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组分掺杂对YbF_(3)薄膜材料光学和理化特性的影响及其在红外光学薄膜元件制备中的应用
1
作者 马秋静 段微波 +5 位作者 于天燕 李大琪 余德明 刘保剑 庄秋慧 刘定权 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第1期86-96,共11页
本文研究了沉积方式及氟化钙(CaF_(2))的掺杂对氟化镱(YbF_(3))薄膜材料光学和理化特性的影响。分别使用电子束蒸发工艺和电阻蒸发工艺,制备了纯YbF_(3)薄膜及掺杂不同比例CaF_(2)的YbF_(3)薄膜,通过光谱测量、应力测量、X射线衍射(XRD... 本文研究了沉积方式及氟化钙(CaF_(2))的掺杂对氟化镱(YbF_(3))薄膜材料光学和理化特性的影响。分别使用电子束蒸发工艺和电阻蒸发工艺,制备了纯YbF_(3)薄膜及掺杂不同比例CaF_(2)的YbF_(3)薄膜,通过光谱测量、应力测量、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等测试方式对单层膜样品进行了表征,并使用经典洛伦兹谐振子色散模型对其进行光学常数拟合。结果表明,在采用电子束蒸发工艺、CaF_(2)掺杂比例为1%的条件下,获得了光学和理化性能较好的单层膜。在该条件下,设计和制备了长波红外减反射膜系,并对其进行了光谱表征和可靠性测试,结果表明其在长波红外区的透过率达到99%以上,可靠性达到空间红外光学薄膜相关标准要求。 展开更多
关键词 红外 光学薄膜 氟化镱 掺杂 增透
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双层介孔SiO_(2)减反膜的制备及光学性能分析
2
作者 张子潮 肖志葳 +2 位作者 贾红宝 王颖 朱世海 《大学物理实验》 2025年第2期37-41,共5页
以三嵌段共聚物F127和阳离子聚合物纳米乳液CPN为模板剂,以正硅酸四乙酯为前驱物,在酸催化的醇体系中制备SiO_(2)溶胶。利用Filmstar薄膜设计软件构建膜系结构,采用提拉法在石英基底上制备出厚度精确可控的双层宽谱带减反射介孔SiO_(2)... 以三嵌段共聚物F127和阳离子聚合物纳米乳液CPN为模板剂,以正硅酸四乙酯为前驱物,在酸催化的醇体系中制备SiO_(2)溶胶。利用Filmstar薄膜设计软件构建膜系结构,采用提拉法在石英基底上制备出厚度精确可控的双层宽谱带减反射介孔SiO_(2)膜。采用原子力显微镜、扫描电镜、透射电镜、N_(2)吸附-脱附分析仪、紫外-可见-近红外分光光度计等对薄膜形貌、结构和光学性能进行表征分析。结果表明,双层介孔SiO_(2)减反膜在300~800 nm范围内平均透过率实际可高达98.9%。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 介孔SiO_(2)薄膜 宽谱带 减反射膜
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显微光谱拟合法在微区薄膜表征中的优化与应用
3
作者 孙习茹 伍滨和 《光学技术》 北大核心 2025年第5期634-640,共7页
近年来随着晶圆和显示面板上的图案尺寸逐渐减小,对微小区域内薄膜参数的高精度测量需求愈发迫切。为实现多点、快速、无损的薄膜参数表征,文章构建了一套基于光学显微镜的微区测量系统(分辨率5~50μm),结合光谱拟合法对薄膜参数进行提... 近年来随着晶圆和显示面板上的图案尺寸逐渐减小,对微小区域内薄膜参数的高精度测量需求愈发迫切。为实现多点、快速、无损的薄膜参数表征,文章构建了一套基于光学显微镜的微区测量系统(分辨率5~50μm),结合光谱拟合法对薄膜参数进行提取。针对高数值孔径(NA)物镜引起的复杂入射角分布与光强非均匀分布问题,文章选取高斯模型作为权重函数对建模误差进行补偿,通过优化模型参数获得更符合显微测量系统特性的反射率值。实验结果表明该方法显著提高了测量精度,薄膜厚度测量误差均小于1.2%,重复测量相对标准差优于2%,适用于在微小区域的高精度厚度测量与结构识别,能够实现多点扫描与形貌表征。 展开更多
关键词 光学测量 显微光谱技术 微区表征 薄膜厚度 数值孔径
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极紫外多层膜氮化物和氧化物保护层的工艺研究
