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ITO膜的制备及性能研究 被引量：1
1
作者 赵亚丽 刘伟 +2 位作者 李旭峰 贾琨 谷建宇 《应用化工》 CAS CSCD 北大核心 2019年第S01期70-72,77,共4页
采用直流磁控溅射技术,在玻璃上沉积了30 nm~700 nm厚的系列透明导电ITO(In_(2)O_(3)∶Sn)薄膜。研究膜厚对透光率、方阻和屏效的影响。可见光的平均透光率在79%~87%,方阻在1.4Ω/~44Ω/之间变化,在低频的时候,屏蔽效能和膜厚没有多大... 采用直流磁控溅射技术,在玻璃上沉积了30 nm~700 nm厚的系列透明导电ITO(In_(2)O_(3)∶Sn)薄膜。研究膜厚对透光率、方阻和屏效的影响。可见光的平均透光率在79%~87%,方阻在1.4Ω/~44Ω/之间变化,在低频的时候,屏蔽效能和膜厚没有多大的关系,在高频阶段屏蔽效能随膜厚的增加而增大。 展开更多
关键词 ITO薄膜 膜厚 透光率 方块电阻 电磁屏蔽
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