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Cat-CVD方法制备多晶硅薄膜的孕育层控制
1
作者 张玉 荆海 +4 位作者 付国柱 高博 廖燕平 李世伟 黄金英 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期37-41,共5页
采用催化化学气相沉积法(Cat-CVD)制备多晶硅(p-Si)薄膜的初期会形成一层比较厚的非晶硅(a-Si)孕育层。这层孕育层作为p-Si的前驱生长物,给p-Si的晶化提供晶核,同时这层薄膜又存在较多的缺陷,严重影响了p-Si器件的性能。文章采用p-Si的... 采用催化化学气相沉积法(Cat-CVD)制备多晶硅(p-Si)薄膜的初期会形成一层比较厚的非晶硅(a-Si)孕育层。这层孕育层作为p-Si的前驱生长物,给p-Si的晶化提供晶核,同时这层薄膜又存在较多的缺陷,严重影响了p-Si器件的性能。文章采用p-Si的间断生长,对预先沉积的a-Si孕育层进行数分钟的氢原子刻蚀,目的是刻蚀掉有严重缺陷的Si—Si键,保留与晶体硅匹配的Si—Si键,促进晶核形成,抑制孕育层的再生长。经XRD和SEM测试发现,间断p-Si的生长,经若干分钟的H原子处理后多晶硅很快就形成,结晶取向在(111)面上最强,晶粒尺寸平均为80nm。而传统方法连续生长20min的硅薄膜经XRD测试未出现多晶硅特征峰。结果表明,用Cat-CVD制备p-Si薄膜,间断生长过程,用氢原子处理预先沉积的一层a-Si孕育层,可以抑制孕育层的生长,提高了p-Si薄膜的晶化速率。 展开更多
关键词 催化化学气相沉积法 多晶硅薄膜 非晶硅孕育层 氢原子刻蚀 晶核 晶化速率
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MX化合物的红外吸收谱的计算
2
作者 曹江陵 《西南农业大学学报（自然科学版）》 CSCD 北大核心 2005年第2期283-284,共2页
对MX化合物的红外吸收谱进行了理论计算,由此得出在MX化合物的红外吸收谱中具有红外活性的定域模。
关键词 MX化合物 红外吸收谱 计算
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工控机控制的异步电动机变频调速 被引量：1
3
作者 罗文广 吴彤峰 向宇 《广西科学》 CAS 2001年第3期184-185,188,共3页
论述一个汽车水泵工控机测试系统中异步电动机变频调速的方法。变频器运行于外部控制方式 ,控制部分由工控机、相关的板卡和组态软件编制的软件构成。该调速系统构成简洁 ,软件编制简单。运行表明系统稳定可靠 。
关键词 异步电动机 变频调速 工控机 组态软件 汽车 水泵
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寡核苷酸药物
4
作者 沈波 《国外科技》 1992年第1期46-47,共2页
关键词 寡核苷酸 药物 密码阻止子 适应子
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关于LPG汽车燃气钢瓶的设计与制造
5
作者 黄宁 《天然气汽车》 1998年第4期33-36,共4页
关键词 液化石油气汽车 燃气钢瓶 LPG 设计
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