期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到5,057篇文章
< 1 2 … 250 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
第二十三讲离子注入与离子辅助沉积技术
1
作者 张以忱 《真空》 2026年第1期109-112,共4页
(接2025年第6期114页)图26是1980年代美国Eaton公司生产的电子束蒸发与离子束辅助轰击相结合的Z-200型离子束辅助沉积装置的示意图。图中下方为电子束蒸发装置。当电子束加速到10 keV轰击坩埚内材料时,材料熔化蒸发(升华),形成喷向靶台... (接2025年第6期114页)图26是1980年代美国Eaton公司生产的电子束蒸发与离子束辅助轰击相结合的Z-200型离子束辅助沉积装置的示意图。图中下方为电子束蒸发装置。当电子束加速到10 keV轰击坩埚内材料时,材料熔化蒸发(升华),形成喷向靶台的粒子流。蒸发台上有四个坩埚,顺次转位,保证在不破坏真空的条件下,可沉积四种不同的材料。沉积靶台与离子束及蒸发的粒子流成45°. 展开更多
关键词 电子束蒸发 Z-200型 离子辅助沉积 离子注入
原文传递
非晶四面体碳膜对2Cr3WMoV合金钢表面耐磨性能的影响 被引量：1
2
作者 李远洁 赵玉清 +1 位作者 王炎武 董乃强 《润滑与密封》 北大核心 2025年第4期1-8,共8页
为提高2Cr3WMoV合金钢的表面摩擦性能,利用磁控溅射沉积技术与过滤阴极真空电弧技术分别在未经过渗碳和渗碳热处理后的2Cr3WMoV合金结构钢试样表面制备TiN过渡层及非晶四面体碳的多层结构复合膜。采用球-盘摩擦磨损试验仪、三维形貌仪... 为提高2Cr3WMoV合金钢的表面摩擦性能,利用磁控溅射沉积技术与过滤阴极真空电弧技术分别在未经过渗碳和渗碳热处理后的2Cr3WMoV合金结构钢试样表面制备TiN过渡层及非晶四面体碳的多层结构复合膜。采用球-盘摩擦磨损试验仪、三维形貌仪、表面磨痕测量仪等对比分析不同合金结构钢试样镀膜前后的摩擦磨损性能。结果表明:渗碳热处理工艺对2Cr3WMoV合金钢制备非晶四面体碳基多层复合膜后试样的摩擦磨损性能影响较大,在渗碳2Cr3WMoV试样表面制备多层复合膜结构后,表面摩擦因数由0.54降低到0.077,磨损率由3.03×10^(-9)cm^(3)/(N·m)降低到9.44×10^(-10)cm^(3)/(N·m)。由于表面渗碳及抛光工艺提升了合金试样的表面硬度,并降低表面粗糙度,从而使该试样制备非晶四面体碳基复合膜后具有最为优异的摩擦磨损性能及膜层与基体的结合强度。 展开更多
关键词 非晶四面体碳膜 合金结构钢 表面渗碳处理 摩擦磨损性能 磁过滤阴极真空电弧
在线阅读 下载PDF
流化床-化学气相沉积制备核燃料颗粒铝金属包覆层
3
作者 刘马林 杨旭 +2 位作者 刘荣正 邵友林 刘兵 《中国粉体技术》 2025年第5期102-110,共9页