4
作者 王佳兴 韩伟明 +1 位作者 张晗 匡尚奇 《强激光与粒子束》 北大核心 2025年第2期37-45,共9页
极紫外(EUV)反射镜在高能、高功率极紫外光辐照的过程中,其表面易形成碳沉积和氧化,从而影响其反射率,进而缩短其使用寿命。针对这一问题,分别实验研究了在极紫外多层膜表面镀制氮化物和氧化物保护层的制备工艺,并进行了表征。在制备过... 极紫外(EUV)反射镜在高能、高功率极紫外光辐照的过程中,其表面易形成碳沉积和氧化,从而影响其反射率,进而缩短其使用寿命。针对这一问题,分别实验研究了在极紫外多层膜表面镀制氮化物和氧化物保护层的制备工艺,并进行了表征。在制备过程中,基于直流反应磁控溅射技术,研究了工艺气体流量与溅射电压之间的“双曲线”关系,以此优化控制反应气体量,进而降低反应溅射过程中反应气体对Mo/Si多层膜的影响。基于这一方法,分别在Mo/Si多层膜表面镀制TiN、 ZrN和TiO_(2)保护层,应用掠入射X射线反射(GIXR)、X射线光电子能谱(XPS)和透射电子显微成像(TEM)对其进行了表征,并通过对比分析,验证了氮化物保护层具有一定的性能优势。 展开更多
关键词 极紫外多层膜 反应磁控溅射 表面保护层 氮化物/氧化物薄膜
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两步压入法——薄膜力学性能的可靠测量方法 被引量：20
5
作者 田家万 韩增虎 +2 位作者 赖倩茜 虞晓江 李戈扬 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期71-74,共4页
提出了采用力学探针测量薄膜力学性能的两步压入法。该方法通过大载荷压入展示基体变形对薄膜硬度的影响,从而选择不影响基体变形的小载荷测出薄膜的硬度和弹性模量。对高速钢基片上的TiN硬质薄膜,单晶硅片上的金属Ni薄膜和(Ti,Al)N/VN... 提出了采用力学探针测量薄膜力学性能的两步压入法。该方法通过大载荷压入展示基体变形对薄膜硬度的影响,从而选择不影响基体变形的小载荷测出薄膜的硬度和弹性模量。对高速钢基片上的TiN硬质薄膜,单晶硅片上的金属Ni薄膜和(Ti,Al)N/VN纳米多层膜的测量表明,两步压入法能够测出各种性质薄膜的力学性能,并且具有准确可靠的特点。此外,两步法对(Ti,Al)/VN纳米多层膜的力学性能的测量表明,该体系的纳米多层膜存在硬度和弹性模量异常升高的超硬、超模量效应。 展开更多
关键词 薄膜 力学性能 测量方法 两步压入法 纳米多层膜 硬度 弹性模量
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应用白光共焦光谱测量金属薄膜厚度 被引量：31
6
作者 马小军 高党忠 +3 位作者 杨蒙生 赵学森 叶成钢 唐永建 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期17-22,共6页
为了精确测量自支撑金属薄膜厚度及其厚度分布,提出了基于白光共焦光谱传感器的金属薄膜厚度测量技术。介绍了该技术的测量原理及系统结构,研究了系统的测量不确定度。利用相向对顶安装的白光共焦传感器组、精密位移平台并结合自制的薄... 为了精确测量自支撑金属薄膜厚度及其厚度分布,提出了基于白光共焦光谱传感器的金属薄膜厚度测量技术。介绍了该技术的测量原理及系统结构,研究了系统的测量不确定度。利用相向对顶安装的白光共焦传感器组、精密位移平台并结合自制的薄膜厚度校准样品,实现了对厚度为10~100μm的自支撑金属薄膜的厚度及厚度分布的精确测量;通过研究系统的传感器测量不确定度、薄膜厚度校准样品不确定度、上下传感器安装误差及系统重复性测量误差,获得了系统的测量不确定度数据。试验结果表明,该系统的测量不确定度在0.12μm左右,基本满足惯性约束聚变（ICF）靶参数测量所需的稳定性好、测量精度高、非破坏性测量等要求。 展开更多
关键词 白光共焦光谱 金属薄膜 膜厚测量 惯性约束聚变
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薄膜的力学测试技术 被引量：41
7
作者 陈隆庆 赵明暤 张统一 《机械强度》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期413-429,共17页
