本文报道了用热阴极直流辉光放电等离子体化学气相沉积(PCVD)方法,在单晶硅和石英玻璃基片上合成金刚石薄膜的结果。采用 X 射线衍射、Raman 散射、扫描电子显微镜和傅利叶变换红外光谱测定了合成膜的性能。初步探讨了合成金刚石条件下...本文报道了用热阴极直流辉光放电等离子体化学气相沉积(PCVD)方法,在单晶硅和石英玻璃基片上合成金刚石薄膜的结果。采用 X 射线衍射、Raman 散射、扫描电子显微镜和傅利叶变换红外光谱测定了合成膜的性能。初步探讨了合成金刚石条件下等离子体的状态,利用朗缪尔探针诊断了在金刚石生长条件下等离子体的电子温度和密度。展开更多
文摘本文报道了用热阴极直流辉光放电等离子体化学气相沉积(PCVD)方法,在单晶硅和石英玻璃基片上合成金刚石薄膜的结果。采用 X 射线衍射、Raman 散射、扫描电子显微镜和傅利叶变换红外光谱测定了合成膜的性能。初步探讨了合成金刚石条件下等离子体的状态,利用朗缪尔探针诊断了在金刚石生长条件下等离子体的电子温度和密度。