【目的】针对金属基燃料元件中铀核芯与外部金属基体间的相容性不好,运行过程中核芯与基体界面处易出现空隙导致燃料元件失效的问题,设计含有铝金属包覆层的包覆颗粒,通过金属包覆层提升核芯与金属基体间的界面相容性。【方法】采用流化... 【目的】针对金属基燃料元件中铀核芯与外部金属基体间的相容性不好,运行过程中核芯与基体界面处易出现空隙导致燃料元件失效的问题,设计含有铝金属包覆层的包覆颗粒,通过金属包覆层提升核芯与金属基体间的界面相容性。【方法】采用流化床-化学气相沉积技术,以三异丁基铝为前驱体在颗粒表面沉积铝包覆层,设计铝包覆层的前驱体输运与包覆层沉积装置,研究铝包覆层包括前驱体输运条件、沉积温度参数、颗粒流化参数等的制备工艺。【结果】通过对设备与工艺参数的调节,可以提升铝包覆层的沉积效率与包覆质量,最终获得金属铝包覆层的制备工艺与参数,在球形颗粒和非球形颗粒表面均制备得到厚度约8μm且均匀的铝包覆层,包覆层生长速率约2.6μm/h,内部致密并且实现与核芯间的紧密结合。【结论】流化床-化学气相沉积法适宜于铝金属包覆层的制备,可以用于下一步的金属基核燃料研究,但在包覆速率和宏量生产工艺方面还有值得继续优化。 展开更多
关键词 包覆颗粒 先进核燃料 铝包覆层 流化床 化学气相沉积
在线阅读 下载PDF
氧化石墨烯纳滤膜插层改性研究进展 被引量：1
4
作者 李泾贤 郝嘉劲 +1 位作者 王磊 王旭东 《膜科学与技术》 北大核心 2025年第1期156-171,共16页
近年来,由无机二维材料氧化石墨烯(GO)构筑的纳滤膜因其显著的渗透和分离性能而备受关注.其中,GO纳滤膜内部典型的二维传输通道成为了决定其权衡上限的关键因素.插层法作为一种灵活便捷的改性方式已被证明可用于调控GO纳滤膜的层间通道... 近年来,由无机二维材料氧化石墨烯(GO)构筑的纳滤膜因其显著的渗透和分离性能而备受关注.其中,GO纳滤膜内部典型的二维传输通道成为了决定其权衡上限的关键因素.插层法作为一种灵活便捷的改性方式已被证明可用于调控GO纳滤膜的层间通道性能.但根据插层材料种类和性质的不同,其对GO纳滤膜的综合性能会产生一定影响.因此,本文从GO纳滤膜的层间通道调控出发,强调了插层技术的独特优势.并根据插层材料的属性将其分为刚性纳米材料和柔性纳米材料两大类,详细分析了各类材料在对GO纳滤膜进行插层时结构和性能上的影响.同时,也提出了插层法在制备GO纳滤膜时目前所面临的一些困难和挑战,并对未来的研究方向做出了展望,旨在为设计具有出色稳定性和高分离性能的GO纳滤膜提供参考和借鉴. 展开更多
关键词 纳滤 纳米材料 膜 氧化石墨烯 插层法
在线阅读 下载PDF
外加辅助阳极的高功率脉冲磁控溅射管内Cr涂层制备及其性能分析
5
作者 王子嘉 李宇鑫 +3 位作者 胡天时 田修波 巩春志 张辉 《中国表面工程》 北大核心 2025年第1期99-106,共8页
工业生产中管筒件内表面的工作环境恶劣,对腐蚀和磨损等方面的性能有更高要求。为改善管筒件的内表面性能,采用管尾添加辅助阳极的高功率脉冲磁控溅射(Hi PIMS)技术对内径40 mm、长度120 mm碳钢管进行内壁Cr涂层制备。探究辅助阳极电压... 工业生产中管筒件内表面的工作环境恶劣,对腐蚀和磨损等方面的性能有更高要求。为改善管筒件的内表面性能,采用管尾添加辅助阳极的高功率脉冲磁控溅射(Hi PIMS)技术对内径40 mm、长度120 mm碳钢管进行内壁Cr涂层制备。探究辅助阳极电压对Cr靶放电特性和管内Cr沉积的可达深度、相结构及其力学性能的影响规律,分析外加辅助阳极后管内等离子体分布情况,并建立理论模型。结果表明,较高的辅助阳极电压下,基体电流有所增加,特别在管尾位置处。随着辅助阳极电压升高,管内Cr沉积可达深度整体提高,膜层致密度提升。Cr膜的涂层硬度和弹性模量均随着辅阳电压的提高先上升后下降。当辅助阳极电压40V时,Cr涂层可达深度最好,具有最高的硬度和弹性模量。在HiPIMS放电条件下,辅助阳极可以通过牵引电子实现对等离子体定向输运的调控,并显著提高管尾等离子体密度。实现了在管筒件内表面沉积Cr涂层,满足了管筒件内表面在恶劣环境下广泛应用的需求。 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射 管内壁镀膜 辅助阳极 等离子体分布 可达深度