对薄膜力学性能的测试方法。
关键词 薄膜 力学性能 残余应力 弹性模量 强度 硬度 纳米压痕 压痕断裂法 微悬臂梁 鼓膜试验 MEMS
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腔长失调对光腔衰荡法测量精度的影响 被引量：26
8
作者 易亨瑜 吕百达 +2 位作者 胡晓阳 田小强 张凯 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第8期993-996,共4页
　只考虑腔长失调因素下建立了反射率模拟测量的理论模型。根据高斯光束传输规律分析了腔长失调对衰荡腔模式耦合的影响,推导了腔长失调与谐振腔输出脉冲信号、衰荡信号与反射率之间的关系,模拟了腔长失调在±10mm范围内的光脉冲衰... 　只考虑腔长失调因素下建立了反射率模拟测量的理论模型。根据高斯光束传输规律分析了腔长失调对衰荡腔模式耦合的影响,推导了腔长失调与谐振腔输出脉冲信号、衰荡信号与反射率之间的关系,模拟了腔长失调在±10mm范围内的光脉冲衰荡现象。结果表明:对于光敏面直径为0.2mm的高速探测器,为了保证10-6的测量精度,腔长的失调量应控制在±1mm之间。在光路调节中采用具有对数变换功能的示波器和动态范围较大的探测器,可以提高测量精度。 展开更多
关键词 光学测量 测量精度 光腔衰荡 腔长失调
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HfO_2/SiO_2高反射膜的缺陷及其激光损伤 被引量：21
9
作者 胡建平 陈梅 +1 位作者 付雄鹰 柴林 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期529-532,共4页
用原子力、Normaski和扫描电子显微镜等分析仪器 ,对高损伤阈值薄膜常采用的 Hf O2 /Si O2 薄膜进行了表面显微图象研究 ,分析了薄膜常见的表面缺陷 ,如节瘤 ,孔洞和划痕等。薄膜表面缺陷的激光损伤实验表明 ,不同缺陷的抗激光损伤能力... 用原子力、Normaski和扫描电子显微镜等分析仪器 ,对高损伤阈值薄膜常采用的 Hf O2 /Si O2 薄膜进行了表面显微图象研究 ,分析了薄膜常见的表面缺陷 ,如节瘤 ,孔洞和划痕等。薄膜表面缺陷的激光损伤实验表明 ,不同缺陷的抗激光损伤能力大不相同 ,节瘤缺陷最低 ,约为 1 5 J/ cm2 ,薄膜的损伤阈值主要由其决定 ,孔洞的激光损伤能力与节瘤相比较高 ,约为节瘤的 2～ 3倍。节瘤缺陷在低能量密度的激光损伤所形成的孔洞 ,与镀制过程中形成的孔洞形貌相似 ,激光再损伤能力也相似。 展开更多
关键词 HfO2/SiO2高反射薄膜 表面缺陷 激光损伤 原子电子显微镜 SEM 显微分析
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用透射反射扫描法检测光学薄膜的激光损伤 被引量：14
10
作者 甘荣兵 林理彬 +4 位作者 蒋晓东 黄祖鑫 钟伟 郑万国 叶琳 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期45-48,共4页
用波长 1 .0 6 μm的激光透射反射自动扫描装置扫描了激光辐照前后薄膜的反射比和透射比。薄膜样品的工作波长为 1 .0 6 μm。将扫描结果与相衬显微镜观察到的形貌相对照。实验结果表明 ,用透射反射扫描法不仅能反映出相衬显微镜所能观... 用波长 1 .0 6 μm的激光透射反射自动扫描装置扫描了激光辐照前后薄膜的反射比和透射比。薄膜样品的工作波长为 1 .0 6 μm。将扫描结果与相衬显微镜观察到的形貌相对照。实验结果表明 ,用透射反射扫描法不仅能反映出相衬显微镜所能观察到的损伤 ,而且也能发现某些显微镜所不能发现的损伤。由于透射比和反射比可以反映出薄膜对激光的传输性能 ,因此也能反映出薄膜能否继续工作 ,以此来判定损伤与否。因此用透射反射扫描法可以作为检测损伤的手段 ,由于简单易行 ,可以在线检测。 展开更多
关键词 激光损伤 光学薄膜 损伤阈值 透射扫描法 检测 惯性约束核聚变
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水射流作用下岩石破碎理论研究进展 被引量：34
11
作者 廖华林 李根生 易灿 《金属矿山》 CAS 北大核心 2005年第7期1-5,66,共6页
