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非晶硅TFT强光稳定性的研究及改善
1
作者
张亚军
叶发科
+2 位作者
陆磊
Simon Han
gilbert seo
《现代信息科技》
2022年第2期43-47,共5页
随着显示产业的迅猛发展,大尺寸、宽色域、高动态范围(HDR)和高亮度给薄膜晶体管(TFT)面板带来了更大的挑战。经过测试,在40000 nit高亮度背光照明下,经过500小时照明,面板的充电能力衰减幅度高达13%。其机理与TFT结构密切相关,如栅极...
随着显示产业的迅猛发展,大尺寸、宽色域、高动态范围(HDR)和高亮度给薄膜晶体管(TFT)面板带来了更大的挑战。经过测试,在40000 nit高亮度背光照明下,经过500小时照明,面板的充电能力衰减幅度高达13%。其机理与TFT结构密切相关,如栅极的功函数和栅极绝缘层(GI)的光学带隙(E_(g))。经研究,通过将GI层光学带隙从4.1 eV提升到4.7 eV,高亮度应力下衰减幅度从13%改善到了1%以下。
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关键词
LCD
a-Si
TFT
PECVD
高亮度
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题名
非晶硅TFT强光稳定性的研究及改善
1
作者
张亚军
叶发科
陆磊
Simon Han
gilbert seo
机构
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
北京大学深圳研究生院
出处
《现代信息科技》
2022年第2期43-47,共5页
基金
深圳基础研究项目(JCYJ20200109140601691)
深港联合-协同创新专项(SGDX20190918105001787)。
文摘
随着显示产业的迅猛发展,大尺寸、宽色域、高动态范围(HDR)和高亮度给薄膜晶体管(TFT)面板带来了更大的挑战。经过测试,在40000 nit高亮度背光照明下,经过500小时照明,面板的充电能力衰减幅度高达13%。其机理与TFT结构密切相关,如栅极的功函数和栅极绝缘层(GI)的光学带隙(E_(g))。经研究,通过将GI层光学带隙从4.1 eV提升到4.7 eV,高亮度应力下衰减幅度从13%改善到了1%以下。
关键词
LCD
a-Si
TFT
PECVD
高亮度
Keywords
LCD
a-Si TFT
PECVD
high-brightness
分类号
TN141 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
非晶硅TFT强光稳定性的研究及改善
张亚军
叶发科
陆磊
Simon Han
gilbert seo
《现代信息科技》
2022
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