在线阅读 下载PDF
沉积压强对AlCrSiN/Mo自润滑涂层结构及性能的影响
6
作者 王重阳 刘艳梅 +7 位作者 连伟锋 张银行 何猛 薛锐 吕源江 刘大桐 徐远剑 王铁钢 《材料工程》 北大核心 2025年第9期219-228,共10页
为解决AlCrSiN涂层刀具在干切削时因摩擦因数高导致切削温度急剧上升,严重缩短刀具使用寿命的难题,通过在AlCrSiN涂层中掺杂第六副族Mo元素改善涂层摩擦学性能。采用高功率脉冲磁控溅射与脉冲直流磁控溅射复合镀膜技术,在不同沉积压强... 为解决AlCrSiN涂层刀具在干切削时因摩擦因数高导致切削温度急剧上升,严重缩短刀具使用寿命的难题,通过在AlCrSiN涂层中掺杂第六副族Mo元素改善涂层摩擦学性能。采用高功率脉冲磁控溅射与脉冲直流磁控溅射复合镀膜技术,在不同沉积压强下制备AlCrSiN/Mo涂层,调控涂层成分及结构,利用扫描电镜、电子探针分析仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪、划痕测试仪及摩擦磨损试验机对涂层的成分结构、力学性能及摩擦学性能进行表征。结果表明:随着沉积压强增加,涂层择优生长取向由(111)晶面转变为(200)晶面,组织结构变得更加致密;涂层的临界载荷从65.6 N逐渐增至82.0 N,但沉积速率呈线性降低。当沉积压强为1.6 Pa时,涂层的硬度与弹性模量均达到最高值,分别为20.6 GPa和394.3 GPa;特征值H/E与H3/E2也达到最大,分别为0.052 GPa和0.046 GPa,此时涂层摩擦学性能最佳,摩擦因数与磨损率分别为0.59与1.52×10^(-3)μm^(3)·N^(-1)·μm^(-1)。 展开更多
关键词 沉积压强 AlCrSiN/Mo 弹性模量 H/E 磨损率
在线阅读 下载PDF
Fe(Se,Te)超导薄膜的研究进展
7
作者 杨伊航 杨芳 +3 位作者 刘吉星 张胜楠 闫果 张平祥 《稀有金属材料与工程》 北大核心 2025年第9期2395-2402,共8页
由于薄膜材料所具有特殊的维度效应、界面效应等使其相比于块体材料具有独特的优势。铁硫族超导体Fe(Se,Te)由于具有简单的晶体结构,更加有利于对于超导机理的研究。研究发现在SrTiO_(3)(STO)衬底上生长的单层FeSe超导薄膜显著提高了超... 由于薄膜材料所具有特殊的维度效应、界面效应等使其相比于块体材料具有独特的优势。铁硫族超导体Fe(Se,Te)由于具有简单的晶体结构,更加有利于对于超导机理的研究。研究发现在SrTiO_(3)(STO)衬底上生长的单层FeSe超导薄膜显著提高了超导转变温度(Tc),这使得FeSe超导薄膜的研究成为理解非常规超导体机制的新方向。此外,在FeSe多层膜的研究中也发现了相比于块体材料临界转变温度提升的现象。本文从Fe(Se,Te)超导薄膜的制备和应力效应、界面效应等因素对Tc增强两方面综述了近年来的研究成果。 展开更多
关键词 超导薄膜 薄膜制备 界面增强超导电性
原文传递
基于辅助阳极的氧化铟锡射频磁控溅射离子能量分布调控
8
作者 黄天源 赵一凡 +4 位作者 莫超超 梅杨 张潇漫 季佩宇 吴雪梅 《物理学报》 北大核心 2025年第23期239-248,共10页
