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流动注射冷蒸气发生并预富集在涂层石墨管中的ETAAS法测 …
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作者 barr.,pb 米瑞华 《国外分析仪器技术与应用》 1998年第3期56-59,共4页
本文介绍了一种用ＮａＢＨ４和ＳｎＣｌ２做还原剂，冷蒸气发生并在石墨炉中捕集及原子化以测定天然水中微量总汞和无机汞的方法。用Ｉｒ，Ｗ和Ｚｒ涂层石墨管预事集汞蒸气，０．４Ｍ的ＨＣｌ做载液，０．２％的ＮａＢＨ４和０．１％Ｓ... 本文介绍了一种用ＮａＢＨ４和ＳｎＣｌ２做还原剂，冷蒸气发生并在石墨炉中捕集及原子化以测定天然水中微量总汞和无机汞的方法。用Ｉｒ，Ｗ和Ｚｒ涂层石墨管预事集汞蒸气，０．４Ｍ的ＨＣｌ做载液，０．２％的ＮａＢＨ４和０．１％ＳｎＣｌ２分别还原总汞和无机汞。用Ｉｒ涂层石墨管测定时，总汞和无机汞的特征的质量分别是３００和２４０ｐｇ；试样体积为１５００μｌ时。检出限分别为９０和６０ｎｇＬ＾－１；精密度在０．７％－ 展开更多
关键词 流动注射 ETAAS 汞分析 海水 污染物质分析
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