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22nm技术节点的成品率目标
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作者 Dilip Patel Kye Weon Kim +6 位作者 Doron Arazi John Allgair Benjamin Bunday Milton Godwin Victor Vartanian pete lipscomb Aaron Cordes 《集成电路应用》 2008年第8期26-31,共6页
半导体行业正在开发必要的缺陷量测和薄膜量测解决方案,但22nm技术节点的监测还需开发新的成像套刻目标结构。
关键词 技术节点 成品率 半导体行业 量测 开发 套刻
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