磁控溅射沉积透明导电氧化物薄膜过程中,理解离子动力学过程是揭示“溅射损伤”机理并发展损伤抑制策略的关键.本研究在纯Ar气氛下,以氧化铟锡为阴极靶材,系统探讨辅助阳极正偏压对射频磁控放电中基底入射离子能量分布的影响.结果表明,... 磁控溅射沉积透明导电氧化物薄膜过程中,理解离子动力学过程是揭示“溅射损伤”机理并发展损伤抑制策略的关键.本研究在纯Ar气氛下,以氧化铟锡为阴极靶材,系统探讨辅助阳极正偏压对射频磁控放电中基底入射离子能量分布的影响.结果表明,入射正离子包括O^(+),Ar^(+),In^(+),Sn^(+)及多种金属氧化物分子离子和双电荷离子,其能量由溅射原子的初始逸出能与等离子体电势共同决定,并随辅助阳极偏压的升高而增强.负离子源于阴极溅射,其中O–和O_(2)^(-)负离子能量分布宽广且呈多峰结构,与阴极电压、等离子体电势的射频振荡及离子输运的弛豫效应密切相关.金属氧化物负离子(InO^(–),InO_(2)^(-),SnO^(–)和SnO_(2)^(-))对射频鞘响应滞后,其高能峰向阴极偏置电压收敛.高能负离子是导致“溅射损伤”的主要原因,施加辅助阳极正偏压能有效降低其能量,为透明导电氧化物薄膜损伤抑制提供潜在解决方案. 展开更多
关键词 射频磁控溅射 氧化铟锡 离子能量分布 辅助阳极
在线阅读 下载PDF
抗结冰涂层研究进展
9
作者 范海兵 周国伟 +5 位作者 邹晖 袁晓辉 汪振波 刘威 诸葛飞 叶羽敏 《材料科学与工程学报》 北大核心 2025年第3期504-512,共9页
在日常生活和工业生产中,户外装备的表面积冰往往造成诸多影响,严重时甚至危害公共安全并造成重大经济。因此,赋予材料表面抗结冰性能具有重要的现实意义。在众多抗结冰手段中,被动防冰的抗结冰涂层日益受到研究者的关注。抗结冰涂层主... 在日常生活和工业生产中,户外装备的表面积冰往往造成诸多影响,严重时甚至危害公共安全并造成重大经济。因此,赋予材料表面抗结冰性能具有重要的现实意义。在众多抗结冰手段中,被动防冰的抗结冰涂层日益受到研究者的关注。抗结冰涂层主要通过改变材料表面的微结构和化学成分来调整表面与水/冰之间的相互作用,从而降低冰的成核速率和粘附力,以达到抗结冰的目的。近年来,包括超疏水表面、超滑注液多孔表面和类液表面等多种抗结冰涂层被提出,并展示了其在不同领域中的应用前景。本文主要回顾了三类涂层的主要制备方法,简述其在抗结冰领域中的最新进展,并分别指出三种涂层目前在抗结冰领域中各自的优势与不足之处。最后,介绍了各类抗结冰涂层在电力输送等领域的工程应用。 展开更多
关键词 抗结冰 涂层 超疏水表面 超滑注液多孔表面 类液表面
在线阅读 下载PDF
基于双向原位陶瓷化的高碳钢表面强化综合实验设计
10
作者 赵梓源 张国君 李均明 《实验技术与管理》 北大核心 2025年第6期98-105,共8页
为了获得兼具高硬度和高结合力的高碳钢表面耐磨陶瓷层,设计了磁控溅射与固体渗碳相结合制备高碳钢表面碳化钨层综合实验。首先采用磁控溅射技术在高碳钢表面沉积金属钨层,然后基于双向原位陶瓷化原理将钨层转变为碳化钨陶瓷层。所制备... 为了获得兼具高硬度和高结合力的高碳钢表面耐磨陶瓷层,设计了磁控溅射与固体渗碳相结合制备高碳钢表面碳化钨层综合实验。首先采用磁控溅射技术在高碳钢表面沉积金属钨层,然后基于双向原位陶瓷化原理将钨层转变为碳化钨陶瓷层。所制备的碳化钨层具有高陶瓷相体积分数、高致密度和锯齿状的膜基界面,这些特点赋予了碳化钨层优异的硬度、结合强度和耐磨性。整个实验流程包括材料制备、物相与组织表征、性能测试等环节,不仅让学生体验了完整的科研过程,而且锻炼了他们的创新思维和实践能力,能够为材料专业复合型科技人才培养提供助力。 展开更多
