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全口径环形抛光的光学元件面形误差影响因素及其控制 被引量:1
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作者 廖德锋 张明壮 +2 位作者 谢瑞清 赵世杰 许乔 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期333-343,共11页
全口径环形抛光是加工大口径平面光学元件的关键技术之一,其瓶颈问题是元件面形的高效高精度控制。通过研究元件面形的影响因素及其控制方法从而提升其确定性控制水平。围绕影响面形误差的运动速度、抛光盘表面形状误差和钝化状态等关... 全口径环形抛光是加工大口径平面光学元件的关键技术之一,其瓶颈问题是元件面形的高效高精度控制。通过研究元件面形的影响因素及其控制方法从而提升其确定性控制水平。围绕影响面形误差的运动速度、抛光盘表面形状误差和钝化状态等关键工艺因素,建立基于运动轨迹有效弧长的环形抛光运动学模型,揭示了抛光盘表面开槽槽型对面形误差的影响规律;提出了采用位移传感器以螺旋路径扫描抛光盘表面并通过插值算法生成其形状误差的方法,建立基于小工具的子口径修正方法,实现了抛光盘形状误差的在位定量修正;提出抛光盘表面钝化状态的监测方法,研究了抛光盘表面钝化状态对面形误差的影响规律。结果表明:抛光盘表面开槽采用环形槽时元件表面容易产生环带特征,采用径向槽、方形槽和螺旋槽时元件表面较为匀滑;通过在位定量检测和修正抛光盘形状误差,可显著提升元件的面形精度;随着抛光盘表面的逐渐钝化,元件面形逐渐恶化。在研制的5 m直径大口径环形抛光机床上加工800 mm×400 mm×100 mm平面元件的面形PV值优于λ/6(λ=632.8 nm),提升了元件的面形控制效率和精度。 展开更多
关键词 光学加工 全口径环形抛光 面形误差 影响规律 控制方法
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大口径强激光光学元件超精密制造技术研究进展 被引量:12
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作者 樊非 徐曦 +13 位作者 许乔 王健 钟波 谢瑞清 雷向阳 陈贤华 汪圣飞 侯晶 邓文辉 安晨辉 周炼 赵世杰 廖德锋 朱玉洁 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2020年第8期1-13,共13页
惯性约束聚变高功率固体激光装置研制对大口径光学元件提出了全频段精度控制指标要求,以及高效率、批量化制造需求。本文围绕“超精密、确定性”强激光光学元件全流程制造方法,总结了近几年大口径强激光光学元件超精密制造技术取得的重... 惯性约束聚变高功率固体激光装置研制对大口径光学元件提出了全频段精度控制指标要求,以及高效率、批量化制造需求。本文围绕“超精密、确定性”强激光光学元件全流程制造方法,总结了近几年大口径强激光光学元件超精密制造技术取得的重要进展,重点介绍了单点金刚石超精密切削技术、非球面超精密数控磨削技术、确定性抛光技术等一系列关键技术,以及相关工艺及装备在强激光光学元件批量制造流程线中的应用情况。 展开更多
关键词 高功率固体激光装置 大口径光学元件 光学超精密制造技术 确定性抛光
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Research on cracking mechanism of the thin shell mould in expendable pattern shell casting during pattern removal process 被引量:3
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作者 Jiang Wenming Fan Zitian +1 位作者 liao defeng Zhao Zhong 《China Foundry》 SCIE CAS 2010年第3期230-235,共6页
Aiming at the cracking phenomenon of the thin shell mould in the expendable pattern shell casting during the pattern removing process, some systemic researches are presented.The influence of the pattern removing metho... Aiming at the cracking phenomenon of the thin shell mould in the expendable pattern shell casting during the pattern removing process, some systemic researches are presented.The influence of the pattern removing method and temperature on the pattern removing were investigated.The shell mould cracking mechanism was analyzed by using thermo-gravimetric analysis (TGA), and combining the temperature field and the volume change of the expanded polystyrene (EPS) foam pattern being tested.The results indicated that the shell mould was not easily cracked when the pattern removing process was carried out with the furnace being heated little by little because of the shell slowly shrinking with dehydration and shell strength gradually increasing.The shell mould was soon destroyed when it was set directly into the furnace at above 400 oC because of the thin shell mould rapidly shrinking and the foam pattern hindering.However, the shell mould had no cracking when it had been preheated for a long time even if the furnace temperature was above 400 oC and the shell was put into the furnace directly.Moreover, when the shell mould was directly set into the furnace at lower temperatures, 250 to 300 ℃, the shell would shrink slowly and the foam pattern would stay at the maximum expansion stage temperature of 100 to 110 ℃ for a long time; and the shell mould would experience an expansion force from the foam pattern for a long time.The expansion force is related to the pattern removing temperature, holding time, foam pattern thickness and density.Therefore, the foam pattern with higher density could make the shell crack. 展开更多
关键词 expendable pattern shell casting pattern removing CRACKING SHRINKAGE expansion force
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光学元件全口径抛光中温度分布对元件面形的影响规律及其控制方法研究 被引量:2
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作者 张飞虎 王乙任 +2 位作者 廖德锋 任乐乐 李琛 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第15期46-54,共9页
大口径平面光学元件,尤其是热膨胀系数较大的材料,极易在全口径抛光中受到温度的影响导致面形精度难以控制。建立抛光过程中光学元件温度场的有限元模型,模拟分析全口径抛光过程中空气、抛光液对元件上下表面的温度分布的影响规律;基于... 大口径平面光学元件,尤其是热膨胀系数较大的材料,极易在全口径抛光中受到温度的影响导致面形精度难以控制。建立抛光过程中光学元件温度场的有限元模型,模拟分析全口径抛光过程中空气、抛光液对元件上下表面的温度分布的影响规律;基于接触力学理论和有限元方法建立光学元件与抛光盘的接触力学模型,分析元件变形对抛光压力分布的影响。基于Preston方程探索压力分布对元件表面材料去除分布和面形精度的影响规律;提出控制元件内温度分布、进而提高元件面形精度的方法。结果表明,对于610 mm口径的K9元件,低频面形PV可以达到0.2λ(1λ=0.6328μm)。 展开更多
关键词 全口径抛光 多物理场 低频面形 光学元件
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