水射流作用下岩石的破碎是一个极为复杂的过程,对水射流作用下岩石破碎机理的认识依然是众说纷纭,由此对水射流破岩机理有多种不同的学说。对此,综述与归纳了水射流作用下岩石破碎的主要理论,包括准静态弹性破碎理论、应力波破碎理论、... 水射流作用下岩石的破碎是一个极为复杂的过程,对水射流作用下岩石破碎机理的认识依然是众说纷纭,由此对水射流破岩机理有多种不同的学说。对此,综述与归纳了水射流作用下岩石破碎的主要理论,包括准静态弹性破碎理论、应力波破碎理论、气蚀(空化)破坏理论、裂纹扩展破碎和损伤破碎理论等。在此基础上评述和分析了水射流破岩理论研究存在的问题,并为水射流破岩理论的研究提出了一些建议。 展开更多
关键词 破碎理论 射流作用 研究进展 岩石破碎机理 水射流 破岩机理 静态弹性 破坏理论 裂纹扩展 理论研究 应力波
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利用光差分技术检测激光激发声表面波定征薄膜材料 被引量：16
12
作者 徐晓东 张淑仪 +2 位作者 张飞飞 刘天柱 K.Wasa 《声学学报》 EI CSCD 北大核心 2003年第3期201-206,共6页
利用激光激发声表面波及改进的光差分检测技术,研究沉积在基片表面的薄膜样品的特性和参量。根据实验获得的声色散曲线和基片已知参数,结合层状媒质中声表面波传播理论,拟合得到薄膜材料的弹性模量、密度和厚度等物理量。结合扫描电子... 利用激光激发声表面波及改进的光差分检测技术,研究沉积在基片表面的薄膜样品的特性和参量。根据实验获得的声色散曲线和基片已知参数,结合层状媒质中声表面波传播理论,拟合得到薄膜材料的弹性模量、密度和厚度等物理量。结合扫描电子显微镜和X光衍射结果分析,并与文献值比较,表明所采用的技术是定征薄膜材料的弹性模量和力学参量的有效方法。 展开更多
关键词 光差分技术 激光激发 声表面波 薄膜材料 弹性模量 密度 厚度 力学参量
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磁电子学中的若干问题 被引量：50
13
作者 蔡建旺 赵见高 +1 位作者 詹文山 沈保根 《物理学进展》 CSCD 北大核心 1997年第2期119-149,共31页
本文综述了自旋极化输运过程中巡游电子的自旋极化、自旋相关的散射及自旋弛豫等三方面的内容；全面总结了铁磁金属的磁电阻效应（ＡＭＲ）、磁性金属多层膜和颗粒膜的巨磁电阻效应（ＧＭＲ）、氧化物铁磁体的特大磁电阻效应（ＣＭＲ）... 本文综述了自旋极化输运过程中巡游电子的自旋极化、自旋相关的散射及自旋弛豫等三方面的内容；全面总结了铁磁金属的磁电阻效应（ＡＭＲ）、磁性金属多层膜和颗粒膜的巨磁电阻效应（ＧＭＲ）、氧化物铁磁体的特大磁电阻效应（ＣＭＲ）以及磁隧道结的巨大隧道电阻效应（ＴＭＲ）研究中具有代表性的实验结果及理论模型；简单介绍了新生的磁电子器件—磁电阻型随机存取存储器（ＭＲＡＭ）和全金属自旋晶体管的工作原理和工作过程。 展开更多
关键词 磁电子学 自旋极化输运 磁电阻 磁隧道结
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分散固相萃取/液相色谱-串联质谱法测定水产品中的8种青霉素残留 被引量：20
14
作者 郭萌萌 李兆新 +4 位作者 谭志军 吴海燕 韩现芹 冷凯良 翟毓秀 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第9期969-975,共7页
建立了同时测定水产品中8种青霉素(阿莫西林、氨苄西林、青霉素G、青霉素V、苯唑西林、氯唑西林、萘夫西林、双氯西林)残留的液相色谱-串联质谱分析方法。以青霉素G-D7为内标,样品经80%乙腈水溶液提取,C18吸附剂分散固相萃取净化,超滤... 建立了同时测定水产品中8种青霉素(阿莫西林、氨苄西林、青霉素G、青霉素V、苯唑西林、氯唑西林、萘夫西林、双氯西林)残留的液相色谱-串联质谱分析方法。以青霉素G-D7为内标,样品经80%乙腈水溶液提取,C18吸附剂分散固相萃取净化,超滤管过滤后进行分析。采用HyPURITY C18色谱柱,以乙腈(含0.1%甲酸)-0.1%甲酸为流动相,梯度洗脱分离后,目标分析物在选择反应监测(SRM)模式下进行定性和定量分析。氨苄西林、青霉素G、萘夫西林在1.0～50.0μg/L范围内线性良好,检出限为0.6μg/kg;青霉素V、苯唑西林、氯唑西林、双氯西林在2.5～100.0μg/L范围内线性良好,检出限为1.5μg/kg;阿莫西林在5.0～200.0μg/L范围内线性良好,检出限为3.0μg/kg。8种青霉素的加标回收率为74%～98%,相对标准偏差均小于10%。该方法准确、灵敏、高效、环保,适用于水产品中多种青霉素抗生素的同时测定。 展开更多
