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用RF/DC Move Mag法淀积的彩色滤光用低电阻率ITO薄膜 被引量：1
1
作者 H.Frankenberger c.daube +3 位作者 J.Stollenwerk M.Bender A.Koppel F.Wette 《液晶与显示》 CAS CSCD 1998年第2期123-127,共5页
对ＭｏｖｅＭａｇ阴极（旨在提高靶利用率）叠加ＲＦ的ＤＣ磁控溅射方法所淀积的低电阻率ＩＴＯ膜的结果进行了讨论。实验是在一个串级溅射系统ＡＲＩＳＴＯ５００Ｓ上进行的，可用基片面积高达５７０×１３５０ｍｍ２，在基片温度... 对ＭｏｖｅＭａｇ阴极（旨在提高靶利用率）叠加ＲＦ的ＤＣ磁控溅射方法所淀积的低电阻率ＩＴＯ膜的结果进行了讨论。实验是在一个串级溅射系统ＡＲＩＳＴＯ５００Ｓ上进行的，可用基片面积高达５７０×１３５０ｍｍ２，在基片温度２００℃及靶利用率高于４０％的条件下，在玻璃（浮法玻璃）上得到电阻率小于１５０μΩｃｍ的ＩＴＯ薄膜。 展开更多
关键词 MOVE Mag阴极 电阻率 ITO薄膜 彩色滤光材料 DC磁控溅射 淀积 低电阻率ITO薄膜 ARISTO500S
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用于PDP应用的高速MgO溅射源
2
作者 c.daube H.Frankenberger 等 《液晶与显示》 CAS CSCD 1998年第2期132-135,共4页
ＢＰＳ研制出一种用于ＰＤＰ应用的新型高速ＭｇＯ溅射源。该溅射源与现有的用于大批量生产的立式串级系统完全兼容。工艺过程是基于在金属镁靶上进行的全反应。此装置采用特殊设计，可解决低附着率以及由于靶电弧所引起的工艺不稳定等... ＢＰＳ研制出一种用于ＰＤＰ应用的新型高速ＭｇＯ溅射源。该溅射源与现有的用于大批量生产的立式串级系统完全兼容。工艺过程是基于在金属镁靶上进行的全反应。此装置采用特殊设计，可解决低附着率以及由于靶电弧所引起的工艺不稳定等问题。本文还进一步讨论了表面拓朴学，溅射阻力以及其它有影响的参数。 展开更多
关键词 气流溅射源 淀积率 溅射 PDP 等离子显示板 薄膜技术 MgO膜 金属镁靶 表面拓朴学
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