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轴向应变导致柔性电路的裂化研究
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作者 刘虹雯 郭海明 +5 位作者 王业亮 高鸿钧 刘盛 Kamgar A Gleskova H wagner s 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期142-144,共3页
本文研究了在柔性塑料衬底上的均匀的无定形Si和SiNx 薄膜的裂化规律。结果表明 ,在单轴向拉力应变下 ,虽然衬底仍保持完整 ,但是半导体薄膜破裂为直的并行的阵列。当应变大于一个临界值后 ,裂纹的密度成线性增长。
关键词 柔性电路 轴向应变 裂化 半导体薄膜 裂纹宽度 原子力显微镜
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