关键词 高碳钢 表面强化 磁控溅射 固体渗碳 陶瓷层
在线阅读 下载PDF
减摩耐磨高性能TiCN薄膜工艺优化及性能研究
11
作者 于朋 何箐 +2 位作者 袁涛 王世兴 刘桂欣 《真空》 2025年第6期1-8,共8页
通过四因素三水平正交试验设计方法,采用PVD多功能离子镀膜机在Cr12MoV模具钢表面制备TiCN薄膜,研究了不同工艺参数对TiCN薄膜力学和摩擦磨损性能的影响,优化了薄膜制备工艺参数。结果表明,各因素对TiCN薄膜结合力的影响权重为甲烷和氮... 通过四因素三水平正交试验设计方法,采用PVD多功能离子镀膜机在Cr12MoV模具钢表面制备TiCN薄膜,研究了不同工艺参数对TiCN薄膜力学和摩擦磨损性能的影响,优化了薄膜制备工艺参数。结果表明,各因素对TiCN薄膜结合力的影响权重为甲烷和氮气流量比>弧电流>气体总流量>偏压,对TiCN薄膜硬度的影响权重为甲烷和氮气流量比>气体总流量>偏压>弧电流,甲烷和氮气流量比主要通过改变碳含量对TiCN薄膜力学性能产生影响。以结合力为指标的工艺方案所得TiCN薄膜性能最好,工艺参数为气体总流量为450 sccm,甲烷和氮气流量比为5∶1,偏压为200 V,弧电流为60 A,所制备TiCN薄膜硬度为3456.76 HV,结合力为36.7 N,平均摩擦因数为0.2813,显著提高了基体的抗摩擦磨损性能。 展开更多
关键词 TiCN薄膜 正交试验 碳含量 力学性能 减摩耐磨
原文传递
DyCuAl非晶合金薄膜制备及玻璃形成能力的评价
12
作者 程岩 姜琛 +5 位作者 张茂彩 艾静雯 那世航 王誉 辛博 崔红兵 《中国稀土学报》 北大核心 2025年第2期355-363,共9页
采用磁控共溅射技术在不同基底上制备高通量的稀土Dy基非晶合金薄膜。利用XRD,SEM,EDS,TEM,四探针仪等对Dy-Cu-Al非晶合金薄膜的微观形貌、物相结构、电学性质等进行表征。结果表明:磁控共溅射制备的高通量Dy-Cu-Al非晶合金薄膜致密、... 采用磁控共溅射技术在不同基底上制备高通量的稀土Dy基非晶合金薄膜。利用XRD,SEM,EDS,TEM,四探针仪等对Dy-Cu-Al非晶合金薄膜的微观形貌、物相结构、电学性质等进行表征。结果表明:磁控共溅射制备的高通量Dy-Cu-Al非晶合金薄膜致密、均匀、无孔洞,与基底结合良好,生长性能好,厚度可控,成分均匀,无偏析。以薄膜半峰全宽Δq和电阻率ρ作为玻璃形成能力(GFA)评价参数,快速确定了Dy-Cu-Al非晶合金薄膜的高GFA合金成分范围。再由薄膜硬度(H)进一步确定该非晶合金体系中硬度更高、更接近于Dy-Cu合金共晶点的最高GFA合金组成为Dy_(53.5)Cu_(30.8)Al_(15.7)。Dy-Cu-Al非晶合金薄膜的制备不仅填充了稀土基非晶薄膜制备与研究的空白,且对新提出的评价标准做了进一步的实验验证,对高性能非晶薄膜的研究与应用具有借鉴意义。 展开更多
关键词 磁控共溅射 Dy基非晶合金 玻璃形成能力 半峰宽 电阻率 硬度
原文传递
Si_(3)N_(4)基底TiC薄膜的制备及其摩擦学性能的研究
13
作者 王贺 褚健翔 +3 位作者 闫广宇 吴玉厚 陈思博 戴广远 《材料保护》 2025年第8期147-154,共8页
