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陶瓷基体热喷涂涂层的研究进展
被引量：
2
1
作者
F.-L.Toma
L.-M.Berger
+5 位作者
T.Hoffmann
U.Klotzbach
S.Scheitz
S.Thiele
m.fries
王爱迪
《热喷涂技术》
2013年第3期68-76,共9页
由于表面改性的需要,陶瓷基体对热喷涂涂层方案的需求也在日益增加。根据基体结构和性能的不同,需要开发特殊的基体相关的制备概念。本文展示一些在烧结氮化硅和AlN陶瓷上沉积涂层的概念。使用传统的喷砂工艺处理的基体近表面区域粗糙...
由于表面改性的需要,陶瓷基体对热喷涂涂层方案的需求也在日益增加。根据基体结构和性能的不同,需要开发特殊的基体相关的制备概念。本文展示一些在烧结氮化硅和AlN陶瓷上沉积涂层的概念。使用传统的喷砂工艺处理的基体近表面区域粗糙度低并会带来损害。作为替代方法 ,激光刻蚀被用来改变陶瓷基体的热喷涂表面特性。通过选择适当的激光刻蚀参数和喷涂方法,成功地制备了与陶瓷基体具有良好结合性能的大气等离子喷涂(APS)和悬浮液超音速火焰喷涂(suspension-HVOFAl2O3)涂层。
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关键词
陶瓷基体
喷砂
激光刻蚀
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职称材料
题名
陶瓷基体热喷涂涂层的研究进展
被引量：
2
1
作者
F.-L.Toma
L.-M.Berger
T.Hoffmann
U.Klotzbach
S.Scheitz
S.Thiele
m.fries
王爱迪
机构
Fraunhofer Institute for Material and Beam Technology (IWS)
Dresden University of Technology
Fraunhofer Institute for Ceramic Materials and Systems (IKTS)
出处
《热喷涂技术》
2013年第3期68-76,共9页
文摘
由于表面改性的需要,陶瓷基体对热喷涂涂层方案的需求也在日益增加。根据基体结构和性能的不同,需要开发特殊的基体相关的制备概念。本文展示一些在烧结氮化硅和AlN陶瓷上沉积涂层的概念。使用传统的喷砂工艺处理的基体近表面区域粗糙度低并会带来损害。作为替代方法 ,激光刻蚀被用来改变陶瓷基体的热喷涂表面特性。通过选择适当的激光刻蚀参数和喷涂方法,成功地制备了与陶瓷基体具有良好结合性能的大气等离子喷涂(APS)和悬浮液超音速火焰喷涂(suspension-HVOFAl2O3)涂层。
关键词
陶瓷基体
喷砂
激光刻蚀
Keywords
Ceramic Substrates
Sandblasting
Laser ablation
分类号
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
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作者
出处
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被引量
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1
陶瓷基体热喷涂涂层的研究进展
F.-L.Toma
L.-M.Berger
T.Hoffmann
U.Klotzbach
S.Scheitz
S.Thiele
m.fries
王爱迪
《热喷涂技术》
2013
2
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