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硼磷硅玻璃在俄歇电子谱分析中的电子束和离子束辐照效应
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作者 陈维德 h.bender 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第5期284-288,共5页
本文研究了硼磷硅玻璃(BPSG)膜在俄歇电子谱(AES)分析中电子束和离子束辐照效应.结果表明,能量电子和离子非常容易引起辐照损伤.电子束辐照会引起还原和脱附效应以及磷硼的表面分凝;离子束辐照仅仅引起还原效应,不会产生磷和硼的表面堆... 本文研究了硼磷硅玻璃(BPSG)膜在俄歇电子谱(AES)分析中电子束和离子束辐照效应.结果表明,能量电子和离子非常容易引起辐照损伤.电子束辐照会引起还原和脱附效应以及磷硼的表面分凝;离子束辐照仅仅引起还原效应,不会产生磷和硼的表面堆积现象.这说明磷和硼的表面分凝是与低能电子组成的表面负电荷有关. 展开更多
关键词 硼磷硅玻璃 AES 电子束 离子束
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氮化硅和氮氧化硅在俄歇电子谱分析中的电子束和离子束辐照效应
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作者 陈维德 h.bender H.E.Maes 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第6期441-447,共7页
本文观察和测量了Si_3N_4和SiO_xN_y薄膜在俄歇电子谱(AES)分析中的电子束和离子束效应。结果表明在高束流密度电子束辐照下没有观察到任何损伤特征峰。延长辐照时间仅导致氧的解吸和Si、N讯号增加,最后达到一个稳定态。Si_3N_4和SiO_x... 本文观察和测量了Si_3N_4和SiO_xN_y薄膜在俄歇电子谱(AES)分析中的电子束和离子束效应。结果表明在高束流密度电子束辐照下没有观察到任何损伤特征峰。延长辐照时间仅导致氧的解吸和Si、N讯号增加,最后达到一个稳定态。Si_3N_4和SiO_xN_y对离子辐照很容易造成损伤。但在高束流密度的电子束辐照下离子损伤的表面可以恢复。恢复程度与电子束流密度、束能、辐照时间和样品制备工艺有关。最后,本文对离子辐照损伤和恢复的机理进行了讨论。 展开更多
关键词 俄歇电子谱 氮化硅 氮氧化硅 辐照
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SiO_2/Si_3N_4/SiO_2/Si多层结构绝缘材料在俄歇分析中的电子束和离子束辐照效应
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作者 陈维德 h.bender 《真空科学与技术》 CSCD 1992年第5期408-412,共5页
在SiO_2/Si_3N_4/SiO_2/Si多层绝缘材料的俄歇分析中往往给出一个错误结果,即在SiO_2/Si界面处产生一厚度为数nm的附加富氮层。研究结果表明,该层的产生是由电子束和离子束辐照引入。减少电子束流密度会使这一附加层厚度减少甚至完全消... 在SiO_2/Si_3N_4/SiO_2/Si多层绝缘材料的俄歇分析中往往给出一个错误结果,即在SiO_2/Si界面处产生一厚度为数nm的附加富氮层。研究结果表明,该层的产生是由电子束和离子束辐照引入。减少电子束流密度会使这一附加层厚度减少甚至完全消失。最后,对这一电子束和离子束效应引起氮界面堆积的产生和消除进行了讨论。 展开更多
关键词 硅化合物 绝缘材料 电子束 离子束
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Porous Structures and Short-Wavelength Photoluminescence of C^(+)-Implanted SiO_(2) Films
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作者 ZHAO Jun MAO Dong-sheng +7 位作者 DING Xing-zhao LIN Zi-xin JIANG Bing-yao YU Yue-hui YANG Gen-qing LIU Xiang-huai S.Jin h.bender 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1999年第5期361-363,共3页
C ions of three different energies were sequentially implanted into SiO_(2) films grown by plasma enhanced chemical vapor deposition.Microstructures of the samples were studied with transmission electron microscopy(TE... C ions of three different energies were sequentially implanted into SiO_(2) films grown by plasma enhanced chemical vapor deposition.Microstructures of the samples were studied with transmission electron microscopy(TEM)and secondary ion mass spectroscopy As revealed by cross-sectional TEM,porous structures had been created in the implanted region during ion implantation.No photoluminescence(PL)was detected from the as-implanted samples.However,intense short-wavelength PL peaking at 360-370nm and ~450nm was observed from the annealed samples.The blue light from samples excited by an Xe lamp can be observed by naked eyes at room temperature.The light emission mechanisms are briefly discussed. 展开更多
关键词 temperature. deposition. sectional
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