords
shield bracket
flatness
springback
warpage
fine blanking
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分类号
TG355.83
[金属学及工艺—金属压力加工]
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