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GaN薄膜的微区Raman散射光谱
被引量:
5
1
作者
童玉珍
张国义
+1 位作者
mings.liu
L.A.Bursill
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第6期554-558,共5页
报道了低压 MOCVD生长的同一 Ga N薄膜不同位置的微区 Raman散射光谱 .观测到了微区结构不完整对 Raman谱的影响 .通过 X射线衍射分析 ,证实了该样品晶体质量是不均匀的 ,而且微结构缺陷的存在是导致回摆曲线展宽的主要原因 .结合 Hall...
报道了低压 MOCVD生长的同一 Ga N薄膜不同位置的微区 Raman散射光谱 .观测到了微区结构不完整对 Raman谱的影响 .通过 X射线衍射分析 ,证实了该样品晶体质量是不均匀的 ,而且微结构缺陷的存在是导致回摆曲线展宽的主要原因 .结合 Hall测量结果 ,对 Ga N薄膜的 Al( L O)模式的移动进行了电声子相互作用分析 ,认为 A1 ( LO)模式的移动可能与电声子相互作用无关 ,而是受内部应力分布不均匀的影响所致 .
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关键词
微区Raman散射光谱
氮化镓
MOCVD
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职称材料
题名
GaN薄膜的微区Raman散射光谱
被引量:
5
1
作者
童玉珍
张国义
mings.liu
L.A.Bursill
机构
北京大学物理系介观物理重点实验室
SchoolofPhysics
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第6期554-558,共5页
基金
国家高技术发展计划"863"-3 0 7主题
国家自然科学基金资助项目!( 6978960 1 )
文摘
报道了低压 MOCVD生长的同一 Ga N薄膜不同位置的微区 Raman散射光谱 .观测到了微区结构不完整对 Raman谱的影响 .通过 X射线衍射分析 ,证实了该样品晶体质量是不均匀的 ,而且微结构缺陷的存在是导致回摆曲线展宽的主要原因 .结合 Hall测量结果 ,对 Ga N薄膜的 Al( L O)模式的移动进行了电声子相互作用分析 ,认为 A1 ( LO)模式的移动可能与电声子相互作用无关 ,而是受内部应力分布不均匀的影响所致 .
关键词
微区Raman散射光谱
氮化镓
MOCVD
Keywords
GaN
micro\|Raman scattering
X-ray diffraction
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
GaN薄膜的微区Raman散射光谱
童玉珍
张国义
mings.liu
L.A.Bursill
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
5
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