为解决Si_(3)N_(4)陶瓷轴承在使用过程中因其高摩擦系数引起的发热问题,采用磁控溅射法在Si_(3)N_(4)陶瓷轴承表面制备了4种碳含量(原子分数)分别为38.84%、63.90%、69.23%、78.04%的TiC薄膜,研究了薄膜碳含量对薄膜微观结构和性能的影... 为解决Si_(3)N_(4)陶瓷轴承在使用过程中因其高摩擦系数引起的发热问题,采用磁控溅射法在Si_(3)N_(4)陶瓷轴承表面制备了4种碳含量(原子分数)分别为38.84%、63.90%、69.23%、78.04%的TiC薄膜,研究了薄膜碳含量对薄膜微观结构和性能的影响;利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的表面、截面形貌及薄膜成分;利用纳米划痕实验、摩擦磨损实验分析薄膜的膜基结合力及摩擦学性能。结果表明:TiC薄膜拥有无定形碳包裹着晶粒的结构;随着碳元素含量的增加,TiC薄膜显示出(111)择优取向生长趋势并慢慢转变为无明显择优取向生长;当碳含量为63.90%(原子分数)时,TiC薄膜拥有最高的膜基结合力26.22 N。与Si_(3)N_(4)的摩擦系数0.419相比,当碳含量为78.04%(原子分数)时,TiC薄膜拥有比Si_(3)N_(4)基底更低的摩擦系数0.047;在Si_(3)N_(4)陶瓷轴承表面制备TiC薄膜可以有效提高结合力并降低摩擦系数。 展开更多
关键词 磁控溅射法 TiC薄膜 Si_(3)N_(4)基底 碳含量 膜基结合力 摩擦学性能
在线阅读 下载PDF
TiAlSiN涂层结构对涂层力学性能的影响
14
作者 刘兴龙 李晨 蔺增 《东北大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第4期33-42,共10页
采用真空电弧离子镀技术,使用TiSi(原子比80∶20)和AlTi(原子比67∶33)合金作为靶材,在WC-Co基体上沉积双层及多层TiAlSiN涂层.研究了涂层结构对微观结构、力学特性、摩擦学性能的影响.采用TEM,SEM,EDS,XRD、纳米压痕仪、显微硬度仪、... 采用真空电弧离子镀技术,使用TiSi(原子比80∶20)和AlTi(原子比67∶33)合金作为靶材,在WC-Co基体上沉积双层及多层TiAlSiN涂层.研究了涂层结构对微观结构、力学特性、摩擦学性能的影响.采用TEM,SEM,EDS,XRD、纳米压痕仪、显微硬度仪、结合力测试仪分别对涂层的截面及磨痕形貌、磨痕成分、微观结构、弹性模量、显微硬度、结合力等进行了分析;采用摩擦磨损试验机对涂层的摩擦学性能进行了分析.结果表明:多层结构涂层的结合力(>200N)优于双层结构涂层,双层结构涂层具有较强的抵抗塑性变形能力,而多层结构涂层抵抗弹性变形的能力较强.在小载荷下涂层的摩擦系数受涂层表面形貌影响较大,而在大载荷下涂层的表面形貌对摩擦系数影响较小.氧化磨损仅出现在双层结构涂层中,而磨粒磨损在2种涂层摩擦过程均有出现,多层结构涂层的耐磨性能优于双层结构涂层. 展开更多
关键词 电弧离子镀 TiAlSiN 微观结构 力学特性 摩擦学性能
在线阅读 下载PDF
PEN/Al_(2)O_(3)柔性阻隔膜的制备及其性能研究
15
作者 孙小杰 陈兰兰 封伟 《功能材料》 北大核心 2025年第10期10115-10120,共6页