关键词 液相色谱-串联质谱 水产品 青霉素 分散固相萃取
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铁镍镀层中铁镍组成的紫外-可见分光光度分析法 被引量：13
15
作者 郭玉国 张亚利 +1 位作者 郭国霖 徐东升 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期21-24,共4页
用紫外 -可见分光光度法分析了电沉积在导电玻璃上的NiFe合金镀层 ,三价铁与EDTA和H2O2 形成稳定的深紫色三元络合物 ;在氨性溶液中 ,当有氧化剂存在时 ,镍与丁二酮肟形成酒红色的络合物 ,用吸收光度法可分别在519nm和538nm波长处测定... 用紫外 -可见分光光度法分析了电沉积在导电玻璃上的NiFe合金镀层 ,三价铁与EDTA和H2O2 形成稳定的深紫色三元络合物 ;在氨性溶液中 ,当有氧化剂存在时 ,镍与丁二酮肟形成酒红色的络合物 ,用吸收光度法可分别在519nm和538nm波长处测定铁、镍的含量 ,对Fe和Ni的相对标准偏差分别为0.95%和1.2 % ,适用含量范围分别为1～50mg/L和0.5～20mg/L;对实际样品的测定结果与XPS分析的一致 ,该法也适用于其他样品中铁。 展开更多
关键词 铁镍镀层 分析 铁-镍合金 铁 镍 分光光度法 电沉积 含量测定 玻璃
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三代管MCP离子阻挡膜研究 被引量：11
16
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第12期1496-1499,共4页
三代管中 Ga As光电阴极的表面 Cs- O层经不住正离子的轰击 ,但在 MCP的通道内 ,由于二次电子倍增 ,在 MCP通道的输出端 ,电子密度较大 ,所以 MCP通道内的残余气体分子就会被电离 ,正离子在电场的作用下向阴极方向运动 ,最终轰击阴极的... 三代管中 Ga As光电阴极的表面 Cs- O层经不住正离子的轰击 ,但在 MCP的通道内 ,由于二次电子倍增 ,在 MCP通道的输出端 ,电子密度较大 ,所以 MCP通道内的残余气体分子就会被电离 ,正离子在电场的作用下向阴极方向运动 ,最终轰击阴极的表面 Cs- O层 ,使阴极的灵敏度衰退 .所以在 MCP的输入端制作一层 Al2 O3 离子阻挡膜对延长阴极的寿命是至关重要的作用 .本文介绍了 MCP离子阻挡膜的离子阻挡和电子透射原理 ,离子阻挡膜厚度的确定以及离子阻挡膜的制作工艺 . 展开更多
关键词 GaAs MCP 光电阴极 离子阻挡膜 三代管 砷化镓 电子透射 AL2O3 三氧化二铝
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C/C复合材料比热容和热扩散率的研究 被引量：17
17
作者 赵建国 李克智 +2 位作者 李贺军 席琛 翟言强 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期41-43,共3页
研究了C/C复合材料的比热容、热扩散率及其影响因素。研究表明,C/C复合材料的比热容随着温度的升高而增大,在1 300 K时比热容达到最大值1.8 kJ/(kg.K),之后随着温度的升高,比热容保持恒定;C/C复合材料的热扩散率随着温度的升高而降低,... 研究了C/C复合材料的比热容、热扩散率及其影响因素。研究表明,C/C复合材料的比热容随着温度的升高而增大,在1 300 K时比热容达到最大值1.8 kJ/(kg.K),之后随着温度的升高,比热容保持恒定;C/C复合材料的热扩散率随着温度的升高而降低,碳纤维的取向与热传导方向一致时热扩散率最高;石墨化度高,热扩散率高;C/C复合材料的热扩散率随着材料密度的增加而增大。 展开更多
关键词 C/C复合材料 比热容 热扩散率 石墨化度
