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镁合金的等离子体电解氧化工艺优化及膜的耐腐蚀性
被引量：
3
1
作者
陈砺
彭家志
+2 位作者
严宗诚
王红林
王丽
《华南理工大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第12期49-52,共4页
为优化AZ31镁合金的等离子体电解氧化工艺,并对制得的陶瓷膜的耐腐蚀性能进行电化学动力学研究.利用四因素(Na_2SiO_3浓度、KOH浓度、电解氧化电压和电解氧化时间)、三水平的田口方法优化工艺条件,并采用动电位极化曲线扫描评价AZ31镁...
为优化AZ31镁合金的等离子体电解氧化工艺,并对制得的陶瓷膜的耐腐蚀性能进行电化学动力学研究.利用四因素(Na_2SiO_3浓度、KOH浓度、电解氧化电压和电解氧化时间)、三水平的田口方法优化工艺条件,并采用动电位极化曲线扫描评价AZ31镁合金等离子体电解氧化陶瓷膜的耐腐蚀性能.结果表明:该陶瓷膜的耐腐蚀性能受田口正交矩阵中各水平的影响显著,KOH质量浓度对耐腐蚀性能的影响最大;耐腐蚀性能的最优实验参数为:Na_2SiO_3质量浓度20 g/L,KOH质量浓度4 g/L,电解氧化电压300 V和电解氧化时间40min。
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关键词
等离子体电解氧化
田口方法
陶瓷膜
AZ31镁合金
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职称材料
退膜槽中磷酸的测定
2
作者
汪洋
《沈飞科技》
1990年第3期24-30,共7页
关键词
退膜槽
磷酸
测定
氧化
零件
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职称材料
脉冲激光沉积TiN/AlN多层膜的微结构与力学性能
被引量：
4
3
作者
唐普洪
宋仁国
+2 位作者
柴国钟
毛杰
熊京远
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第12期1798-1804,共7页
采用脉冲激光沉积(LPA)法,在单晶Si表面制备了调制周期为50nm的不同调制比的TiN/AlN多层膜,并研究了调制比对多层膜微结构和力学性能的影响。扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)显示,薄膜的调制比在1～4之间。并且小调制比下薄膜表面的...
采用脉冲激光沉积(LPA)法,在单晶Si表面制备了调制周期为50nm的不同调制比的TiN/AlN多层膜,并研究了调制比对多层膜微结构和力学性能的影响。扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)显示,薄膜的调制比在1～4之间。并且小调制比下薄膜表面的岛密度小,岛面积过大,分布不均匀,相邻岛之间的起伏较大。X射线衍射(XRD)结果表明,小调制比下,AlN相为明显的(002)择优取向,TiN相主要以(200)、(220)形式存在;调制比增大后,AlN相的择优取向减弱,同时伴随着薄膜晶粒的细化及硬度增强,这一研究结果说明,调制比对多层膜的性质有一定的影响,大调制比会导致Al元素在界面处聚集,并与TiN进行合金化后的形成TiAlN结构,进而对薄膜的硬度产生影响。
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关键词
脉冲激光沉积(PLA)
多层膜
TiN/AlN
微观结构
纳米压痕
原文传递
题名
镁合金的等离子体电解氧化工艺优化及膜的耐腐蚀性
被引量：
3
1
作者
陈砺
彭家志
严宗诚
王红林
王丽
机构
华南理工大学化学与化工学院
出处
《华南理工大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第12期49-52,共4页
基金
广东省科技计划项目(2005B50101001)
文摘
为优化AZ31镁合金的等离子体电解氧化工艺,并对制得的陶瓷膜的耐腐蚀性能进行电化学动力学研究.利用四因素(Na_2SiO_3浓度、KOH浓度、电解氧化电压和电解氧化时间)、三水平的田口方法优化工艺条件,并采用动电位极化曲线扫描评价AZ31镁合金等离子体电解氧化陶瓷膜的耐腐蚀性能.结果表明:该陶瓷膜的耐腐蚀性能受田口正交矩阵中各水平的影响显著,KOH质量浓度对耐腐蚀性能的影响最大;耐腐蚀性能的最优实验参数为:Na_2SiO_3质量浓度20 g/L,KOH质量浓度4 g/L,电解氧化电压300 V和电解氧化时间40min。
关键词
等离子体电解氧化
田口方法
陶瓷膜
AZ31镁合金
Keywords
plasma electrolytic oxidation
Taguchi method
ceramic coating
AZ31 magnesium alloy
分类号
TG174.415 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
退膜槽中磷酸的测定
2
作者
汪洋
出处
《沈飞科技》
1990年第3期24-30,共7页
关键词
退膜槽
磷酸
测定
氧化
零件
分类号
TG174.415 [金属学及工艺—金属表面处理]
在线阅读
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职称材料
题名
脉冲激光沉积TiN/AlN多层膜的微结构与力学性能
被引量：
4
3
作者
唐普洪
宋仁国
柴国钟
毛杰
熊京远
机构
浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室
嘉兴职业技术学院
出处
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第12期1798-1804,共7页
基金
国家自然科学基金资助项目(50975259)
浙江省自然科学基金青年科技人才培养资助项目(R405031)
嘉兴市科技计划资助项目(2009AY2007)
文摘
采用脉冲激光沉积(LPA)法,在单晶Si表面制备了调制周期为50nm的不同调制比的TiN/AlN多层膜,并研究了调制比对多层膜微结构和力学性能的影响。扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)显示,薄膜的调制比在1～4之间。并且小调制比下薄膜表面的岛密度小,岛面积过大,分布不均匀,相邻岛之间的起伏较大。X射线衍射(XRD)结果表明,小调制比下,AlN相为明显的(002)择优取向,TiN相主要以(200)、(220)形式存在;调制比增大后,AlN相的择优取向减弱,同时伴随着薄膜晶粒的细化及硬度增强,这一研究结果说明,调制比对多层膜的性质有一定的影响,大调制比会导致Al元素在界面处聚集,并与TiN进行合金化后的形成TiAlN结构,进而对薄膜的硬度产生影响。
关键词
脉冲激光沉积(PLA)
多层膜
TiN/AlN
微观结构
纳米压痕
Keywords
pulsed laser ablation（PLA）
multilayer films
TiN/AlN
microstructure
分类号
TG174.415 [金属学及工艺—金属表面处理]
TG156.95 [金属学及工艺—热处理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
镁合金的等离子体电解氧化工艺优化及膜的耐腐蚀性
陈砺
彭家志
严宗诚
王红林
王丽
《华南理工大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
退膜槽中磷酸的测定
汪洋
《沈飞科技》
1990
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
脉冲激光沉积TiN/AlN多层膜的微结构与力学性能
唐普洪
宋仁国
柴国钟
毛杰
熊京远
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
4
原文传递
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