以PEN为柔性基底材料,分别利用热原子层沉积(T-ALD)和等离子体增强原子层沉积(PEALD)制备氧化铝(Al_(2)O_(3))薄膜。通过对比发现,当沉积温度为80℃时,PEALD制备的Al_(2)O_(3)薄膜O和Al元素比更接近标准值,薄膜纯度更高;薄膜厚度不均匀... 以PEN为柔性基底材料,分别利用热原子层沉积(T-ALD)和等离子体增强原子层沉积(PEALD)制备氧化铝(Al_(2)O_(3))薄膜。通过对比发现,当沉积温度为80℃时,PEALD制备的Al_(2)O_(3)薄膜O和Al元素比更接近标准值,薄膜纯度更高;薄膜厚度不均匀性更低,仅为1.43%,说明此条件下利用PEALD技术成膜质量更好。另外,利用PEALD技术分别在80℃、100℃和120℃条件下镀膜,结果表明:当温度提高至120℃时,沉积循环数为300 cycles的Al_(2)O_(3)薄膜表面粗糙度最低,为0.48 nm,薄膜的密度逐渐增大至2.97 g/cm^(3),且水蒸气透过率最低,为1.955×10^(-3) g/m^(2)/day。 展开更多
关键词 原子层沉积 氧化铝 阻隔膜 水蒸气透过率
在线阅读 下载PDF
微球表面超薄金属涂层厚度的SEM-EDS测量技术研究
16
作者 胡勇 叶成钢 +1 位作者 马小军 顾倩倩 《自动化应用》 2025年第20期186-187,192,共3页
首先,详细介绍了基于扫描电子显微镜的X射线能谱法(SEM-EDS)的微球表面金属超薄涂层厚度的测量方法;然后,基于蒙特卡洛模拟构建了工作曲线;最后,开展了微球表面超薄Au涂层厚度测量实验。实验结果表明,基于蒙特卡洛模拟校准的SEM-EDS方... 首先,详细介绍了基于扫描电子显微镜的X射线能谱法(SEM-EDS)的微球表面金属超薄涂层厚度的测量方法;然后,基于蒙特卡洛模拟构建了工作曲线;最后,开展了微球表面超薄Au涂层厚度测量实验。实验结果表明,基于蒙特卡洛模拟校准的SEM-EDS方法可实现球面金属超薄薄膜厚度的精密测量,其测量偏差达5 nm。 展开更多
关键词 微球金属涂层 厚度测量 SEM-EDS 蒙特卡洛模拟
在线阅读 下载PDF
磁控溅射沉积不同膜结构TiN薄膜对Si_(3)N_(4)基底的耐磨性能改善研究
17
作者 王贺 陈思博 +3 位作者 闫广宇 吴玉厚 褚健翔 戴广远 《材料保护》 2025年第7期85-95,共11页
为解决氮化硅陶瓷轴承在极端工况下表面易受磨损的问题,采用磁控溅射法在氮化硅基底上制备梯度、多层和单层TiN薄膜。选用3种氮气供给模式:以15 mL/min为初始流量,每5 min N_(2)流量递增0.8 mL/min、交替开关N_(2)流量0+30 mL/min、N_(2... 为解决氮化硅陶瓷轴承在极端工况下表面易受磨损的问题,采用磁控溅射法在氮化硅基底上制备梯度、多层和单层TiN薄膜。选用3种氮气供给模式:以15 mL/min为初始流量,每5 min N_(2)流量递增0.8 mL/min、交替开关N_(2)流量0+30 mL/min、N_(2)恒流30 mL/min。采用XRD衍射仪、扫描电子显微镜研究薄膜结构对薄膜表面、截面形貌和微观结构的影响,通过划痕和摩擦磨损试验检测薄膜的膜基结合力和摩擦磨损性能。结果显示:在相同试验条件下,梯度TiN薄膜拥有最高的膜基结合力(L_(C2)为19.12 N),比单层TiN薄膜提高约0.3倍,与氮化硅的摩擦系数(0.78)和磨损率[1.51×10^(-5)mm^(3)/(m·N)]相比,不同膜结构的TiN薄膜的摩擦系数和磨损率均有明显下降,梯度TiN薄膜拥有最低的摩擦系数(0.10)和最低的磨损率[3.33×10^(-6)mm^(3)/(m·N)]。不同膜结构设计显著影响TiN薄膜的微观结构、膜基结合力和摩擦学性能,摩擦学性能最好的膜结构为梯度TiN薄膜结构。 展开更多