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基于反射和透射光谱的氢化非晶硅薄膜厚度及光学常量计算 被引量：12
18
作者 丁文革 苑静 +3 位作者 李文博 李彬 于威 傅广生 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1096-1100,共5页
采用紫外-可见透射光谱仪测量了对靶磁控溅射沉积法制备的氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜的透射光谱和反射光谱.利用T/(1-R)方法来确定薄膜的吸收系数,进而得到薄膜的消光系数;通过拟合薄膜透射光谱干涉极大值和极小值的包络线来确定薄膜折射... 采用紫外-可见透射光谱仪测量了对靶磁控溅射沉积法制备的氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜的透射光谱和反射光谱.利用T/(1-R)方法来确定薄膜的吸收系数,进而得到薄膜的消光系数;通过拟合薄膜透射光谱干涉极大值和极小值的包络线来确定薄膜折射率和厚度的初始值,并利用干涉极值公式进一步优化薄膜的厚度值和折射率;利用柯西公式对得到的薄膜折射率进行拟合,给出了a-Si:H薄膜的色散关系曲线.为了验证该方法确定的薄膜厚度和光学常量的可靠性,将理论计算得到的透射光谱与实验数据进行了比较,结果显示两条曲线基本重合,可见这是确定a-Si:H薄膜厚度及光学常量的一种有效方法. 展开更多
关键词 氢化非晶硅 透射谱 薄膜厚度 光学常量
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磁控溅射CN_x薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系 被引量：8
19
作者 李俊杰 王欣 +4 位作者 卞海蛟 郑伟涛 吕宪义 金曾孙 孙龙 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期305-308,共4页
对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,衬底温度(Ts)保持在350℃,衬底偏压(Vb)在0～-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CN... 对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,衬底温度(Ts)保持在350℃,衬底偏压(Vb)在0～-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CNx薄膜的表面粗糙度及对衬底的附着力。AFM和划痕实验的结果显示衬底偏压Vb对CNx薄膜的附着力和表面粗糙程度的影响很大,在-100V偏压下生长的CNx薄膜表面最光滑(粗糙度最小),同时对Si(001)衬底的附着力最好。最后根据实验结果确定了在单晶Si(001)衬底上生长光滑而且附着力好的CNx薄膜的最佳实验条件。 展开更多
关键词 磁控溅射 CNX薄膜 附着力 粗糙度 衬底偏压 碳氮薄膜 薄膜测量
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探测器孔径大小对衰荡腔测量精度的影响 被引量：16
20
作者 易亨瑜 吕百达 +1 位作者 彭勇 刘盛林 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期231-233,236,共4页
为了研究光腔衰荡光谱法的反射率测量精度 ,分析了腔长失调对衰荡腔模式影响。在此基础上 ,根据高斯光束空间传输表达式 ,推导了在一定腔长失调条件下 ,探测器孔径与衰荡脉冲信号的关系式。并利用数值模拟 ,分析了衰荡腔测量精度与探测... 为了研究光腔衰荡光谱法的反射率测量精度 ,分析了腔长失调对衰荡腔模式影响。在此基础上 ,根据高斯光束空间传输表达式 ,推导了在一定腔长失调条件下 ,探测器孔径与衰荡脉冲信号的关系式。并利用数值模拟 ,分析了衰荡腔测量精度与探测器孔径大小的关系。结果表明 ,探测器孔径越大 ,测量的相对误差越小。 展开更多
关键词 反射率 光腔衰荡 失调 孔径
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