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MMST硅片清洗
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作者 r.aiienbowling 马宏 《微电子技术》 1995年第3期38-41,共4页
德克萨斯仪器公司（TI）、预研规划局（ARPA）和空军三家联合的微电子制造科学与技术（MMST）工程中，片子清洗工艺的目标是开发平片的全干法或气相清洗工艺，旨在全部地取代湿法清洗工艺。HF气相清洗和等离子工艺已成功地用于氧化物、... 德克萨斯仪器公司（TI）、预研规划局（ARPA）和空军三家联合的微电子制造科学与技术（MMST）工程中，片子清洗工艺的目标是开发平片的全干法或气相清洗工艺，旨在全部地取代湿法清洗工艺。HF气相清洗和等离子工艺已成功地用于氧化物、氮化物和金属化后腐蚀的残余物的去除。但是还未找到用于替代炉前清洗的工业标准（RCA）清洗和水冲洗的有效干法工艺。全干法清洗很可能要再花五到十年才能走向成熟。在未来的几年内，特殊的气相或干法清除工艺将会被用来减少化学品的消耗，并因而降低对这类清洗的化学品清理的要求。 展开更多
关键词 MMST 硅片 清洗 微电子制造科学 微电子技术
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