关键词 磁控溅射法 Si_(3)N_(4)基底 TIN薄膜 膜基结合力 摩擦学性能
在线阅读 下载PDF
第二十三讲 离子注入与离子辅助沉积技术
18
作者 张以忱 《真空》 2025年第1期86-88,共3页
(接2024年第6期88页)电荷双层对来自阴极的电子起到加速和聚焦的作用,强化了这一区域的电离,实现了对等离子体的第一次压缩。被“第一电荷双层”聚成一束的电子流,通过中间电极孔进入阳极区域。该区域在中间电极和磁感应线圈的作用下形... (接2024年第6期88页)电荷双层对来自阴极的电子起到加速和聚焦的作用,强化了这一区域的电离,实现了对等离子体的第一次压缩。被“第一电荷双层”聚成一束的电子流,通过中间电极孔进入阳极区域。该区域在中间电极和磁感应线圈的作用下形成非均匀磁场,通过强磁场的压缩,阳极孔形成的等离子体密度比“等离子体泡”更强,即又形成了一个电荷双层。我们把它叫做第二电荷双层区。 展开更多
关键词 离子辅助沉积 非均匀磁场 等离子体密度 离子注入 电极孔 强磁场 电子流 电荷
原文传递
第二十三讲 离子注入与离子辅助沉积技术
19
作者 张以忱 《真空》 2025年第6期112-114,共3页
(接2025年第5期100页)当近表面区碰撞能量足够高时,将会有原子从表面原子区中逐出,形成反溅射,降低薄膜的生长速率。因组成元素的溅射产额不同,也会使薄膜成分改变。此外,高能量的离子束轰击也会引起辐照损伤,产生点缺陷、间隙缺陷和缺... (接2025年第5期100页)当近表面区碰撞能量足够高时,将会有原子从表面原子区中逐出,形成反溅射,降低薄膜的生长速率。因组成元素的溅射产额不同,也会使薄膜成分改变。此外,高能量的离子束轰击也会引起辐照损伤,产生点缺陷、间隙缺陷和缺陷聚集团。但如果离子通过电子激活来释放能量,则不发生原子碰撞引起的辐照损伤。总之,离子束辅助沉积膜的生成机制十分复杂,它不仅包含了一般的物理气相沉积及离子束轰击中存在的多种相互矛盾的机制,而且各对矛盾间还存在着关联,其膜生成的最终面貌取决于相互制约的多种矛盾过程中的主要矛盾的主要方面。 展开更多
关键词 反溅射 薄膜生长速率 离子辅助沉积 离子注入
原文传递
第二十三讲 离子注入与离子辅助沉积技术
20
作者 张以忱 《真空》 2025年第5期98-100,共3页
(接2025年第5期100页)离子注入使得晶圆表面带正电,这会对后续正离子的注入产生排斥,引起离子束弯曲(见图21(a)),造成掺杂的不均匀分布和晶圆表面的弧形缺陷,甚至击穿栅氧化层,降低工艺的成品率,这就是充电效应。因此,离子注入过程需要... (接2025年第5期100页)离子注入使得晶圆表面带正电,这会对后续正离子的注入产生排斥,引起离子束弯曲(见图21(a)),造成掺杂的不均匀分布和晶圆表面的弧形缺陷,甚至击穿栅氧化层,降低工艺的成品率,这就是充电效应。因此,离子注入过程需要通过电子中和系统(见图21(b)),即在离子束中注入电子来中和晶圆表面电荷,以消除和减弱充电效应。 展开更多
关键词 充电效应 晶圆表面 离子辅助沉积 离子注入
原文传递
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 2 … 250 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部