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同步辐射光刻的X射线反射谱表征
1
作者
杜晓松
Hak S
+2 位作者
Hi
b
ma T
Rogojanu O C
struth b
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2006年第5期368-372,共5页
采用X射线反射(XRR)谱对同步辐射导致的氧化物薄膜的刻蚀进行了在位测试,结果表明波长为0.154nm的单色X光在室温下可对MgO和Cr2O3产生轻微的刻蚀。与文献中大量报道的同步辐射X射线光刻及烧蚀不同,这是单色X射线光刻的首次报道。尽管刻...
采用X射线反射(XRR)谱对同步辐射导致的氧化物薄膜的刻蚀进行了在位测试,结果表明波长为0.154nm的单色X光在室温下可对MgO和Cr2O3产生轻微的刻蚀。与文献中大量报道的同步辐射X射线光刻及烧蚀不同,这是单色X射线光刻的首次报道。尽管刻蚀速率极慢,但利用XRR谱的高分辨率,成功地检测到了膜厚的减薄。
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关键词
同步辐射
光刻
X射线反射谱
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职称材料
题名
同步辐射光刻的X射线反射谱表征
1
作者
杜晓松
Hak S
Hi
b
ma T
Rogojanu O C
struth b
机构
电子科技大学光电信息学院
Material Science Centre
European Synchrotron Radiation Facility
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2006年第5期368-372,共5页
基金
国家出国留学基金(批准号:21851030)
荷兰高等教育国际合作组织(Nuffic)资助项目
文摘
采用X射线反射(XRR)谱对同步辐射导致的氧化物薄膜的刻蚀进行了在位测试,结果表明波长为0.154nm的单色X光在室温下可对MgO和Cr2O3产生轻微的刻蚀。与文献中大量报道的同步辐射X射线光刻及烧蚀不同,这是单色X射线光刻的首次报道。尽管刻蚀速率极慢,但利用XRR谱的高分辨率,成功地检测到了膜厚的减薄。
关键词
同步辐射
光刻
X射线反射谱
Keywords
synchrotron
photolithography
X-ray reflectance spectra
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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出处
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1
同步辐射光刻的X射线反射谱表征
杜晓松
Hak S
Hi
b
ma T
Rogojanu O C
struth b
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2006
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