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非晶硅TFT强光稳定性的研究及改善
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作者 张亚军 叶发科 +2 位作者 陆磊 Simon Han gilbert seo 《现代信息科技》 2022年第2期43-47,共5页
随着显示产业的迅猛发展,大尺寸、宽色域、高动态范围(HDR)和高亮度给薄膜晶体管(TFT)面板带来了更大的挑战。经过测试,在40000 nit高亮度背光照明下,经过500小时照明,面板的充电能力衰减幅度高达13%。其机理与TFT结构密切相关,如栅极... 随着显示产业的迅猛发展,大尺寸、宽色域、高动态范围(HDR)和高亮度给薄膜晶体管(TFT)面板带来了更大的挑战。经过测试,在40000 nit高亮度背光照明下,经过500小时照明,面板的充电能力衰减幅度高达13%。其机理与TFT结构密切相关,如栅极的功函数和栅极绝缘层(GI)的光学带隙(E_(g))。经研究,通过将GI层光学带隙从4.1 eV提升到4.7 eV,高亮度应力下衰减幅度从13%改善到了1%以下。 展开更多
关键词 LCD a-Si TFT PECVD 高亮度
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