CO_(2)驱油是CO_(2)捕集、利用与封存(carbon capture,utilization and storage,CCUS)技术中CO_(2)地质利用环节的重要组成部分,延长油田开展CO_(2)驱油与封存项目取得了良好的增油封碳效果,但实际CO_(2)驱注入环境下的管柱腐蚀失效原...CO_(2)驱油是CO_(2)捕集、利用与封存(carbon capture,utilization and storage,CCUS)技术中CO_(2)地质利用环节的重要组成部分,延长油田开展CO_(2)驱油与封存项目取得了良好的增油封碳效果,但实际CO_(2)驱注入环境下的管柱腐蚀失效原因尚不明晰。利用扫描电镜(scanning electron microscopy,SEM)、3D共聚焦显微镜、能谱分析(energy dispersive spectrometer,EDS)、X射线衍射(X-ray diffraction spectroscopy,XRD)等实验手段对取自吴起某CO_(2)驱油与封存示范区注气管柱的腐蚀形貌进行表征,并对管柱腐蚀产物进行分析,以期明确研究区CO_(2)驱注气管柱腐蚀失效原因。结果表明:以CO_(2)腐蚀为主导的局部腐蚀造成注气管柱的腐蚀失效,腐蚀产物包括FeCO_(3)、Fe的高价氧化物及少量FeS。分析认为,低温CO_(2)的连续注入不会引起管柱腐蚀,但CO_(2)停注期间井筒温度回升、地层水上返使得注气管柱具备了发生CO_(2)/H_(2)S腐蚀的条件,且注气井转注水进一步加剧了管柱腐蚀。建议在CO_(2)停注以及转注水期间加强对注气管柱的杀菌与防腐措施。展开更多
模拟7B04铝合金表面涂层破损,采用电化学试验研究7B04铝合金在不同环境条件下的自腐蚀与点蚀行为,基于电偶腐蚀数学模型,通过有限元法分析7B04铝合金与TA15钛合金接触后发生点蚀的条件。结果表明:7B04铝合金点蚀电位受Cl^-浓度和pH值的...模拟7B04铝合金表面涂层破损,采用电化学试验研究7B04铝合金在不同环境条件下的自腐蚀与点蚀行为,基于电偶腐蚀数学模型,通过有限元法分析7B04铝合金与TA15钛合金接触后发生点蚀的条件。结果表明:7B04铝合金点蚀电位受Cl^-浓度和pH值的影响,在NaCl质量分数>10%的中性溶液及NaCl质量分数为3.5%的酸性溶液中,自腐蚀状态下7B04铝合金即可发生点蚀;7B04铝合金与TA15钛合金接触后,电位升高,增加了发生点蚀的可能性,在NaCl质量分数为3.5%的中性溶液中,当阴阳极面积比≥40时,7B04铝合金发生点蚀的萌生并进一步扩展;7B04铝合金电位随阴阳极距离的增大而下降,但幅度有限,在10 m的距离内下降不超过2 m V。展开更多
文摘CO_(2)驱油是CO_(2)捕集、利用与封存(carbon capture,utilization and storage,CCUS)技术中CO_(2)地质利用环节的重要组成部分,延长油田开展CO_(2)驱油与封存项目取得了良好的增油封碳效果,但实际CO_(2)驱注入环境下的管柱腐蚀失效原因尚不明晰。利用扫描电镜(scanning electron microscopy,SEM)、3D共聚焦显微镜、能谱分析(energy dispersive spectrometer,EDS)、X射线衍射(X-ray diffraction spectroscopy,XRD)等实验手段对取自吴起某CO_(2)驱油与封存示范区注气管柱的腐蚀形貌进行表征,并对管柱腐蚀产物进行分析,以期明确研究区CO_(2)驱注气管柱腐蚀失效原因。结果表明:以CO_(2)腐蚀为主导的局部腐蚀造成注气管柱的腐蚀失效,腐蚀产物包括FeCO_(3)、Fe的高价氧化物及少量FeS。分析认为,低温CO_(2)的连续注入不会引起管柱腐蚀,但CO_(2)停注期间井筒温度回升、地层水上返使得注气管柱具备了发生CO_(2)/H_(2)S腐蚀的条件,且注气井转注水进一步加剧了管柱腐蚀。建议在CO_(2)停注以及转注水期间加强对注气管柱的杀菌与防腐措施。
文摘模拟7B04铝合金表面涂层破损,采用电化学试验研究7B04铝合金在不同环境条件下的自腐蚀与点蚀行为,基于电偶腐蚀数学模型,通过有限元法分析7B04铝合金与TA15钛合金接触后发生点蚀的条件。结果表明:7B04铝合金点蚀电位受Cl^-浓度和pH值的影响,在NaCl质量分数>10%的中性溶液及NaCl质量分数为3.5%的酸性溶液中,自腐蚀状态下7B04铝合金即可发生点蚀;7B04铝合金与TA15钛合金接触后,电位升高,增加了发生点蚀的可能性,在NaCl质量分数为3.5%的中性溶液中,当阴阳极面积比≥40时,7B04铝合金发生点蚀的萌生并进一步扩展;7B04铝合金电位随阴阳极距离的增大而下降,但幅度有限,在10 m的距离内下降不超过2 m V。
