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新型复合纳米压印膜结构的研究
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作者 杨志伟 asim abas +2 位作者 张雪陶 曹元勋 张杰 《功能材料与器件学报》 CAS 2024年第3期153-157,共5页
本研究提出了一种新型复合纳米压印膜结构,以三明治结构为基础,采用弹性硅胶将柔性非扩张平面基底包裹。工艺包括在图形基板涂覆液态硅胶并固化,精准放置柔性非扩张平面基底,最后涂覆一层硅胶,形成硅胶压印区/柔性基底/硅胶保护区的三... 本研究提出了一种新型复合纳米压印膜结构,以三明治结构为基础,采用弹性硅胶将柔性非扩张平面基底包裹。工艺包括在图形基板涂覆液态硅胶并固化,精准放置柔性非扩张平面基底,最后涂覆一层硅胶,形成硅胶压印区/柔性基底/硅胶保护区的三明治结构。该技术解决了单一柔性材料难以剥离和弹性材料压印过程中扩张现象导致的线宽波动问题。 展开更多
关键词 复合纳米压印膜 三明治结构 非扩张平面基底 线宽波动
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蓝宝石衬底在氮化镓外延生长技术中的应用进展 被引量:1
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作者 杨志伟 asim abas 《山东工业技术》 2024年第3期33-40,共8页
第三代半导体技术主要涉及宽禁带半导体材料,其中氮化镓(GaN)材料因其卓越的电学和热学性能而受到广泛关注,特别是它们在高温、高功率和高频率环境下的应用潜力。在这一研究领域中,蓝宝石衬底(α-Al_(2)O_(3))主要为单晶氧化铝材料,其... 第三代半导体技术主要涉及宽禁带半导体材料,其中氮化镓(GaN)材料因其卓越的电学和热学性能而受到广泛关注,特别是它们在高温、高功率和高频率环境下的应用潜力。在这一研究领域中,蓝宝石衬底(α-Al_(2)O_(3))主要为单晶氧化铝材料,其主要作为基板材料应用于氮化镓(GaN)外延生长技术中。蓝宝石衬底在提高GaN薄膜质量的同时,也为高性能第三代半导体器件的制造提供关键支持。本文就蓝宝石衬底的加工工艺、应用领域及面临的挑战进行进一步阐述。 展开更多
关键词 宽禁带 蓝宝石衬底 单晶氧化铝 氮化镓 外延生长
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